JP4847836B2 - ウェハの製造方法 - Google Patents

ウェハの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4847836B2
JP4847836B2 JP2006267235A JP2006267235A JP4847836B2 JP 4847836 B2 JP4847836 B2 JP 4847836B2 JP 2006267235 A JP2006267235 A JP 2006267235A JP 2006267235 A JP2006267235 A JP 2006267235A JP 4847836 B2 JP4847836 B2 JP 4847836B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
block
block body
crystal
cut
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006267235A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008087980A (ja
Inventor
宏明 赤川
克己 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Crystal Device Corp
Original Assignee
Kyocera Crystal Device Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Crystal Device Corp filed Critical Kyocera Crystal Device Corp
Priority to JP2006267235A priority Critical patent/JP4847836B2/ja
Publication of JP2008087980A publication Critical patent/JP2008087980A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4847836B2 publication Critical patent/JP4847836B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本発明は、ウェハの製造方法に関する。
従来から、電子デバイス等に用いられる部品の製造は、1枚のウェハに複数の素子又は部品を形成し、その後、個片に分割することにより行われる場合がある。
例えば、電子デバイスの部品を水晶片とすると、この水晶片は、水晶からなるウェハに複数の水晶片を形成し、折り取り、ダイシングやレーザー切断などの手法を用いて個片にされることで形成される。
ここで、ウェハは、例えば、育成されたアズグロウン人工水晶をランバート加工し、所定のカットアングルでかつ所定の厚さで板状にスライスされて形成される。
このウェハの大きさは、育成された人工水晶の大きさに依存する。そして人工水晶は、育成速度や育成期間などにより育成できる大きさに限界がある。したがって、従来より用いられるウェハの大きさは、例えば、最大で1辺が4インチ以下のものとなっていた。
特開2000−264786号公報(段落0020〜0027)
しかしながら、ウェハの面積を大きくしようとする場合、種水晶を大きくしたり人工水晶の育成のための期間を長くする等の必要がある。
例えば、種水晶を大きくすると、結晶育成に用いる圧力容器内に装架できる数が少なくなる。そのため、育成期間を長くして種水晶から大きな人工水晶を得ることが考えられるが、育成期間を長くすると生産性が悪くなるという問題がある。
また、人工水晶以外の他の結晶体において、育成後の結晶状態でウェハを製造する場合に、ウェハを大きく形成しようとすれば育成する結晶体を大きくしなければならないため、結晶体の育成に手間がかかり、結晶体の生産性が悪くなってしまう。
これにより、人工水晶(結晶体)の生産性が悪くなると、電子デバイス等に用いられる部品の生産性も悪くなるという問題がある。
そこで、本発明は、前記した問題を解決し、電子デバイス等に用いられる部品の生産性を向上させるウェハの製造方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明は、長さ方向を向く断面の形状が矩形形状となるように加工されたランバード人工水晶からなる複数のブロック体を積み重ねつつ並べた状態で、隣り合う前記ブロック体を紫外線硬化性接着剤により接合するブロック体接合工程と、接合された前記複数のブロック体を、前記ブロック体の幅方向に対し所定の角度で一括に切断して、所定の厚さのウェハを複数形成する切断工程と、から構成されることを特徴とする。
また、本発明は、前記ブロック体がランバードY棒水晶であり、X軸方向で隣り合っている前記ブロック体において、一方の前記ブロック体の+X面と他方の前記ブロック体の−X面とが向かい合うように接合されることを特徴とする。
このようなウェハの製造方法によれば、従来から用いられているウェハよりも表面積を大きくすることができる。このため、このウェハに形成できる部品の数が増大するので、電子デバイス等に用いられる部品の生産性を向上させることができる。
次に、本発明を実施するための最良の形態(以下、「実施形態」という。)について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各実施形態について同一の構成要素については同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、結晶体を人工水晶として説明する。
(第一の実施形態)
図1(a)は断面を矩形形状にする前の状態のブロック体の一例を示す斜視図であり、図1(b)は断面を矩形形状にした状態のブロック体の一例を示す斜視図である。図2はブロック体を接合した状態を示す斜視図である。図3は、ウェハの一例を示す図である。
本発明の第一の実施形態に係るウェハの製造方法は、ブロック体1(図1参照)としてアズグロウン人工水晶にランバート加工を施したランバート人工水晶を用い、このブロック体1を積み重ねつつ並べた状態で接合し(図2参照)、接合された複数のブロック体1,1・・・の外周を切断してウェハ10(図3参照)を得る。このようなウェハ10の製造方法について詳細に説明する。
ブロック体1は、例えば、図1に示すように、結晶体であるランバート人工水晶としてランバートY棒水晶が用いられ、長さ方向を向く断面1Cの形状が矩形形状となるように加工されている。この場合、ブロック体1の結晶軸は、平面視において長辺方向がY軸、短辺方向がZ軸、Y軸とZ軸とで形成される平面と直交する方向がX軸となる。つまり、X軸は厚さ方向であり、Y軸は長さ方向であり、Z軸は幅方向となる。
なお、ブロック体1のX軸には−X方向と+X方向の方向性がある。ブロック体1の−X方向を向く面を−X面1B、ブロック体の+X方向を向く面を+X面1Aとする。したがって、アズグロウン人工水晶にランバード加工を行う前に、このアズグロウン人工水晶に−X方向又は+X方向のいずれかをマーキングしておくと良い。
このように形成されるブロック体1は、図2に示すように、積み重ねつつ並べられて接合される(ブロック体接合工程、図2参照)。このとき、一方のブロック体1の+X面1Aと他方のブロック体の−X面1Bとが向かい合うように接合する。
このように、一方のブロック体1の+X面1Aと他方のブロック体の−X面1Bとを向かい合わせて接合することによって、電子デバイス等に用いられる部品として圧電振動片をウェハから製造する場合、ウェハのどの位置で形成しても種々の特性が許容範囲内に収まるため、歩留まりを向上させることができる。
また、ブロック体1,1同士の接合には接着剤Sを用いる。例えば、接着剤Sとして紫外線硬化性接着剤を用いることができる。一方のブロック体1の表面にこの紫外線硬化性接着剤を塗布し、この紫外線硬化性接着剤と接触するように他のブロック体1を積み重ねる。この状態で紫外線ランプ(図示せず)を接着箇所に照射する。これによって早期にブロック体1,1同士を接着させることができる。
なお、ブロック体1の接合は、積み重ねてから接合しても良いし、並べてから接合させても良い。
このようにして複数のブロック体1,1・・・を接合した状態において、接合されたブロック体1,1・・・の外周を切断して所定の厚さのウェハ10を形成する(切断工程、図2及び図3参照)。例えば、ブロック体1の厚さ方向及び幅方向を含む外周で切断しても良いし、ATカットとなるカットアングルで切断しても良い(図2参照)。
なお、切断には、従来周知のワイヤーソウやバンドソウを用いることができる。
このようにウェハの製造方法を構成することにより、容易な方法で従来よりも大きな表面積となるウェハ10を得ることができる。したがって、このウェハ10に形成できる部品の数が増大するので、電子デバイス等に用いられる部品の生産性を向上させることができる。
次に、このウェハの使用方法について説明する。
このようなウェハ10には、接合箇所が存在するために、その接合箇所に電子デバイス等に用いられる部品が形成されてもこの部品は使用することはできない。しかしながら、従来のウェハに比べて利用できる面積は増えているため、生産性を向上させることができる。例えば、ウェハ10に電子デバイス等に用いられる部品を形成する場合、「枠」となる部分が必ず生じる。したがって、この枠の部分が従来に比べて少ないために利用できる面積が増えることとなり、形成できる部品の数を増やすことができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態には限定されない。例えば、ランバートY棒水晶に代えてランバートZ板水晶を用いても良いし、水晶の他に人工的に育成される結晶体を用いても良い。
また、切断は、結晶体が水晶の場合、ATカット、SCカット、BTカット、CTカット、GTカット、Xカット、Zカット等のカットアングルであっても良い。
なお、切断する角度に対応してブロック体を所定の寸法で形成しておくことで、各辺の長さが同じとなるウェハを得ることができる。
(a)は断面を矩形形状にする前の状態のブロック体の一例を示す斜視図であり、(b)は断面を矩形形状にした状態のブロック体の一例を示す斜視図である。 ブロック体を接合した状態を示す斜視図である。 ウェハの一例を示す図である。
符号の説明
10 ウェハ
1 ブロック体
1A +X面
1B −X面
1C 長さ方向を向く断面
S 接着剤

Claims (2)

  1. 長さ方向を向く断面の形状が矩形形状となるように加工されたランバード人工水晶からなる複数のブロック体を積み重ねつつ並べた状態で、隣り合う前記ブロック体を紫外線硬化性接着剤により接合するブロック体接合工程と、
    接合された前記複数のブロック体を、前記ブロック体の幅方向に対し所定の角度で一括に切断して、所定の厚さのウェハを複数形成する切断工程と、
    から構成されることを特徴とするウェハの製造方法。
  2. 前記ブロック体がランバードY棒水晶であり、X軸方向で隣り合っている前記ブロック体において、一方の前記ブロック体の+X面と他方の前記ブロック体の−X面とが向かい合うように接合されることを特徴とする請求項1に記載のウェハの製造方法。
JP2006267235A 2006-09-29 2006-09-29 ウェハの製造方法 Expired - Fee Related JP4847836B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006267235A JP4847836B2 (ja) 2006-09-29 2006-09-29 ウェハの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006267235A JP4847836B2 (ja) 2006-09-29 2006-09-29 ウェハの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008087980A JP2008087980A (ja) 2008-04-17
JP4847836B2 true JP4847836B2 (ja) 2011-12-28

Family

ID=39372509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006267235A Expired - Fee Related JP4847836B2 (ja) 2006-09-29 2006-09-29 ウェハの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4847836B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2939151A1 (fr) * 2008-12-01 2010-06-04 Soitec Silicon On Insulator Lingots formes d'au moins deux lingots elementaires, un procede de fabrication et une plaquette qui en est issue
JP2013115534A (ja) * 2011-11-28 2013-06-10 Seiko Epson Corp 単結晶ウェハーの製造方法、単結晶ウェハー、振動素子、及び圧電デバイス

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07101679B2 (ja) * 1988-11-01 1995-11-01 三菱電機株式会社 電子デバイス用ウエハ,ウエハ用棒状基材および電子デバイス
JPH05279190A (ja) * 1992-03-31 1993-10-26 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 人工水晶およびその製造方法
JP3670877B2 (ja) * 1999-03-16 2005-07-13 日本電波工業株式会社 人工水晶の製造方法及びこれによる人工水晶並びに水晶ウェハ
JP3670886B2 (ja) * 1999-05-14 2005-07-13 日本電波工業株式会社 人工水晶の育成方法及びこれによる水晶板

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008087980A (ja) 2008-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4435758B2 (ja) 水晶片の製造方法
JP2008147412A (ja) 半導体ウェハ,半導体装置及び半導体ウェハの製造方法ならびに半導体装置の製造方法
JP4847836B2 (ja) ウェハの製造方法
US8732923B2 (en) Method for manufacturing acoustic wave device
JP5458651B2 (ja) 弾性表面波素子用基板及び弾性表面波素子の製造方法
US8429800B2 (en) Methods for manufacturing piezoelectric vibrating pieces
CN104064671B (zh) 超声换能器阵列的隐形切割
EP3453481B1 (en) Method of manufacturing a light emitting element
US10516382B2 (en) Piezoelectric vibration member, method of manufacturing the same, and piezoelectric vibrator
JP2011151186A (ja) 半導体ウェーハの分割方法
JP2008113382A (ja) 圧電振動子の製造方法、圧電振動子及び電子部品
JP5515679B2 (ja) 基板のダイシング方法
US8161608B2 (en) Method of manufacturing quartz-crystal resonator
KR102539062B1 (ko) 발광소자의 제조 방법
CN111863612A (zh) 晶片的分割方法和分割装置
JP4818076B2 (ja) 多角形半導体チップの製造方法および製造装置
JP2010141085A (ja) 積層製品の製造方法
JP2017528012A (ja) 片面凸構造を有する圧電石英チップ
JP2002246334A (ja) 半導体チップの製造方法および半導体ウエハ
JP2007150923A (ja) 圧電ウェハ
JP2016174328A5 (ja)
JP2015050616A (ja) 水晶ウェハ
JP6629086B2 (ja) 積層ウェーハの分割方法
JP6466195B2 (ja) Iii族窒化物半導体基板およびiii族窒化物半導体基板の製造方法
JP2010219505A (ja) ガラス封止型パッケージの製造方法およびガラス基板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110329

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110530

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111011

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111014

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4847836

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021

Year of fee payment: 3

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees