JP4848556B2 - 洗浄用超音波振動子 - Google Patents

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本発明は、半導体ウエハ、液晶硝子基板等の被洗浄物のエッジを洗浄するようにした洗浄用超音波振動子に関するものである。
従来の超音波洗浄装置としては、図3に示すように、ノズル1に装着した洗浄液供給管2からノズル1の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器からリード線3を介してノズル1内の超音波振動子に発振出力を供給することにより、回転する半導体ウエハのような被洗浄物5の上にノズル1から洗浄液4が供給されるとともに、この洗浄液4に超音波振動子からの超音波を乗せて被洗浄物5に照射して洗浄するようにした洗浄装置が提案されている。
又、図4に示すように、超音波発生部6の下面に超音波振動子(図示せず)が装着され、超音波振動子は超音波発生部6の上部に装着したコネクタ7に電気的に接続され、このコネクタ7にケーブル8を介して超音波発振器9から発振出力が供給され、さらに、超音波発生部6の超音波振動子と対向して半導体ウエハのような被洗浄物5が微小間隙を設けて保持され、超音波発生部6の両側に洗浄液供給装置11から洗浄液が供給されるノズル10が装着され、このノズル10から供給された洗浄液は超音波振動子と被洗浄物5の間隙に流入して、超音波振動子から照射された超音波によって被洗浄物5の表面を洗浄するようにした超音波洗浄装置が提案されている。
しかしながら、このような超音波洗浄装置では、超音波が照射される被洗浄物5の平面部は十分に洗浄されるが、表面で除去された汚れが洗浄液とともに流れ、被洗浄物5のエッジやノッチ部に引っ掛かってしまうという欠点があり、又、このような流水式の超音波洗浄装置で、流水をこのエッジ部に集中して洗浄しても、エッジ部の汚れが取れないという問題があった。
特願2000−369490
解決しようとする問題点は、従来の超音波洗浄装置では、被洗浄物の平面部で洗浄した汚れが洗浄液とともに流れて、被洗浄物のエッジ及びノッチの部分に引っ掛かるという点である。
本発明では、一端に圧電素子を装着する石英で構成する取付端部と、該取付端部から伸びる棒状の石英で構成する振動伝達体と、該振動伝達体の前記取付端部に対向した端部に形成された傾斜面と、前記取付端部と前記傾斜面との間の振動伝達体の側部に形成され、前記圧電素子から照射された前記振動伝達体中を伝播する超音波の前記振動伝達体中における収束位置より前記傾斜面に近い位置の前記振動伝達体の側面に形成した切り込み部とからなり、該切り込み部に被洗浄物のエッジを挿入し、前記被洗浄物のエッジ近傍に洗浄液を供給して、前記圧電素子から供給された前記超音波を前記切り込み部に供給して、前記切り込み部に流れ込んだ前記洗浄液に照射することにより、前記被洗浄物のエッジを洗浄するものであり、又、前記振動伝達体の傾斜面は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から0度〜45度の範囲で傾斜しているものであり、さらに、前記振動伝達体及び取付端部は石英で構成するものである。
本発明の超音波洗浄装置では、振動伝達体の側部に形成した切り込み部を被洗浄物のエッジと微小間隙を開けて装着し、振動伝達体の端部に接着した超音波振動子を駆動し、被洗浄物のエッジ近傍に装着された洗浄液供給部から供給される洗浄液に、振動伝達体の切り込み部から超音波を被洗浄物のエッジに照射することにより、被洗浄物のエッジを洗浄することができるという利点がある。
図1は本発明の実施例の洗浄用超音波振動子の側面図で、振動伝達体12の一端に圧電素子13を装着する取付端部14が形成され、振動伝達体12の他端の端部12aから対向する端部12bにかけて取付端部14の面と平行な面から0度〜45度の範囲で傾斜された傾斜面15が形成され、振動伝達体12の傾斜面15の端部12aと取付端部の間に切り込み16を形成し、振動伝達体の傾斜面15は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から0度〜45度の範囲で傾斜され、圧電素子13の超音波Aは切り込み部の上側の面に伝達され、超音波Bは切り込み部の上側の面に伝達せず、切り込み部16を通過した超音波が傾斜面15で反射して切り込み部16の下側の面に伝播するように、切り込み部16の距離及び傾斜部の角度を適宜設定している。
このように構成された本実施例の洗浄用超音波振動子では、図2に示すように、被洗浄物17のエッジ17aを振動伝達体12の切り込み部15の間に微小間隔を開けて装着し、洗浄液供給部18から洗浄液19が供給することにより、洗浄液19が被洗浄物17のエッジ17aと振動伝達体12の切り込み部16の間に注入され、ここで、圧電素子13を駆動すると、超音波Aは圧電素子13から振動伝達体12を通って切り込み部16の上側の面16aに伝播するとともに、圧電素子13から照射された超音波Bは傾斜面14で反射され、切り込み部16の下側の面16bに照射され、それによって、被洗浄物17のエッジ17aが洗浄され、又、この洗浄によって除去された汚れは洗浄液19とともに、被洗浄物17と切り込み部16の間を通って被洗浄物17の下側に落下するように構成されている。
本実施例の超音波洗浄装置では、このように、振動伝達体12の側部に切り込み部16を形成し、この切り込み部16と被洗浄物17のエッジ17aの間に微小間隙を開けて挟持することにより、この切り込み部16に集中して発生される超音波と洗浄液供給部18から供給される洗浄液19とにより、被洗浄物17のエッジ17aに付着する汚れを効果的に速やかに除去することができる。
なお、上記実施例では、被洗浄物17が半導体で構成されているので、その場合は、振動伝達体12は石英で構成する。
本発明の実施例の超音波洗浄装置の斜視図である。 図1の洗浄用超音波振動子を使用した超音波洗浄装置の構成図である。 従来の超音波洗浄装置の斜視図である。 従来の他の超音波洗浄装置の斜視図である。
12 振動伝達体
13 圧電体振動子
14 取付端部
15 傾斜面
16 切り込み部
17 被洗浄物
18 洗浄液供給部
19 洗浄液

Claims (2)

  1. 一端に圧電素子を装着する石英で構成する取付端部と、該取付端部から伸びる棒状の石英で構成する振動伝達体と、該振動伝達体の前記取付端部に対向した端部に形成された傾斜面と、前記取付端部と前記傾斜面との間の振動伝達体の側部に形成され、前記圧電素子から照射された前記振動伝達体中を伝播する超音波の前記振動伝達体中における収束位置より前記傾斜面に近い位置の前記振動伝達体の側面に形成した切り込み部とからなり、該切り込み部に被洗浄物のエッジを挿入し、前記被洗浄物のエッジ近傍に洗浄液を供給して、前記圧電素子から供給された前記超音波を前記切り込み部に供給して、前記切り込み部に流れ込んだ前記洗浄液に照射することにより、前記被洗浄物のエッジを洗浄することを特徴とする洗浄用超音波振動子。
  2. 前記振動伝達体の傾斜面は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から0度〜45度の範囲で傾斜していることを特徴とする請求項1記載の洗浄用超音波振動子。
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