JP4256232B2 - 荷電ビーム描画方法と荷電ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
Vx=Gx・x+Rx・y
Vy=Gy・y+Ry・x
G:倍率係数、R:回転係数、x:X方向偏向量、y:Y方向偏向量
で定義されるものであること。
Vx=Gx・x+Rx・y
Vy=Gy・y+Ry・x
G:倍率係数、R:回転係数、x:X方向偏向量、y:Y方向偏向量
のような関係で決定される。そして、回転係数Rを変えることによって、成形偏向座標を回転させることができる。そこで、この回転係数を変えて、図3(b)に示すように、第1成形アパーチャの座標軸に成形偏向座標軸を一致させる。なお、上記式は成形偏向器5を構成する偏向電極の数によって変わるものであるが、各偏向電極に印加する電圧が倍率係数,回転係数,X方向及びY方向の偏向量で定義されるものであれば、上記と同様に回転係数Rを変えることにより第1成形アパーチャの座標軸に成形偏向座標軸を一致させることが可能である。
2…照明レンズ
3…ブランキング偏向器
4…第1成形アパーチャ
5…成形偏向器
6…投影レンズ
7…第2成形アパーチャ
8…ビーム制限用アパーチャ
9…縮小レンズ
10…対物レンズ
11…対物偏向器
12…反射電子検出器
13…XYステージ
14…ビーム電流検出器
15…マーク台
16…成形ビーム結像系
18…第2成形アパーチャ開口部
19…第1成形アパーチャ像
20…第1成形アパーチャ開口部
21…十字マーク
22…下地
23…第2成形アパーチャ回転ステージ
Claims (5)
- 第1成形アパーチャの像を第2成形アパーチャ上に投影すると共に、成形偏向器により第2成形アパーチャ上の第1成形アパーチャの像の位置を可変し、第1及び第2成形アパーチャの光学的重なり像を電磁レンズにより試料面上に結像することにより、試料面に所望パターンを描画する荷電ビーム描画方法であって、
描画に先立ち前記成形偏向器及び電磁レンズを調整するために、
第1成形アパーチャの座標軸に対して前記成形偏向器による偏向座標軸を一致させるために、第2成形アパーチャのコーナーをかすめるように第1成形アパーチャの像を偏向した時の試料面上でのビーム電流が一定となるように、前記成形偏向器に印加する電圧を調整し、
次いで前記成形偏向器による偏向座標軸に対して前記試料面の基準座標軸が一致するように、前記電磁レンズの励磁電流を調整することを特徴とする荷電ビーム描画方法。 - 前記成形偏向器は複数の電極からなり、各々の偏向電極に印加する偏向電圧は、倍率係数,回転係数,X方向及びY方向の偏向量で定義されるものであり、前記成形偏向器に印加する電圧の調整に際して、第1成形アパーチャの座標軸と前記成形偏向器による偏向座標軸とが一致する回転係数を求めることを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画方法。
- 第1成形アパーチャの座標軸と前記成形偏向器による偏向座標軸とが一致する回転係数を求めるために、第1成形アパーチャの像の一辺と第2成形アパーチャのコーナーとが一部重なる状態で、前記成形偏向器により第1成形アパーチャの像を前記一辺と平行な方向に相当する方向に偏向したときに、前記試料面上でのビーム電流の変化が最も少なくなる回転係数を求めることを特徴とする請求項2記載の荷電ビーム描画方法。
- 前記電磁レンズは、第2成形アパーチャ側の縮小レンズと前記試料側の対物レンズの2段構成であり、各々のレンズの励磁電流を最適に設定することにより、前記偏向座標軸と基準座標軸とを一致させながら、焦点を合わせることを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画方法。
- 光軸方向に離間対向配置された第1及び第2の成形アパーチャと、
第1の成形アパーチャと第2の成形アパーチャとの間に配置され、第1の成形アパーチャの像を第2成形アパーチャ上で偏向する成形偏向器と、
前記成形偏向器よりも下流側に設けられ、第1及び第2成形アパーチャの光学的重なり像を試料面上に結像する電磁レンズと、
第1成形アパーチャの座標軸に対して前記成形偏向器による偏向座標軸を一致させるために、第2成形アパーチャのコーナーをかすめるように第1成形アパーチャの像をスキャンした時の試料面上でのビーム電流が一定となるように、前記成形偏向器に印加する電圧を調整する手段と、
前記成形偏向器に印加する電圧を調整した後に、前記成形偏向器による偏向座標軸に対して前記試料面の基準座標軸が一致するように、前記電磁レンズの励磁電流を調整する手段と、
を具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
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