JP4805656B2 - マルチビームクライストロン装置 - Google Patents
マルチビームクライストロン装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4805656B2 JP4805656B2 JP2005317122A JP2005317122A JP4805656B2 JP 4805656 B2 JP4805656 B2 JP 4805656B2 JP 2005317122 A JP2005317122 A JP 2005317122A JP 2005317122 A JP2005317122 A JP 2005317122A JP 4805656 B2 JP4805656 B2 JP 4805656B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- unit
- electron gun
- electron
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J23/00—Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
- H01J23/02—Electrodes; Magnetic control means; Screens
- H01J23/08—Focusing arrangements, e.g. for concentrating stream of electrons, for preventing spreading of stream
- H01J23/087—Magnetic focusing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J23/00—Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
- H01J23/02—Electrodes; Magnetic control means; Screens
- H01J23/06—Electron or ion guns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J25/00—Transit-time tubes, e.g. klystrons, travelling-wave tubes, magnetrons
- H01J25/02—Tubes with electron stream modulated in velocity or density in a modulator zone and thereafter giving up energy in an inducing zone, the zones being associated with one or more resonators
- H01J25/10—Klystrons, i.e. tubes having two or more resonators, without reflection of the electron stream, and in which the stream is modulated mainly by velocity in the zone of the input resonator
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Microwave Tubes (AREA)
Description
これら各コイル44,45,47およびマッチング磁石46の外周に外周磁極48が配置され、内側にリターンフレームである内周磁極49が配置され、外周磁極48の軸方向の両端、主コイル44の両端であって横磁界補正コイル45の外側および2個のマッチング磁石46の間に複数の円盤磁極であるポールピース50がそれぞれ配置されている。外周磁極48、内周磁極49および各ポールピース50は、磁性体で形成され、各コイル44,45,47およびマッチング磁石46の磁界を内側に発生させている。
13 集束磁界装置
18 電子銃部
19 高周波相互作用部
20 入力部
21 出力部
22 コレクタ部
41 電子銃部側磁界発生部
44 主磁界発生素子としての主コイル
46 補正用磁界発生素子としてのマッチング磁石
52,52a,52b 電子銃部側磁界発生素子としてのバッキング磁石
53 磁極としての電子銃部側磁極
54,55 磁気間隙
Claims (4)
- 複数の電子ビームを発生する電子銃部と、
高周波電力を入力する入力部と、
前記電子銃部で発生した電子ビームと高周波電界との相互作用により前記入力部から入力された高周波電力を増幅する高周波相互作用部と、
前記高周波相互作用部から高周波電力を出力する出力部と、
前記高周波相互作用部を通過する電子ビームを捕集するコレクタ部と、
前記電子銃部の周囲に位置する電子銃部側磁界発生素子とこの電子銃部側磁界発生素子を覆うとともに内周面には電子ビーム進行方向に対応して複数の磁気間隙を設けた磁極とを有する電子銃部側磁界発生部、前記高周波相互作用部の周囲に位置する主磁界発生素子、およびこの主磁界発生素子と前記電子銃部側磁界発生部との間に位置する電子ビーム軌道補正用の補正用磁界発生素子を備え、前記電子銃部で発生した電子ビームを集束する集束磁界装置と
を具備していることを特徴とするマルチビームクライストロン装置。 - 前記電子銃部側磁界発生部の前記電子銃部側磁界発生素子および前記磁極の前記複数の磁気間隙は、少なくとも前記電子銃部で発生した電子ビームが前記高周波相互作用部に至る範囲内で前記高周波相互作用部の中心軸と平行な磁力線を発生する関係に設定されている
ことを特徴とする請求項1記載のマルチビームクライストロン装置。 - 前記電子銃部側磁界発生部の前記電子銃部側磁界発生素子は電子ビーム進行方向に複数設けられるとともに、前記磁極には前記各電子銃部側磁界発生素子の内周面に前記磁気間隙が設けられ、前記電子銃部側磁界発生部の前記複数の電子銃部側磁界発生素子および前記複数の磁気間隙は少なくとも前記電子銃部で発生した電子ビームが前記高周波相互作用部に至る範囲内で前記高周波相互作用部の中心軸と平行な磁力線を発生する関係に設定されている
ことを特徴とする請求項1記載のマルチビームクライストロン装置。 - 複数の電子ビームを発生する電子銃部と、
高周波電力を入力する入力部と、
前記電子銃部で発生した電子ビームと高周波電界との相互作用により前記入力部から入力された高周波電力を増幅する高周波相互作用部と、
前記高周波相互作用部から高周波電力を出力する出力部と、
前記高周波相互作用部を通過する電子ビームを捕集するコレクタ部と、
前記電子銃部の周囲でかつ電子ビーム進行方向に複数設けられる電子銃部側磁界発生素子を有する電子銃部側磁界発生部、前記高周波相互作用部の周囲に位置する主磁界発生素子、およびこの主磁界発生素子と前記電子銃部側磁界発生部との間に位置する電子ビーム軌道補正用の補正用磁界発生素子を備え、前記電子銃部で発生した電子ビームを集束する集束磁界装置と
を具備していることを特徴とするマルチビームクライストロン装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005317122A JP4805656B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | マルチビームクライストロン装置 |
EP06822949A EP1964146B1 (en) | 2005-10-31 | 2006-10-27 | Multi-beam klystron apparatus |
PCT/JP2006/322031 WO2007052774A1 (en) | 2005-10-31 | 2006-10-27 | Multi-beam klystron apparatus |
US11/819,638 US7471053B2 (en) | 2005-10-31 | 2007-06-28 | Multi-beam klystron apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005317122A JP4805656B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | マルチビームクライストロン装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007123184A JP2007123184A (ja) | 2007-05-17 |
JP4805656B2 true JP4805656B2 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=38005926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005317122A Active JP4805656B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | マルチビームクライストロン装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7471053B2 (ja) |
EP (1) | EP1964146B1 (ja) |
JP (1) | JP4805656B2 (ja) |
WO (1) | WO2007052774A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4279321B2 (ja) * | 2007-02-08 | 2009-06-17 | 三菱重工業株式会社 | 加速管コンディショニング装置および加速管コンディショニング方法 |
US8994297B2 (en) * | 2009-10-21 | 2015-03-31 | Omega P Inc. | Low-voltage, Multi-Beam Klystron |
US8847489B2 (en) * | 2009-10-21 | 2014-09-30 | Omega P-Inc. | Low-voltage, multi-beam klystron |
CN105551915B (zh) * | 2016-02-02 | 2017-07-28 | 中国科学院电子学研究所 | 一种可调节磁场的周期永磁聚焦系统和速调管 |
JP7089325B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-06-22 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | クライストロン |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3832596A (en) * | 1973-04-13 | 1974-08-27 | Varian Associates | Magnetic structure for focusing of linear beams |
JPS5632647A (en) * | 1979-08-27 | 1981-04-02 | Nec Corp | Linear electron beam tube |
JP3325982B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2002-09-17 | 株式会社東芝 | 磁界界浸型電子銃 |
FR2764730B1 (fr) * | 1997-06-13 | 1999-09-17 | Thomson Tubes Electroniques | Canon electronique pour tube electronique multifaisceau et tube electronique multifaisceau equipe de ce canon |
JP2000243305A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Nec Corp | 電界放射冷陰極電子銃及びこれを用いたマイクロ波管 |
JP3736343B2 (ja) * | 2000-03-09 | 2006-01-18 | 三菱電機株式会社 | 直流電子ビーム加速装置およびその直流電子ビーム加速方法 |
JP4653649B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-03-16 | 株式会社東芝 | マルチビームクライストロン装置 |
-
2005
- 2005-10-31 JP JP2005317122A patent/JP4805656B2/ja active Active
-
2006
- 2006-10-27 WO PCT/JP2006/322031 patent/WO2007052774A1/en active Application Filing
- 2006-10-27 EP EP06822949A patent/EP1964146B1/en active Active
-
2007
- 2007-06-28 US US11/819,638 patent/US7471053B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1964146B1 (en) | 2013-01-16 |
US20080157677A1 (en) | 2008-07-03 |
WO2007052774A1 (en) | 2007-05-10 |
EP1964146A4 (en) | 2009-05-06 |
JP2007123184A (ja) | 2007-05-17 |
US7471053B2 (en) | 2008-12-30 |
EP1964146A1 (en) | 2008-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4653649B2 (ja) | マルチビームクライストロン装置 | |
JP5822767B2 (ja) | イオン源装置及びイオンビーム生成方法 | |
JP5028181B2 (ja) | 収差補正器およびそれを用いた荷電粒子線装置 | |
KR101988538B1 (ko) | X선 발생 장치 | |
JP4805656B2 (ja) | マルチビームクライストロン装置 | |
US6147447A (en) | Electronic gun for multibeam electron tube and multibeam electron tube with the electron gun | |
EP1811540B1 (en) | Multipole lens and charged-particle beam instrument fitted with multiple lens | |
JP2018106977A (ja) | マルチビームクライストロン | |
JP7070980B2 (ja) | クライストロン | |
US6977991B1 (en) | Cooling arrangement for an X-ray tube having an external electron beam deflector | |
EP3244438B1 (en) | Magnetron and method of adjusting resonance frequency of magnetron | |
US5821693A (en) | Electron beam tubes having a unitary envelope having stepped inner surface | |
US20050167608A1 (en) | Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam | |
JP2010021011A (ja) | 回転陽極型x線管装置 | |
JP5210088B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
JP2018170091A (ja) | X線管装置 | |
JP5797037B2 (ja) | 電子線照射装置 | |
US20170148608A1 (en) | Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device | |
JP2007257990A (ja) | マイクロ波管及びアノードポールピース電極の製造方法 | |
JP2010021010A (ja) | 回転陽極型x線管装置 | |
WO2014185060A1 (ja) | 荷電粒子光学レンズ装置及び荷電粒子光学レンズ装置の制御方法 | |
JP5561948B2 (ja) | イオン源 | |
JP2000243305A (ja) | 電界放射冷陰極電子銃及びこれを用いたマイクロ波管 | |
JP2021039907A (ja) | キャビティ、及びアース板 | |
JP2003346670A (ja) | クライストロン装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080605 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110720 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110811 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4805656 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |