JP4769209B2 - 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 - Google Patents
絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4769209B2 JP4769209B2 JP2007026605A JP2007026605A JP4769209B2 JP 4769209 B2 JP4769209 B2 JP 4769209B2 JP 2007026605 A JP2007026605 A JP 2007026605A JP 2007026605 A JP2007026605 A JP 2007026605A JP 4769209 B2 JP4769209 B2 JP 4769209B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating resin
- polymer
- epoxy compound
- compound
- cyanate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 105
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 105
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 title claims description 25
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 43
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 43
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 22
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- -1 cyanate compound Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 11
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 6
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
絶縁樹脂の金属化:
(1)親水化処理
シアネートタイプ樹脂フィルム(ABF-GZ9-2:味の素ファインテクノ社製)を170℃で30分間の真空プレスにより、FR−4両面銅張板の表面にラミネートした。ラミネート後の樹脂フィルム表面の表面粗さ(Rz)を表面形状測定装置(VF-7500:キーエンス社製)で測定したところ0.35μmであった。この樹脂フィルム表面に紫外線照射装置(センエンジニアリング社製)を用い、大気中で紫外線(波長254nm、紫外線強度20mW/cm2)を5分間照射し、親水化処理をした。親水化処理後の樹脂表面の表面粗さ(Rz)は0.38μmであった。
上記(1)で親水化処理した樹脂を、50℃のアルカリ性脱脂液(PB−120:荏原ユージライト社製)で5分間脱脂処理した後、50℃の1級ポリアリルアミン(PAA−15C:日東紡社製)を1g/Lで含有するポリマー水溶液に5分間浸漬し、コンデショニング処理した。
上記(2)でコンディショニング処理した樹脂を、50℃のパラジウム触媒液(PC−65H:荏原ユージライト社製)に5分間浸漬してパラジウム触媒を付与した後、更に30℃の促進処理液(PC−66H:荏原ユージライト社製)で3分間促進処理をした。
上記(3)で触媒付与処理した樹脂を、30℃の無電解銅めっき液(PB−506:荏原ユージライト社製)に15分間浸漬して、樹脂上に厚さ0.5μmの銅めっき皮膜を形成させた。更にこれを120℃のオーブンで1時間の乾燥処理をした。
上記(4)で無電解めっき処理した樹脂を、電気銅めっき液(CU−BRITE21:荏原ユージライト社製)に浸漬し、電流密度3A/dm2で40分間処理し、樹脂上に厚さ25μmの銅めっき皮膜を形成した。更にこれを180℃のオーブンで1時間の乾燥処理をした。
絶縁樹脂の金属化:
実施例1の(2)において、ポリマー水溶液に含まれるポリマーを、それぞれ1級ポリビニルアミン(PVAM−0570B:ダイヤニトリックス社製)、2級ポリジアリルアミン(PAS−21CL1:日東紡社製)、1級ポリアリルアミンと2級ポリジアリルアミンとの共重合体(PAA−D11−HCl:日東紡社製)または1級ポリビニルアミジンPVAD−L(ダイヤニトリックス社製)に変更する以外は、実施例1と同様に処理して絶縁樹脂を金属化した。
絶縁樹脂の金属化:
実施例1の(2)において、ポリマー水溶液を、それぞれ3級ポリジアリルアミン(PAS−M1:日東紡社製)、4級ポリジアリルアミン(PAS−H−1L:日東紡社製)、ポリエチレンイミン(エポミンSP−110:日本触媒社製)または4級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤(コータミン24P:花王製)を1g/Lで含む水溶液に変更する以外は、実施例1と同様に処理して絶縁樹脂を金属化した。
絶縁樹脂の金属化:
実施例1の(1)〜(5)の処理のうち、(2)のコンディショニング処理を行わない以外は、実施例1と同様に処理して絶縁樹脂を金属化した。
90°ピール強度の測定:
上記実施例1、実施例2、比較例1および比較例2で得られためっき製品の90°ピール強度を測定した。その結果を表1に示した。90°ピール強度の測定は、めっき被膜に、カッターにより1cm幅で切込みを入れた後、JIS−C5012に基づいて行った。
絶縁樹脂の金属化:
(1)親水化処理
ポリイミドフィルムカプトン100EN(東レ・デュポン社製)を50℃の水酸化ナトリウム水溶液(50g/L)に5分間浸漬し、親水化処理した。
上記(1)で親水化処理した樹脂を、50℃のポリジアリルアミン(PAA−15C:日東紡社製)を1g/Lで含有するポリマー水溶液に5分間浸漬し、コンデショニング処理した。
上記(2)でコンディショニング処理した樹脂を、40℃のパラジウム触媒液(PB−318荏原ユージライト社製)に5分間浸漬し、パラジウム触媒を付与した後、30℃の促進処理液(PB−445:荏原ユージライト社製)で3分間促進処理をした。
上記(3)で触媒付与処理した樹脂を、30℃の無電解銅めっき(PB−506:荏原ユージライト社製)に15分間浸漬して厚さ0.5μmの銅めっき皮膜を形成させた。これを120℃のオーブンで1時間の乾燥処理をした。
上記(4)で無電解めっき処理した樹脂を、電気銅めっき(CU−BRITE21:荏原ユージライト社製)に浸漬し、電流密度3A/dm2で40分間処理し、樹脂上に厚さ25μmの銅めっき皮膜を形成した。更にこれを180℃のオーブンで1時間の乾燥処理をして、絶縁樹脂を金属化した。
絶縁樹脂の金属化:
参考例1(2)のポリマー水溶液を、カチオン界面活性剤(コータミン24P:花王製)を1g/L含む水溶液に変更する以外は参考例1と同様にしてめっき製品を得た。このめっき製品について試験例1と同様に90°ピール強度を測定したところ0.1kN/mであった。
Claims (11)
- シアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂を親水化処理した後に、1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーを含有する溶液で処理することを特徴とするシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂のコンディショニング方法。
- 1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーが、ビニルアミン、アリルアミン、ジアリルアミンおよびビニルアミジンから選ばれるモノマーの重合体または前記モノマーの共重合体である請求項1記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂のコンディショニング方法。
- シアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂が、表面粗さ(Rz)が1μm以下のものである請求項1または2に記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂のコンディショニング方法。
- シアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂を親水化処理し、次いで、これを1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーを含有する溶液で処理し、更に、これに触媒を付与した後、金属化処理を行うことを特徴とするシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂の金属化方法。
- 1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーが、ビニルアミン、アリルアミン、ジアリルアミンもしくはビニルアミジンから選ばれるモノマーの重合体または前記モノマーの共重合体である請求項4記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂の金属化方法。
- シアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂が、表面粗さ(Rz)が1μm以下のものである請求項4または5に記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂の金属化方法。
- 金属化処理が、無電解めっきである請求項4ないし6のいずれかに記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂の金属化方法。
- 1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーを含有するシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂用のコンディショニング液。
- 1級アミンもしくは2級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーが、ビニルアミン、アリルアミン、ジアリルアミンおよびビニルアミジンから選ばれるモノマーの重合体または前記モノマーの共重合体である請求項8に記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂用のコンディショニング液。
- 請求項4ないし7の何れかに記載のシアネート化合物とエポキシ化合物からなる絶縁樹脂の絶縁樹脂の金属化方法により得られる金属めっき製品。
- 金属めっき製品のJIS−C5012に基づく90°ピール強度が、0.5kN/m以上である請求項10記載の金属めっき製品。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007026605A JP4769209B2 (ja) | 2007-02-06 | 2007-02-06 | 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 |
TW97120483A TWI419997B (zh) | 2007-02-06 | 2008-06-02 | Adjustment Method of Insulating Resin and Its Utilization |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007026605A JP4769209B2 (ja) | 2007-02-06 | 2007-02-06 | 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008189831A JP2008189831A (ja) | 2008-08-21 |
JP4769209B2 true JP4769209B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=39750234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007026605A Active JP4769209B2 (ja) | 2007-02-06 | 2007-02-06 | 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4769209B2 (ja) |
TW (1) | TWI419997B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5129171B2 (ja) * | 2009-01-23 | 2013-01-23 | 新日鉄住金化学株式会社 | 回路配線基板の製造方法 |
JP5742701B2 (ja) * | 2011-12-14 | 2015-07-01 | トヨタ自動車株式会社 | 無電解めっき処理方法 |
JP2014031395A (ja) * | 2012-08-01 | 2014-02-20 | Kanto Gakuin | 親水性官能基含有樹脂用のコンディショニング液、コンディショニング方法およびこれらを利用した親水性官能基含有樹脂の金属化方法 |
JP2015190056A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-02 | 株式会社サーテックカリヤ | 無電解めっき方法および無電解めっき物 |
CN106459318B (zh) * | 2014-04-16 | 2019-11-08 | 索理思科技公司 | 改性的含乙烯胺的聚合物及其在造纸中的用途 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60228678A (ja) * | 1984-04-26 | 1985-11-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 高分子材料表面に対する金属被膜形成方法 |
JPH05320923A (ja) * | 1992-05-22 | 1993-12-07 | Nitto Boseki Co Ltd | 無電解めっき法及びこれに用いる前処理液 |
JPH06279602A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-04 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 無電解めっき可能なポリオレフィン樹脂成形体 |
JP2003512490A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼイション | 機能性高分子表面の調製方法 |
JP4717268B2 (ja) * | 2001-01-12 | 2011-07-06 | 富士通株式会社 | 絶縁樹脂組成物及びそれから形成した絶縁層を含む多層回路基板 |
US8092900B2 (en) * | 2004-08-05 | 2012-01-10 | Kaneka Corporation | Solution, component for plating, insulating sheet, laminate, and printed circuit board |
JP2006077289A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Ebara Udylite Kk | 無電解めっきの前処理方法及びこれに使用する前処理液 |
-
2007
- 2007-02-06 JP JP2007026605A patent/JP4769209B2/ja active Active
-
2008
- 2008-06-02 TW TW97120483A patent/TWI419997B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200951246A (en) | 2009-12-16 |
JP2008189831A (ja) | 2008-08-21 |
TWI419997B (zh) | 2013-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5793425B2 (ja) | 多孔質層を有する積層体、及びそれを用いた機能性積層体 | |
EP2007931B1 (en) | Polyimide substrate and method of manufacturing printed wiring board using the same | |
CN104975276B (zh) | 在塑料表面形成选择性金属线路的方法及塑料部件 | |
WO2009141909A1 (ja) | 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 | |
JP4769209B2 (ja) | 絶縁樹脂のコンディショニング方法およびその利用 | |
TWI664323B (zh) | 形成金屬層之方法及製造具有該金屬層之基板之方法 | |
JPH028476B2 (ja) | ||
JPH04211192A (ja) | ポリイミド表面にメッキをするために予めその表面を処理する方法 | |
KR20110090726A (ko) | 무전해 도금용 예비처리 용액 | |
JP2012248770A (ja) | 金属膜パターンが形成された樹脂基材 | |
JP5149805B2 (ja) | 無電解銅めっき方法 | |
US20030015498A1 (en) | Solvent swell for texturing resinous material and desmearing and removing resinous material | |
US20190017175A1 (en) | Method of forming a metal layer on a photosensitive resin | |
JPWO2008132926A1 (ja) | エッチング液およびこれを用いたプラスチック表面の金属化方法 | |
JP2014028326A (ja) | 多孔質層を有する積層体及びその製造方法 | |
JP4064801B2 (ja) | 金属膜形成処理方法、半導体装置及び配線基板 | |
JP2006104504A (ja) | ポリイミド樹脂材の無電解めっき前処理方法および表面金属化方法、並びにフレキシブルプリント配線板およびその製造方法 | |
KR20210053937A (ko) | 적층체 | |
JP2007262481A (ja) | ポリイミド樹脂材の表面金属化方法 | |
JPH03173196A (ja) | 無電解金属化用のラミネートおよびこれから作られたプリント回路および該ラミネートの製造法 | |
JP2007077439A (ja) | ポリイミド樹脂材の表面金属化方法 | |
JP4370490B2 (ja) | ビルドアップ多層プリント配線板及びその製造方法 | |
JP2006077289A (ja) | 無電解めっきの前処理方法及びこれに使用する前処理液 | |
JP2006219715A (ja) | 耐熱性絶縁樹脂の金属めっき方法 | |
JPH032354B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080919 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110607 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4769209 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |