JP4790411B2 - 非点収差補正方法および電子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
この発明は、上述した背景技術による課題を解決するためになされたものであり、センタリング調整を容易に、しかも再現性を持って行うことができる非点収差補正方法および電子ビーム描画装置を提供することを目的とする。
また、請求項3に記載の発明にかかる非点収差補正方法は、請求項2に記載の発明において、前記検出が、前記マーク位置情報の検出を、自己相関関数を用いて行うことを特徴とする。
(実施の形態1)
まず、本実施の形態1にかかる電子ビーム描画装置100の全体構成について説明する。図1は、本発明に基づく電子ビーム描画装置100の一例を示す図である。電子ビーム描画装置100は、内部が真空に排気された筐体13を有する。筐体13の内部には、照射手段である電子銃12、ブランキング電極11、ズームレンズ10、対物絞り8、対物絞り駆動部9、電子ビーム4、対向コイル7、走査手段である偏向器6、対物レンズ5、XY駆動ステージ1、基準試料2および反射電子検出手段3を含む。また、電子ビーム描画装置100の制御系として、制御部21、電子銃制御部14、ビームブランキング制御部15、電子光学系制御部16、ビーム走査制御部17、非点収差補正手段18、信号検出部20、XY駆動ステージ制御部19および基準試料2を含む。なお、図1中に示したxyz軸座標は、後述する図中のxyz軸座標と共通のものであり、図中に示される装置の相互的な位置関係を示す。
図8(C)は、微分関数g(x)から算出された自己相関関数G(x)を図示したものである。ここで、この自己相関関数で逆の相関が最も高いピーク位置をマーク位置座標x1とする。また、同様にy軸方向についても、走査を行いクロスマーク22の位置情報y1を求め、これら位置情報をマーク位置座標(x1、y1)とする。
Δ12(n)=ROOT{(x1−x2)2+(y1−y2)2}
により算出され、マーク位置座標の変化の指標とされる。
Δ34(n)=ROOT{(x3−x4)2+(y3−y4)2}
により算出され、マーク位置座標の変化の指標とされる。
本処理を終了する。
(実施の形態2)
ところで、上記実施の形態2では、対向コイル7に流れる電流を変化させ、この変化の際に生じる電子ビーム4の位置変化を、検出されるマーク位置座標の変化から求めることとしたが、マーク位置座標の変化を測定する代わりに吸収電子検出器および金属板を用いてナイフエッジ位置の変化から求めることもできる。そこで、本実施の形態2では、基準試料2および反射電子検出手段3の代わりに金属板のナイフエッジおよび吸収電子検出器を用いて電子ビーム4の位置変化を求める場合を示すことにする。
2 基準試料
3 反射電子検出手段
4 電子ビーム
5 対物レンズ
6 偏向器
7 対向コイル
9 絞り駆動部
10 ズームレンズ
11 ブランキング電極
12 電子銃
13 筐体
14 電子銃制御部
15 ビームブランキング制御部
16 電子光学系制御部
17 ビーム走査制御部
18 非点収差補正手段
19 XY駆動ステージ制御部
20 信号検出部
21 制御部
22 クロスマーク
22 位置検出マーク
31、32、33、34 コイル
36 電流制御手段
37 スイッチ制御手段
41、42、43,44 スイッチ
45 配列中心位置
46 中心軸位置
51〜54 電源
91 金属板
92 ファラデーカップ
95 ナイフエッジ
97 開口部
100 電子ビーム描画装置
Claims (6)
- 位置検出マークを有する基準試料に電子ビームを照射し、前記電子ビームを挟んで前記照射の方向と直交する直交面内で対向するように配置され、かつ、互いに逆向きの電流が流される対向コイルを、前記直交面内の異なる方向に複数組配置し、前記対向コイルに流される電流の電流比率を、前記対向コイルにより形成される磁場の大きさが零になる位置と、
前記電子ビームの位置とが一致するようにセンタリング調整し、前記電流比率を保ちつつ前記電流を変化させて前記電子ビームの非点収差を補正する非点収差補正方法であって、
前記センタリング調整は、前記センタリング調整を行わない対向コイルに流される電流を零として前記センタリング調整を行う対向コイルに流される電流比率を逐次変化させ、前記逐次変化ごとに前記電子ビームを走査して前記位置検出マークのマーク位置情報および前記電流を変化させた場合のマーク位置変化情報を検出し、前記マーク位置変化情報が最小となる電流比率を前記一致した電流比率とするセンタリング調整を、前記複数組の対向コイルに対して行う非点収差補正方法。 - 前記基準試料は、シリコン基板からなり、前記シリコン基板上に前記電子ビームを反射し直交する2つの金属帯からなる十字型の位置検出マークを備えることを特徴とする請求項1に記載の非点収差補正方法。
- 前記検出は、前記マーク位置情報の検出を自己相関関数を用いて行うことを特徴とする請求項2に記載の非点収差補正方法。
- 前記基準試料は、金属板からなり、前記金属板の中央部に、辺縁部がナイフエッジをなし電子ビームを透過する開口部からなる位置検出マークを備えることを特徴とする請求項1に記載の非点収差補正方法。
- 前記検出は、前記マーク位置情報の検出を、誤差関数を用いて行うことを特徴とする請求項4に記載の非点収差補正方法。
- 位置検出マークを有する基準試料に電子ビームを照射する照射手段と、
前記電子ビームを挟んで前記照射の方向と直交する直交面内で対向するように配置され、かつ、互いに逆向きの電流が流される対向コイルであって、前記直交面内の異なる方向を向く複数組の対向コイルと、
前記対向コイルに流される電流の電流比率を一定に保ちつつ前記電流を変化させて前記電子ビームの非点収差を補正する非点収差補正手段と、
前記対向コイルの対向方向に前記電子ビームを走査する走査手段と、
前記電流比率を、前記対向コイルにより形成される磁場の大きさが零になる位置と前記電子ビームの位置とが一致するようにセンタリング調整する制御部と、
を備える電子ビーム描画装置であって、
前記非点収差補正手段は、前記対向コイルに流される電流をオンオフするスイッチを有し、
前記制御部は、前記センタリング調整を行わない対向コイルのスイッチをオフとし、前記センタリング調整を行う対向コイルのスイッチをオンとし、前記対向コイルに流される電流比率を逐次変化させ、前記逐次変化ごとに前記走査を行い前記位置検出マークのマーク位置情報および前記電流を変化された場合のマーク位置変化情報を検出し、前記マーク位置変化情報が最小となる電流比率を前記一致の電流比率とするセンタリング調整を、前記複数組の対向コイルに対して行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。
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JP2005374894A JP4790411B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 非点収差補正方法および電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005374894A JP4790411B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 非点収差補正方法および電子ビーム描画装置 |
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JP2007180158A JP2007180158A (ja) | 2007-07-12 |
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JP2005374894A Active JP4790411B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 非点収差補正方法および電子ビーム描画装置 |
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