JP4775896B2 - 積層シート及びその製造方法 - Google Patents

積層シート及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4775896B2
JP4775896B2 JP2006072873A JP2006072873A JP4775896B2 JP 4775896 B2 JP4775896 B2 JP 4775896B2 JP 2006072873 A JP2006072873 A JP 2006072873A JP 2006072873 A JP2006072873 A JP 2006072873A JP 4775896 B2 JP4775896 B2 JP 4775896B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
foam layer
polyurethane foam
urethane composition
dispersed urethane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006072873A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007245571A (ja
Inventor
純司 廣瀬
武司 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Tire Corp
Original Assignee
Toyo Tire and Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2006072873A priority Critical patent/JP4775896B2/ja
Application filed by Toyo Tire and Rubber Co Ltd filed Critical Toyo Tire and Rubber Co Ltd
Priority to CN2009101783690A priority patent/CN101724167B/zh
Priority to CN2006800259433A priority patent/CN101223016B/zh
Priority to SG201004223-2A priority patent/SG162797A1/en
Priority to KR1020087003404A priority patent/KR100960585B1/ko
Priority to CN200910178370.3A priority patent/CN101704309B/zh
Priority to PCT/JP2006/313597 priority patent/WO2007010766A1/ja
Priority to US11/995,311 priority patent/US7927452B2/en
Priority to SG201004207-5A priority patent/SG162794A1/en
Priority to TW095125437A priority patent/TW200706551A/zh
Publication of JP2007245571A publication Critical patent/JP2007245571A/ja
Priority to US13/038,849 priority patent/US8318298B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4775896B2 publication Critical patent/JP4775896B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明はレンズ、反射ミラー等の光学材料、シリコンウエハ等の半導体ウエハ、ガラス基板、金属基板、及びディスクなどの表面を研磨する際に、これらを研磨ヘッドに保持固定するために使用する積層シート(保持シート、バッキングシート)、半導体ウエハ等の半導体製品や光学系製品等を精密加工する工程において、製品を保持または保護するために使用する積層シート(粘着シート)及びその製造方法に関する。
高度の表面平坦性を要求される材料の代表的なものとしては、半導体集積回路(IC、LSI)を製造するシリコンウエハと呼ばれる単結晶シリコンの円盤があげられる。シリコンウエハは、IC、LSI等の製造工程において、回路形成に使用する各種薄膜の信頼できる半導体接合を形成するために、酸化物層や金属層を積層・形成する各工程において、表面を高精度に平坦に仕上げることが要求される。このような研磨仕上げ工程においては、一般的に研磨パッドはプラテンと呼ばれる回転可能な支持円盤に固着され、シリコンウエハ等の被研磨材は研磨ヘッドに固着される。
従来、シリコンウエハやガラス等の被研磨材を研磨ヘッドに固定する方法としては、(1)ワックスを介して研磨ヘッドと被研磨材を固定するワックス・マウンティング法、(2)吸引することにより被研磨材を研磨ヘッドに固定するバキューム・チャック法、又は(3)研磨ヘッドに貼付けた人工皮革や高分子発泡シートにより被研磨材を固定するノーワックス・マウンティング法が採用されている。
ワックス・マウンティング法は、ワックスを使用しているため、被研磨材の着脱に手間がかかったり、研磨後に被研磨材を洗浄してワックスを除去する必要があり、作業工程が煩雑であるという問題を有している。
バキューム・チャック法は、吸引口部分で被研磨材が変形し、それにより研磨後の被研磨材の表面精度が悪くなるという問題を有している。
ノーワックス・マウンティング法は、被研磨材の着脱が容易であり、生産効率に優れるという利点があるが、人工皮革や高分子発泡シートの保持面の表面精度が悪い場合には、研磨後の被研磨材の表面平滑性も悪くなるという問題があった。
上記ノーワックス・マウンティング法の問題点を解決する方法として、発泡層の表面に樹脂よりなる粘着性樹脂層を設けたバッキング材を用いることが提案されている(特許文献1)。また、細長い形状であり、かつ発泡層表面に向かって直径が大きくなる独立気泡を発泡層に設けたことを特徴とするシート状弾性発泡体が提案されている(特許文献2)。
しかし、特許文献1のバッキング材の製造方法は、粘着性樹脂層を別途設ける必要があり、また弾性層を湿式凝固させることにより製造しているため作業工程が煩雑である。また、溶剤を使用しなければならないため環境負荷が大きく、溶剤の抽出に多量の水が必要になる等の製造上の問題がある。
特許文献2では、上記のような気泡を形成することが困難であり、しかも発泡層表面の空隙率が大きいため発泡層の変形が大きくなり、その結果、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなると考えられる。また、被研磨材を発泡層に貼り付ける際にエア噛みが発生したり、吸水性が低いため発泡層と被研磨材との間にスラリーの水膜が生じて被研磨材の吸着性が低下するという問題があった。
特開2002−355754号公報 特開平6−23664号公報
本発明は、保持面の表面精度が高く、被研磨材の吸着性に優れる積層シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す積層シートにより上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。
本発明の積層シートは、基材シートとポリウレタン発泡層とからなり、前記ポリウレタン発泡層は球状の連続気泡を有しており、該連続気泡の表面には円形孔が形成されていることを特徴とする。
本発明の積層シートのポリウレタン発泡層は、気泡表面に円形孔(略円形孔を含む)が形成された球状(略球状を含む)の連続気泡を有しているため、被研磨材をポリウレタン発泡層に貼り付ける際にエアを噛み込んでも連続気泡を介してエアを外部に排出することができる。それにより、被研磨材を平坦性高くポリウレタン発泡層に貼り付けることが可能である。また、発泡層と被研磨材との間にスラリーが浸入した場合でも、連続気泡を通じてスラリーをポリウレタン発泡層内部に吸収することができるため、発泡層と被研磨材との間にスラリーの水膜が生じることを防止することができる。そのため、被研磨材の吸着性の低下を効果的に防止することができる。
前記連続気泡の平均気泡径は20〜300μmであり、円形孔の平均直径は100μm以下であることが好ましい。平均気泡径が20μm未満の場合には、スラリーを発泡層内部に吸収しにくくなり、発泡層と被研磨材との間にスラリーの水膜が生じやすくなる傾向にある。一方、300μmを超える場合には、発泡層表面の平滑性が悪化し、局所的な圧縮特性のバラツキが生じやすくなるため、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。また、円形孔の平均直径が100μmを超える場合には、発泡層の吸水による圧縮特性の変化が起こりやすくなり、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。
ポリウレタン発泡層は、前記連続気泡と共に独立気泡を含んでいてもよいが、該ポリウレタン発泡層の連続気泡率は50%以上であることが好ましく、より好ましくは65%以上である。
前記ポリウレタン発泡層は、イソシアネート成分と活性水素含有化合物とを原料成分として含有し、前記活性水素含有化合物は、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含有することが好ましい。該高分子ポリオールを特定量用いることにより、目的とする連続気泡を安定的に形成することができ、かつ発泡層の機械的特性が良好になる。
また、前記ポリウレタン発泡層は、イソシアネート成分と、高分子量ポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有し、前記高分子量ポリオールは、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを20〜100重量%含有することが好ましい。該ポリマー粒子のフィラー効果により気泡膜が破れやすくなり、目的とする連続気泡を容易に形成することができる。
また、前記活性水素含有化合物は、水酸基価が400〜1830mgKOH/gの低分子量ポリオール及び/又はアミン価が400〜1870mgKOH/gの低分子量ポリアミンを2〜15重量%含有することが好ましい。該低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンを特定量用いることにより、目的とする連続気泡を安定的に形成することができ、かつ発泡層の機械的特性が良好になる。なお、低分子量ポリオールと低分子量ポリアミンを併用する場合には、合計で2〜15重量%用いる。
本発明の積層シートの製造方法は、イソシアネート成分と、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む。
また、別の本発明の積層シートの製造方法は、イソシアネート成分と、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む。
また、別の本発明の積層シートの製造方法は、イソシアネート成分と、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む。
また、別の本発明の積層シートの製造方法は、イソシアネート成分と、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む。
上記のように、機械発泡法により空気等の気体を微細気泡として特定の原料中に分散させて気泡分散ウレタン組成物を調製し、該気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより気泡径が小さく、かつ気泡表面に円形孔(略円形孔を含む)が形成された球状(略球状を含む)の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を容易に形成することができる。また、本発明の機械発泡法では、空気等の気体は原料中に溶解させずに分散させているため、ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程の後に新たな気泡が発生すること(後発泡現象)を抑制することができ、厚み精度や比重をコントロールしやすいという利点がある。また、溶剤を使用する必要がないため、コスト面で優れるだけでなく、環境面からも好ましい。そして、このポリウレタン発泡層は、気泡表面に円形孔(略円形孔を含む)が形成された球状(略球状を含む)の連続気泡を有しているため、被研磨材をポリウレタン発泡層に貼り付ける際にエアを噛み込んでも連続気泡を介してエアを外部に排出することができる。それにより、被研磨材を平坦性高くポリウレタン発泡層に貼り付けることが可能である。また、発泡層と被研磨材との間にスラリーが浸入した場合でも、連続気泡を通じてスラリーをポリウレタン発泡層内部に吸収することができるため、発泡層と被研磨材との間にスラリーの水膜が生じることを防止することができる。そのため、被研磨材の吸着性の低下を効果的に防止することができる。また、上記ポリウレタン発泡層の連続気泡は球状であるため耐久性に優れている。そのため、該発泡層を有する積層シートを用いて被研磨材を研磨した場合には、研磨速度の安定性が向上する。
また、本発明は、前記方法によって製造される積層シート、に関する。ポリウレタン発泡層の連続気泡の平均気泡径は、上記と同様の理由により、20〜300μmであることが好ましく、円形孔の平均直径は100μm以下であることが好ましい。
本発明の積層シートは、基材シートとポリウレタン発泡層とからなり、前記ポリウレタン発泡層は球状の連続気泡を有しており、該連続気泡の表面には円形孔が形成されている。
前記ポリウレタン発泡層は、例えば、機械発泡法(メカニカルフロス法を含む)により調製された気泡分散ウレタン組成物を基材シート上で硬化させることにより形成することができる。具体的には、気泡分散ウレタン組成物は、以下の方法により調製される。
(1)イソシアネート成分及び高分子量ポリオールなどを反応させてなるイソシアネート末端プレポリマーにシリコン系界面活性剤を添加した第1成分を、非反応性気体の存在下で機械撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。そして、該気泡分散液に高分子量ポリオールや低分子量ポリオールなどの活性水素含有化合物を含む第2成分を添加し、混合して気泡分散ウレタン組成物を調製する。第2成分には、適宜触媒、カーボンブラックなどのフィラーを添加してもよい。
(2)イソシアネート成分(又はイソシアネート末端プレポリマー)を含む第1成分、及び活性水素含有化合物を含む第2成分の少なくとも一方にシリコン系界面活性剤を添加し、シリコン系界面活性剤を添加した成分を非反応性気体の存在下で機械攪拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。そして、該気泡分散液に残りの成分を添加し、混合して気泡分散ウレタン組成物を調製する。
(3)イソシアネート成分(又はイソシアネート末端プレポリマー)を含む第1成分、及び活性水素含有化合物を含む第2成分の少なくとも一方にシリコン系界面活性剤を添加し、前記第1成分及び第2成分を非反応性気体の存在下で機械攪拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散ウレタン組成物を調製する。
ポリウレタンは、機械発泡法により、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を容易に形成することができるため積層シートの発泡層の形成材料として好ましい。
イソシアネート成分としては、ポリウレタンの分野において公知の化合物を特に限定なく使用できる。例えば、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックMDI、カルボジイミド変性MDI(例えば、商品名ミリオネートMTL、日本ポリウレタン工業製)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
イソシアネート成分としては、上記ジイソシアネート化合物の他に、3官能以上の多官能ポリイソシアネート化合物も使用可能である。多官能のイソシアネート化合物としては、デスモジュール−N(バイエル社製)や商品名デュラネート(旭化成工業社製)として一連のジイソシアネートアダクト体化合物が市販されている。
上記のイソシアネート成分のうち、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート又はカルボジイミド変性MDIを用いることが好ましい。
活性水素含有化合物とは、イソシアネート成分と反応する活性水素を有する高分子量ポリオール、低分子量ポリオール、及び低分子量ポリアミンなどである。
高分子量ポリオールとしては、ポリウレタンの技術分野において、通常用いられるものを挙げることができる。例えば、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレングリコール等に代表されるポリエーテルポリオール、ポリブチレンアジペートに代表されるポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカプロラクトンのようなポリエステルグリコールとアルキレンカーボネートとの反応物などで例示されるポリエステルポリカーボネートポリオール、エチレンカーボネートを多価アルコールと反応させ、次いでえられた反応混合物を有機ジカルボン酸と反応させたポリエステルポリカーボネートポリオール、ポリヒドロキシル化合物とアリールカーボネートとのエステル交換反応により得られるポリカーボネートポリオール、ポリマー粒子を分散させたポリエーテルポリオールであるポリマーポリオールなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記高分子量ポリオールのうち、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを用いることが好ましい。水酸基価は25〜60mgKOH/gであることがより好ましい。官能基数が5以上の場合には、ポリウレタン発泡体の架橋度が高くなりすぎて被研磨材の吸着性が低下する傾向にある。水酸基価が20mgKOH/g未満の場合には、ポリウレタンのハードセグメント量が少なくなって耐久性が低下する傾向にあり、100mgKOH/gを超える場合には、ポリウレタン発泡体の架橋度が高くなりすぎて被研磨材の吸着性が低下する傾向にある。
また、ポリマーポリオールを用いることも好ましく、特にアクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を分散させたポリマーポリオールを用いることが好ましい。該ポリマーポリオールは、使用する全高分子量ポリオール中に20〜100重量%含有させることが好ましく、より好ましくは30〜60重量%である。
これら特定の高分子量ポリオールは、活性水素含有化合物中に60〜85重量%含有させることが好ましく、より好ましくは70〜80重量%である。上記特定の高分子量ポリオールを特定量用いることにより気泡膜が破れやすくなり、目的とする連続気泡を形成しやすくなる。
高分子量ポリオールと共に、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン等の低分子量ポリオールを用いてもよい。また、トリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン等の低分子量ポリアミンを併用してもよい。また、上記低分子量ポリオール又は低分子量ポリアミンにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させたポリオールを併用してもよい。
これらのうち、水酸基価が400〜1830mgKOH/gの低分子量ポリオール及び/又はアミン価が400〜1870mgKOH/gの低分子量ポリアミンを用いることが好ましい。水酸基価は700〜1250mgKOH/gであることがより好ましく、アミン価は400〜950mgKOH/gであることがより好ましい。水酸基価が400mgKOH/g未満又はアミン価が400mgKOH/g未満の場合には、連続気泡化の向上効果が十分に得られない傾向にある。一方、水酸基価が1830mgKOH/gを超える場合又はアミン価が1870mgKOH/gを超える場合には、ポリウレタンのハードセグメント間の距離が短くなり、被研磨材の吸着性の向上効果が十分に得られない傾向にある。特に、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、又は1,4−ブタンジオールを用いることが好ましい。
また、これら低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンは、活性水素含有化合物中に2〜15重量%含有させることが好ましく、より好ましくは5〜10重量%である。上記低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンを特定量用いることにより気泡膜が破れやすくなり、目的とする連続気泡を形成しやすくなるだけでなく、ポリウレタン発泡層の機械的特性が良好になる。
また、使用する活性水素含有化合物の平均水酸基価(OHVav)は下記式の範囲内であることが好ましい。
(350−80×fav−120/fav)≦OHVav≦(350−80×fav+120/fav)
上記式において、OHVav及びfav(平均官能基数)は下記式により算出される。
Figure 0004775896
Figure 0004775896
上記式において、nはポリオール成分の数、aiは水酸基価、biは官能基数、ciは添加重量部である。
例えば、使用する活性水素含有化合物が第1〜第nポリオール成分まである場合、第1ポリオール成分の水酸基価をa1、官能基数をb1、及び添加重量部をc1とし、・・・、第nポリオール成分の水酸基価をan、官能基数をbn、及び添加重量部をcnとする。ただし、ポリマーポリオールについてはポリマー粒子が分散しているため、どの種類においても官能基数は3として計算する。
ポリウレタンをプレポリマー法により製造する場合において、イソシアネート末端プレポリマーの合成時及び硬化時に使用する活性水素含有化合物の種類、配合比は特に制限されないが、イソシアネート末端プレポリマーの合成時には活性水素含有化合物中に高分子量ポリオールを80重量%以上用い、イソシアネート末端プレポリマーの硬化時には活性水素含有化合物中に低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンを80重量%以上使用することが好ましい。このような活性水素含有化合物の使い分けは、得られるポリウレタンの物理特性の安定性及び生産性の観点から好ましい方法である。
イソシアネート成分、高分子量ポリオール、低分子量ポリオール、及び低分子量ポリアミンの比は、各々の分子量やポリウレタン発泡層の所望物性などにより種々変え得る。所望する特性を有する発泡層を得るためには、合計活性水素基(水酸基+アミノ基)数に対するイソシアネート成分のイソシアネート基数は、0.80〜1.20であることが好ましく、さらに好ましくは0.99〜1.15である。イソシアネート基数が前記範囲外の場合には、硬化不良が生じて要求される連続気泡、比重、硬度、及び圧縮率などが得られない傾向にある。
なお、イソシアネート末端プレポリマーは、分子量が1000〜10000程度のものが加工性、物理的特性等が優れており好適である。また、プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し溶融して使用する。
シリコン系界面活性剤としては、例えば、ポリアルキルシロキサンとポリエーテルの共重合体を含有するものが挙げられる。かかるシリコン系界面活性剤としては、SH−192(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、L5340(日本ユニカ製)等が好適な化合物として例示される。
なお、必要に応じて、酸化防止剤等の安定剤、滑剤、顔料、充填剤、帯電防止剤、その他の添加剤を加えてもよい。
前記微細気泡を形成するために使用される非反応性気体としては、可燃性でないものが好ましく、具体的には窒素、酸素、炭酸ガス、ヘリウムやアルゴン等の希ガスやこれらの混合気体が例示され、乾燥して水分を除去した空気の使用がコスト的にも最も好ましい。
非反応性気体を微細気泡状にして分散させる撹拌装置としては、公知の撹拌装置を特に限定なく使用可能であり、具体的にはホモジナイザー、ディゾルバー、2軸遊星型ミキサー(プラネタリーミキサー)などが例示される。撹拌装置の撹拌翼の形状も特に限定されないが、ホイッパー型の撹拌翼の使用にて微細気泡が得られ好ましい。
なお、発泡工程において気泡分散液を調製する撹拌と、第1成分と第2成分を混合する撹拌は、異なる撹拌装置を使用することも好ましい態様である。混合工程における撹拌は気泡を形成する撹拌でなくてもよく、大きな気泡を巻き込まない撹拌装置の使用が好ましい。このような撹拌装置としては、遊星型ミキサーが好適である。気泡分散液を調製する発泡工程と各成分を混合する混合工程の撹拌装置を同一の撹拌装置を使用しても支障はなく、必要に応じて撹拌翼の回転速度を調整する等の撹拌条件の調整を行って使用することも好適である。
そして、上記方法で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布し、該気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する。
基材シートの形成材料は特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
基材シートの厚さは特に制限されないが、強度、可とう性等の観点から0.05〜0.3mm程度であることが好ましい。
気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布する方法としては、例えば、グラビア、キス、コンマなどのロールコーター、スロット、ファンテンなどのダイコーター、スクイズコーター、カーテンコーターなどの塗布方法を採用することができるが、基材シート上に均一な塗膜を形成できればいかなる方法でもよい。
気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布して流動しなくなるまで反応したポリウレタン発泡体を加熱し、ポストキュアすることは、ポリウレタン発泡体の物理的特性を向上させる効果があり、極めて好適である。ポストキュアは、40〜70℃で10〜60分間行うことが好ましく、また常圧で行うと気泡形状が安定するため好ましい。
ポリウレタン発泡層の製造において、第3級アミン系等の公知のポリウレタン反応を促進する触媒を使用してもかまわない。触媒の種類や添加量は、各成分の混合工程後、基材シート上に塗布するための流動時間を考慮して選択する。
ポリウレタン発泡層の製造は、各成分を計量して容器に投入し、機械撹拌するバッチ方式であってもよく、また撹拌装置に各成分と非反応性気体を連続して供給して機械撹拌し、気泡分散ウレタン組成物を送り出して成形品を製造する連続生産方式であってもよい。
本発明の積層シートの製造方法においては、基材シート上にポリウレタン発泡層を形成した後又はポリウレタン発泡層を形成するのと同時に、ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整することが必要である。ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する方法は特に制限されないが、例えば、研磨材でバフがけする方法、プレス板でプレスする方法などが挙げられる。バフがけした場合には、ポリウレタン発泡層の表面にスキン層を有さない積層シートが得られ、プレスした場合には、ポリウレタン発泡層の表面にスキン層を有する積層シートが得られる。プレスする際の条件は特に制限されないが、ガラス転移点以上に温度調節することが好ましい。
一方、上記方法で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布し、該気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する。その後、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成してもよい。該方法は、積層シートの厚さを極めて均一に制御することができるため特に好ましい方法である。
離型シートの形成材料は特に制限されず、前記基材シートと同様の樹脂や紙などを挙げることができる。離型シートは、熱による寸法変化が小さいものが好ましい。なお、離型シートの表面は離型処理が施されていてもよい。
基材シート、気泡分散ウレタン組成物(気泡分散ウレタン層)、及び離型シートからなるサンドイッチシートの厚さを均一にする押圧手段は特に制限されないが、例えば、コーターロール、ニップロールなどにより一定厚さに圧縮する方法が挙げられる。圧縮後に発泡層中の気泡が1.2〜2倍程度大きくなることを考慮して、圧縮に際しては、(コーター又はニップのクリアランス)−(基材シート及び離型シートの厚み)=(硬化後のポリウレタン発泡層の厚みの50〜85%)とすることが好ましい。また、比重が0.2〜0.5のポリウレタン発泡層を得るためには、ロールを通過する前の気泡分散ウレタン組成物の比重は0.24〜1であることが好ましい。
そして、前記サンドイッチシートの厚さを均一にした後に、流動しなくなるまで反応したポリウレタン発泡体を加熱し、ポストキュアしてポリウレタン発泡層を形成する。ポストキュアの条件は前記と同様である。
その後、ポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離して積層シートを得る。この場合、ポリウレタン発泡層上にはスキン層が形成されている。なお、離型シートを剥離した後にポリウレタン発泡層をバフがけ等することによりスキン層を除去してもよい。
ポリウレタン発泡層の厚さは特に制限されないが、0.2〜1.2mmであることが好ましく、より好ましくは0.6〜1mmである。
ポリウレタン発泡層は、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡を有している。なお、該連続気泡はクラッシングにより形成されたものではない。
ポリウレタン発泡層中の連続気泡の平均気泡径は、20〜300μmであることが好ましく、より好ましくは50〜150μmである。この範囲から逸脱する場合は、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。また、気泡表面の円形孔の平均直径は100μm以下であることが好ましく、より好ましくは50μm以下である。
ポリウレタン発泡層の比重は、0.2〜0.5であることが好ましく、より好ましくは0.25〜0.4である。比重が0.2未満の場合には、気泡率が高くなりすぎて耐久性が悪くなる傾向にある。一方、比重が0.5を超える場合には、ある一定の弾性率にするために材料を低架橋密度にする必要がある。その場合、永久ひずみが増大し、耐久性が悪くなる傾向にある。
ポリウレタン発泡層の硬度は、アスカーC硬度にて10〜50度であることが好ましく、より好ましくは15〜35度である。アスカーC硬度が10度未満の場合には、耐久性が低下したり、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。一方、50度を超える場合には、被研磨材の保持性が悪くなる傾向にある。
ポリウレタン発泡層の圧縮率は、2〜10%であることが好ましく、より好ましくは4〜8%である。圧縮率が2%未満の場合には、被研磨材の保持性が悪くなり、圧縮率が10%を超える場合には、耐久性や研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。
ポリウレタン発泡層の厚みバラツキは、100μm以下であることが好ましく、より好ましくは60μm以下である。厚みバラツキが100μmを越えるものは、積層シートが大きなうねりを持ったものとなる。その結果、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。
積層シートの基材シート表面には、研磨ヘッドに貼り付けるための両面テープが設けられていてもよい。両面テープは、不織布やフィルム等の基材の両面に接着層を設けた一般的な構成を有するものである。接着層の組成としては、例えば、ゴム系接着剤やアクリル系接着剤等が挙げられる。
以下、本発明を実施例を上げて説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(連続気泡の平均気泡径、及び円形孔の平均直径の測定)
作製したポリウレタン発泡層を厚み1mm以下になるべく薄くカミソリ刃で平行に切り出したものをサンプルとした。サンプルをスライドガラス上に固定し、SEM(S−3500N、日立サイエンスシステムズ(株))を用いて100倍で観察した。得られた画像を画像解析ソフト(WinRoof、三谷商事(株))を用いて、任意範囲の連続気泡の気泡径を全て測定し、その値から平均気泡径を算出した。また、任意範囲の連続気泡の円形孔の直径を全て測定し、その値から平均直径を算出した。
(連続気泡率の測定)
連続気泡率はASTM−2856−94−C法に準拠して測定した。ただし、円形に打ち抜いたポリウレタン発泡層を10枚重ねたものを測定サンプルとした。測定器は、空気比較式比重計930型(ベックマン株式会社製)を用いた。連続気泡率は下記式により算出した。
連続気泡率(%)=〔(V−V1)/V〕×100
V:サンプル寸法から算出した見かけ容積(cm
V1:空気比較式比重計を用いて測定したサンプルの容積(cm
(比重測定)
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡層を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
(硬度測定)
JIS K−7312に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡層を5cm×5cm(厚み:任意)の大きさに切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定時には、サンプルを重ね合わせ、厚み10mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーC型硬度計、加圧面高さ:3mm)を用い、加圧面を接触させてから30秒後の硬度を測定した。
(圧縮率測定)
直径7mmの円(厚み:任意)に切り出したポリウレタン発泡層をサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で40時間静置した。測定には熱分析測定器TMA(SEIKO INSTRUMENTS製、SS6000)を用い、圧縮率を測定した。圧縮率の計算式を下記に示す。
圧縮率(%)={(T1―T2)/T1}×100
T1:ポリウレタン発泡層に無負荷状態から4.9KPa (50g/cm2)の応力を負荷して60秒間保持した時のポリウレタン発泡層の厚み。
T2:T1の状態から29.4KPa (300g/cm2)の応力を負荷して60秒間保持した時のポリウレタン発泡層の厚み。
(吸着性の評価)
平滑面を持つガラス板(50mmφ×10mm厚)を自在継手を介して荷重センサーに吊り下げた状態で、支持板に貼り付けられた積層シート(□80mm)上に150g/cmの圧力で10秒間吸着させた。その後、一定速度でガラス板を上方に引張り(引張り速度:200mm/min)、ガラス板が積層シートから剥離する際の剥離強さ(kPa)を測定した。
実施例1
容器に高分子量ポリオールEX−5030(旭硝子株式会社製、OHV:33、官能基数:3)60重量部、ポリカプロラクトントリオール(ダイセル化学(株)製、プラクセル305、OHV:305、官能基数:3)40重量部、シリコン系界面活性剤(SH−192、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)5重量部、及び触媒(No.25、花王製)0.18重量部を入れ、混合して第2成分(25℃)を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、141.8mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、3(計算値)である。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、第1成分であるカルボジイミド変性MDI(日本ポリウレタン工業(株)製、ミリオネートMTL、NCOwt%:29wt%、25℃)40.3重量部を前記第2成分に添加し(NCO/OH=1.1)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。
調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)上に塗布して気泡分散ウレタン層を形成した。そして、該気泡分散ウレタン層上に離型処理した離型シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)を被せた。ニップロール(クリアランス:0.75mm)にて気泡分散ウレタン層を0.8mmの厚さにし、その後40℃で60分間キュアしてポリウレタン発泡層を形成した。その後、ポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離した。そして、基材シート表面にラミ機を使用して両面テープ(ダブルタックテープ、積水化学工業製)を貼りあわせて積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡が主に形成されていた。
実施例2
容器にEX−5030(85重量部)、プラクセル305(13重量部)、ジエチレングリコール(OHV:1057、官能基数:2)2重量部、SH−192(5重量部)、及び触媒(No.25)0.34重量部を入れ、混合して第2成分(25℃)を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、88.84mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2.98(計算値)である。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、第1成分であるミリオネートMTL(25.2重量部、25℃)を前記第2成分に添加し(NCO/OH=1.1)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡が主に形成されていた。
実施例3
容器にスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を分散させたポリマーポリオールEX−940(旭硝子株式会社製、OHV:28、官能基数:3と換算)45重量部、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱化学工業(株)製、PTMG2000、OHV:56、官能基数:2)35重量部、プラクセル305(10重量部)、ジエチレングリコール(10重量部)、SH−192(5重量部)、及び触媒(No.25)0.25重量部を入れ、混合して第2成分(25℃)を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、137.4mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2.55(計算値)である。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、第1成分であるミリオネートMTL(39重量部、25℃)を前記第2成分に添加し(NCO/OH=1.1)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡が主に形成されていた。
実施例4
容器にPTMG2000(700重量部)、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱化学工業(株)製、PTMG650、OHV:173、官能基数:2)150重量部を入れ、撹拌しながら減圧脱水を約1時間行った。その後、反応容器内を窒素置換した。そして、反応容器内にミリオネートMT(日本ポリウレタン工業(株)製、ピュアMDI)436重量部を添加した。その後、反応系内の温度を約80℃に保持しつつ約4時間反応させてイソシアネート末端プレポリマーA(NCOwt%:7.53wt%)を合成した。
容器にイソシアネート末端プレポリマーA(128重量部)、及びSH−192(5重量部)を入れて混合し、40℃に調整して減圧脱泡して第1成分を調製した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、25℃に温調したトリエチレングリコール(OHV:747、官能基数:2)15重量部、及び触媒(No.25)0.12重量部を混合した第2成分を前記第1成分を添加し(NCO/OH=1.15)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、177.2mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2(計算値)である。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、気泡表面に円形孔が形成された球状の連続気泡が主に形成されていた。
比較例1
容器にEX−5030(90重量部)、プラクセル305(8重量部)、ジエチレングリコール(2重量部)、SH−192(5重量部)、及び触媒(No.25)0.36重量部を入れ、混合して第2成分(25℃)を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、75.24mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2.98(計算値)である。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、第1成分であるミリオネートMTL(21.4重量部、25℃)を前記第2成分に添加し(NCO/OH=1.1)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、ほとんどが独立気泡であった。
比較例2
容器にPTMG650(850重量部)を入れ、撹拌しながら減圧脱水を約1時間行った。その後、反応容器内を窒素置換した。そして、反応容器内にミリオネートMT(635重量部)を添加した。その後、反応系内の温度を約80℃に保持しつつ約4時間反応させてイソシアネート末端プレポリマーB(NCOwt%:6.99wt%)を合成した。
容器にイソシアネート末端プレポリマーB(150重量部)、及びSH−192(5重量部)を入れて混合し、40℃に調整して減圧脱泡して第1成分を調製した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、25℃に温調したトリエチレングリコール(15重量部)、及び触媒(No.25)0.1重量部を混合した第2成分を前記第1成分を添加し(NCO/OH=1.25)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、259.1mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2(計算値)である。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、ほとんどが独立気泡であった。
比較例3
容器にPTMG2000(550重量部)、及びPTMG650(200重量部)を入れ、撹拌しながら減圧脱水を約1時間行った。その後、反応容器内を窒素置換した。そして、反応容器内にミリオネートMT(620重量部)を添加した。その後、反応系内の温度を約80℃に保持しつつ約4時間反応させてイソシアネート末端プレポリマーC(NCOwt%:11.73wt%)を合成した。
容器にイソシアネート末端プレポリマーC(137重量部)、及びSH−192(5重量部)を入れて混合し、40℃に調整して減圧脱泡して第1成分を調製した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、25℃に温調したトリエチレングリコール(25重量部)、及び触媒(No.25)0.08重量部を混合した第2成分を前記第1成分を添加し(NCO/OH=1.15)、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。なお、平均水酸基価(OHVav)は、252.15mgKOH/g(計算値)、平均官能基数(fav)は、2(計算値)である。その後、実施例1と同様の方法で積層シートを作製した。ポリウレタン発泡層の断面を顕微鏡で観察したところ、ほとんどが独立気泡であった。
Figure 0004775896
実施例1〜4の積層シートは、連続気泡構造を有するため表面精度が高く、かつ吸着性にも優れるものであった。比較例1の積層シートは独立気泡構造を有しており、吸着性には優れるものであったが、表面精度が悪かった。そのため、研磨時の被研磨材の研磨均一性が低下する。比較例2及び3の積層シートは独立気泡構造を有しており、吸着性及び表面精度が共に悪かった。

Claims (10)

  1. 基材シートとポリウレタン発泡層とからなる積層シートにおいて、前記ポリウレタン発泡層は球状の連続気泡を有しており、該連続気泡の表面には円形孔が形成されており、該連続気泡の平均気泡径が20〜300μmであり、該円形孔の平均直径が100μm以下であることを特徴とする被研磨材保持用積層シート。
  2. 前記ポリウレタン発泡層は、イソシアネート成分と活性水素含有化合物とを原料成分として含有し、前記活性水素含有化合物は、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含有する請求項記載の被研磨材保持用積層シート。
  3. 前記ポリウレタン発泡層は、イソシアネート成分と、高分子量ポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有し、前記高分子量ポリオールは、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを20〜100重量%含有する請求項1又は2記載の被研磨材保持用積層シート。
  4. 前記ポリマーポリオールは、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gである請求項記載の被研磨材保持用積層シート。
  5. 前記活性水素含有化合物は、水酸基価が400〜1830mgKOH/gの低分子量ポリオール及び/又はアミン価が400〜1870mgKOH/gの低分子量ポリアミンを2〜15重量%含有する請求項のいずれかに記載の被研磨材保持用積層シート。
  6. イソシアネート成分と、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有す
    る気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された、平均気泡径が20〜300μmであり、円形孔の平均直径が100μm以下である球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む被研磨材保持用積層シートの製造方法。
  7. イソシアネート成分と、官能基数が2〜4、水酸基価が20〜100mgKOH/gの高分子量ポリオールを60〜85重量%含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された、平均気泡径が20〜300μmであり、円形孔の平均直径が100μm以下である球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む被研磨材保持用積層シートの製造方法。
  8. イソシアネート成分と、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された、平均気泡径が20〜300μmであり、円形孔の平均直径が100μm以下である球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む被研磨材保持用積層シートの製造方法。
  9. イソシアネート成分と、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーポリオールを含む活性水素含有化合物とを原料成分として含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより、気泡表面に円形孔が形成された、平均気泡径が20〜300μmであり、円形孔の平均直径が100μm以下である球状の連続気泡を有するポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む被研磨材保持用積層シートの製造方法。
  10. 請求項のいずれかに記載の方法によって製造される被研磨材保持用積層シート。
JP2006072873A 2005-07-15 2006-03-16 積層シート及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4775896B2 (ja)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006072873A JP4775896B2 (ja) 2006-03-16 2006-03-16 積層シート及びその製造方法
SG201004207-5A SG162794A1 (en) 2005-07-15 2006-07-07 Layered sheets and processes for producing the same
SG201004223-2A SG162797A1 (en) 2005-07-15 2006-07-07 Layered sheets and processes for producing the same
KR1020087003404A KR100960585B1 (ko) 2005-07-15 2006-07-07 적층 시트 및 그 제조 방법
CN200910178370.3A CN101704309B (zh) 2005-07-15 2006-07-07 层叠片及其制造方法
PCT/JP2006/313597 WO2007010766A1 (ja) 2005-07-15 2006-07-07 積層シート及びその製造方法
CN2009101783690A CN101724167B (zh) 2005-07-15 2006-07-07 层叠片及其制造方法
CN2006800259433A CN101223016B (zh) 2005-07-15 2006-07-07 层叠片及其制造方法
US11/995,311 US7927452B2 (en) 2005-07-15 2006-07-07 Layered sheets and processes for producing the same
TW095125437A TW200706551A (en) 2005-07-15 2006-07-12 Layered sheets and processes for producing the same
US13/038,849 US8318298B2 (en) 2005-07-15 2011-03-02 Layered sheets and processes for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006072873A JP4775896B2 (ja) 2006-03-16 2006-03-16 積層シート及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007245571A JP2007245571A (ja) 2007-09-27
JP4775896B2 true JP4775896B2 (ja) 2011-09-21

Family

ID=38590349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006072873A Expired - Fee Related JP4775896B2 (ja) 2005-07-15 2006-03-16 積層シート及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4775896B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007049811B4 (de) * 2007-10-17 2016-07-28 Peter Wolters Gmbh Läuferscheibe, Verfahren zur Beschichtung einer Läuferscheibe sowie Verfahren zur gleichzeitigen beidseitigen Material abtragenden Bearbeitung von Halbleiterscheiben
JP5393040B2 (ja) * 2008-03-10 2014-01-22 東洋ゴム工業株式会社 研磨パッド
JP5049844B2 (ja) * 2008-03-31 2012-10-17 東洋ゴム工業株式会社 積層シート
KR101529152B1 (ko) * 2012-06-11 2015-06-24 주식회사 덕성 폴리우레탄 발포 시트의 제조방법 및 그것을 사용한 피혁 유사 시트형상물
KR101763872B1 (ko) * 2013-10-04 2017-08-01 주식회사 엘지화학 폴리우레탄 지지 패드
JP6696756B2 (ja) * 2014-11-13 2020-05-20 富士紡ホールディングス株式会社 保持具及びその製造方法
JP7072846B2 (ja) * 2018-04-04 2022-05-23 不二越機械工業株式会社 ハイブリッドレーザー加工装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6042431A (ja) * 1983-08-19 1985-03-06 Mitui Toatsu Chem Inc ポリウレタンフォームシート類及びその多層体の熱加工方法
JP2552954B2 (ja) * 1990-11-29 1996-11-13 東京シート株式会社 ウレタンフォーム成形品の製造方法
JPH05329852A (ja) * 1992-05-29 1993-12-14 Fuji Kobunshi Kk 発泡ポリウレタン成型物の製造方法
JP3549219B2 (ja) * 1993-03-15 2004-08-04 セーレン株式会社 フォーム複合体の製造法
JPH11207758A (ja) * 1998-01-28 1999-08-03 Hitachi Chem Co Ltd 化粧面を有する繊維強化ポリウレタンフォームおよびその製造方法
JP2002060452A (ja) * 2000-08-10 2002-02-26 Toho Chem Ind Co Ltd 吸音・制振材用ポリウレタンフォームの製造方法
JP3774202B2 (ja) * 2002-04-03 2006-05-10 三洋化成工業株式会社 軟質ポリウレタンフォームの製造方法
JP4086531B2 (ja) * 2002-04-16 2008-05-14 株式会社イノアックコーポレーション クッション体
JP4078643B2 (ja) * 2002-12-10 2008-04-23 東洋ゴム工業株式会社 研磨パッドの製造方法、研磨パッド、及び半導体デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007245571A (ja) 2007-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7927452B2 (en) Layered sheets and processes for producing the same
KR101399516B1 (ko) 연마 패드 및 그 제조 방법
JP5248152B2 (ja) 研磨パッド
JP4593643B2 (ja) 研磨パッド
JP4261586B2 (ja) 研磨パッドの製造方法
KR101177781B1 (ko) 연마 패드의 제조 방법
WO2008029538A1 (fr) Tampon à polir
JP4775896B2 (ja) 積層シート及びその製造方法
WO2013042507A1 (ja) 研磨パッド
JP4775898B2 (ja) 積層シート
JP2009241224A (ja) 研磨パッド作製用積層シート
JP5049844B2 (ja) 積層シート
JP2008168416A (ja) 研磨パッド
JP5306677B2 (ja) 研磨パッド
JP5230227B2 (ja) 研磨パッド
JP5377909B2 (ja) 研磨パッド及びその製造方法
JP4775897B2 (ja) 積層シートの製造方法及び積層シート
JP5242427B2 (ja) 研磨パッド及びその製造方法
JP2008307683A (ja) 研磨パッドの製造方法
JP2007245299A (ja) 積層シートの製造方法
JP5184200B2 (ja) 研磨パッド
JP2011235426A (ja) 研磨パッド
JP2009214220A (ja) 研磨パッド
JP4970963B2 (ja) 研磨パッドの製造方法
JP4465368B2 (ja) 研磨パッド

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110408

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110603

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20110603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110622

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110623

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees