JP4767643B2 - テープ研磨装置 - Google Patents

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Description

この発明は、テープ研磨装置に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの突起欠陥部を研磨して修正するテープ研磨装置に関する。
図8は、プラズマディスプレイの背面ガラス基板101の構成を示す斜視図である。プラズマディスプレイは、対向する2枚のガラス基板(前面ガラス基板と背面ガラス基板)で構成されている。図8を参照して、プラズマディスプレイの背面ガラス基板101上には、高さが150μm程度で幅が60〜100μm程度のリブ(微細パターン)102が数百μmピッチで形成されている。プラズマディスプレイの製造工程において、リブ102に突起欠陥が発生することがある。
図9は、リブ102の突起欠陥部103を示す斜視図である。図9を参照して、リブ102の正常なトップ面102aよりも盛り上がった突起欠陥部103が存在している。このようにリブ102に突起欠陥部103があると、前面ガラス基板と背面ガラス基板とを張り合わせたときに隙間ができたり、突起欠陥部103が押し潰されて不具合が生じることがある。歩留まりの向上を図るため、ガラス基板を張り合わせる前に、突起欠陥部103を正常なトップ面102aと同じ高さまで削り取って修正する必要がある。
従来より、プラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの製造工程において発生した突起欠陥部を修正する方法として、レーザ光を照射して突起欠陥部を除去するレーザ加工法、砥石や刃物などで突起欠陥部を削る機械加工法、研磨テープによって突起欠陥部を研磨するテープ研磨法などがある。
たとえば、下記の特許文献1には、研磨ヘッドに研磨テープを接触させた状態でカラーフィルタ面までの距離を測定し、研磨テープの厚さを補正しながら精度の高い修正が可能な異物修正装置が開示されている。
特開平9−234660号公報
しかしながら、レーザ加工法では高精度の加工を行なうのが困難である。また、機械加工法では基板が搭載される台座の振動が加工精度に影響する。さらに、工具(砥石、刃物)の寿命が問題になり工具交換にも手間がかかる。
テープ研磨法では、比較的高精度に加工することができる。しかし、研磨ヘッドから基板までの距離を正確に測定する必要があり、その測定の精度が加工精度を左右するという問題がある。
それゆえに、この発明の主たる目的は、研磨加工を高精度に行なうことができるテープ研磨装置を提供することである。
この発明に係わるテープ研磨装置は、基板上に形成された微細パターンの突起欠陥部を研磨して修正するテープ研磨装置であって、突起欠陥部を研磨するための研磨テープと、その底面で研磨テープを突起欠陥部に押し当てるための研磨ヘッドと、研磨テープを研磨ヘッドの底面に沿って所定の速度で送るテープ送り機構と、所定の押付力になるように制御しながら研磨ヘッドを下方に押し付ける押付制御機構とを含むテープ研磨ユニットと、基板とテープ研磨ユニットを相対的に移動させる移動装置とを備え、研磨ヘッドの底面は、突起欠陥部よりも大きく、押付制御機構は、研磨ヘッドの底面全体が微細パターンに押し付けられているときの押付圧力が、微細パターンの材料を研磨することが可能な最小押付圧力よりも小さくなるように、所定の押付力を予め設定することを特徴とする。
好ましくは、押付制御機構は、圧縮バネの伸張力または圧縮空気の膨張力を利用して、研磨ヘッドを下方に押し付けることを特徴とする。
また好ましくは、研磨ヘッドは、円柱形状を有することを特徴とする。
また好ましくは、研磨ヘッドの底面の縁は、丸みを帯びたR形状を有することを特徴とする。
また好ましくは、さらに、テープ研磨ユニットの基板に対する傾きを調整する傾き調整機構を備えることを特徴とする。
この発明に係わるテープ研磨装置では、突起欠陥部を研磨するための研磨テープと、その底面で研磨テープを突起欠陥部に押し当てるための研磨ヘッドと、研磨テープを研磨ヘッドの底面に沿って所定の速度で送るテープ送り機構と、所定の押付力になるように制御しながら前記研磨ヘッドを下方に押し付ける押付制御機構とを含むテープ研磨ユニットと、基板とテープ研磨ユニットを相対的に移動させる移動装置とを備え、研磨ヘッドの底面は、突起欠陥部よりも大きく、押付制御機構は、研磨ヘッドの底面全体が微細パターンに押し付けられているときの押付圧力が、微細パターンの材料を研磨することが可能な最小押付圧力よりも小さくなるように、所定の押付力を予め設定することを特徴とする。したがって、微細パターンが正常なトップ面よりも下まで研磨されることがなくなり、研磨加工を高精度に行なうことが可能になる。
図1は、この発明の一実施の形態によるテープ研磨装置の全体構成を示す図である。図1において、このテープ研磨装置は、基板1の表面を観察する観察機構2と、観察された画像を映し出すモニタ3と、基板1上に形成されたリブの正常なトップ面の高さを測定する位置検出機構4と、リブの突起欠陥部を研磨するテープ研磨ユニット5と、研磨時に発生した切り屑を吸引する切り屑吸引機構6と、装置全体を制御するコントローラ7とを備える。さらに、その他に基板1をXY方向(水平方向)に移動させるXYテーブル8と、観察機構2、位置検出機構4、テープ研磨ユニット5をZ方向(垂直方向)に移動させるZテーブル9などが設けられている。
次に、このテープ研磨装置の使用方法について説明する。まず、観察機構2で基板1の表面を観察して、基板1上に形成されたリブの突起欠陥部を探す。次に、図2(A)に示すように、基板1上に形成されたリブ11の突起欠陥部12近傍の上方に位置検出機構4を配置する。そして、位置検出機構4でリブ11の正常なトップ面11aの高さ(基準位置)を測定する。通常は、位置検出機構4として、レーザ変位計などの非接触変位計が使用される。
次に、図2(B)に示すように、突起欠陥部12の上方にテープ研磨ユニット5を配置させる。テープ研磨ユニット5は、突起欠陥部12を研磨するための研磨テープ13と、所定の回転速度で回転駆動される供給リール14aおよび巻取リール14bと、補助リール15a,15bと、その底面で研磨テープ13を突起欠陥部12に押し当てるための研磨ヘッド16と、バネの伸張力によって研磨ヘッド16を下方に押し付ける圧縮バネ17と、圧縮バネ17による押付力が所定の押付力Fになるように制御する押付力制御部18とを備える。圧縮バネ17および押付力制御部18は、研磨ヘッド16を所定の押付力Fで下方に押し付ける押付制御機構を構成する。なお、圧縮バネ17を用いる代わりに、圧縮空気の膨張力を利用してもよい。
供給リール14a、巻取リール14bおよび補助リール15a,15bは、研磨テープ13を研磨ヘッド16の底面に沿って所定の速度で送るテープ送り機構を構成する。供給リール14aおよび巻取リール14bの回転速度は、突起欠陥部12の材質に応じて任意に調整される。
次に、テープ研磨ユニット5を突起欠陥部12に向けてゆっくりと下降させていく。そして、図2(C)に示すように、研磨テープ13を所定の速度で送りながら突起欠陥部12に押し当てて、突起欠陥部12を研磨する。引き続いて、図2(D)に示すように、テープ研磨ユニット5をさらに下降させて突起欠陥部12を研磨する。最終的には、位置検出機構4によって測定された基準位置まで研磨ヘッド16を下降させ、突起欠陥部12をリブ11の正常なトップ面11aと同じ高さまで研磨して、研磨加工を終了する(図2(E)参照)。
ここで、従来のテープ研磨装置では、小さな直径(たとえばφ0.1〜0.5mm)の円柱型の研磨ヘッド16が使用されていた。研磨ヘッド16の直径が小さいほど、基板1に対して研磨ヘッド16が傾いた場合に加工精度への悪影響が少なくなるなどのメリットがある。ところが、近年は比較的大きな突起欠陥が発生する確率が増加しており、研磨ヘッド16の底面積よりも大きなサイズの突起欠陥部を修正するためには、研磨ヘッド16を走査しながら突起欠陥部12を研磨加工したり、複数回繰り返して研磨テープ13を突起欠陥部12に押し当てるなどの工夫する必要があり、タクトタイムが膨大になってしまうという問題があった。
さらに、研磨性能を考慮して圧縮バネ17による押付力Fを大きくしていたため、研磨ヘッド16の押付圧力Pが突起欠陥部12およびリブ11の材料を研磨可能な最小押付圧力値Pminよりも常に大きくなっていた。この場合、研磨性能は良いが、正常なリブ11まで削り取ってしまわないように基準位置に対して研磨ヘッド16を正確に位置制御する必要がある。たとえば、位置検出機構4によって測定された基準位置に誤差があれば研磨加工を正確に行なうことができなくなるため、かなり高精度な測定性能が要求される。
そこで、この一実施の形態では、図3(A)に示すように、突起欠陥部12のサイズよりも大きな底面積Atotalを有する研磨ヘッド16を使用する。たとえば、突起欠陥部12の長さLよりも大きな直径Dhed(たとえばφ2mm以上)を有する円柱型の研磨ヘッド16を使用する。さらに、研磨ヘッド16の底面全体がリブ11に押し付けられているときの押付圧力Ptotalが最小押付圧力値Pminよりも小さくなるように、圧縮バネ17による押付力F(=Ptotal×Atotal)を予め設定する。なお、研磨ヘッド16の底面積Atotalはπ×(Dhed/2)2で表わされる。
この場合、図3(B)に示すように、テープ研磨ユニット5とともに研磨ヘッド16を下降させて、研磨テープ13を突起欠陥部12に押し当てて研磨しているときの押付圧力PはF/Aとなる。ただし、研磨ヘッド16の底面積Atotalのうちの突起欠陥部12に押し付けられている部分の面積をAとする。
突起欠陥部12の形状は一般的に山形状であり、研磨加工開始時は研磨ヘッド16の底面全体のうち突起欠陥部12に押し付けられている部分の面積Aは、研磨ヘッド16の底面積Atotalよりも小さいため、押付圧力P(=F/A)>Pminの関係が成立している。このため、突起欠陥部12は良好に研磨される。
続いて、図3(C)に示すように、テープ研磨ユニット5とともに研磨ヘッド16をさらに下降させて研磨加工を続けると、研磨ヘッド16の底面全体のうち突起欠陥部12に押し付けられている部分の面積Aが次第に大きくなっていくため、押付圧力P(=F/A)が小さくなっていき、突起欠陥部12が研磨されにくくなってくる。
そして、図3(D)に示すように、基準位置まで研磨ヘッド16を下降させて
、突起欠陥部12をリブ11の正常なトップ面11aと同じ高さまで研磨すると、研磨ヘッド16の底面全体がリブ11に押し付けられる。このときの研磨ヘッド16の押付圧力Ptotal(=F/Atotal)が、突起欠陥部12およびリブ11の材料を研磨可能な最小押付圧力値Pminよりも小さくなるように、圧縮バネ17による押付力Fが予め設定されている。このため、リブ11が正常なトップ面11aよりも下まで研磨されることがなくなる。仮に、位置検出機構4によって測定された基準位置に誤差があったとしても、研磨加工を正確に行なうことができる。
したがって、位置検出機構4の測定精度などに影響されることなく、突起欠陥部12を完全に除去することができ、またリブ11が正常なトップ面11aよりも下まで研磨されることもなくなり、研磨加工を高精度に行なうことが可能になる。さらに、突起欠陥部12のサイズよりも大きな底面積Atotalを有する研磨ヘッド16を使用するため、突起欠陥部12を一度に修正することができ、タクトタイムを大幅に短縮することが可能となる。
なお、ここでは円柱型の研磨ヘッド16を用いた場合について説明したが、これに限定されるものではない。研磨ヘッド16の形状に係らず、研磨ヘッド16の底面積Atotalが突起欠陥部12のサイズよりも大きくなるようにすれば、同様の効果が得られる。
ただし、この一実施の形態では、従来よりも大きな直径Dhedの研磨ヘッド16を使用するため、図4(A)に示すように、基板1に対して研磨ヘッド16が傾いている場合は、加工精度への悪影響が大きくなる。
たとえば、位置検出機構4によって測定された基準位置に誤差があった場合、テープ研磨ユニット5とともに研磨ヘッド16を下降させていくと、図4(B)に示すように、リブ11が正常なトップ面11aよりも下まで研磨されてしまうことがある。すると、図4(C)に示すように、正常なリブ11まで削り取られてしまう。
そこで、この一実施の形態では、テープ研磨ユニット5の傾きを微調整する傾き調整機構を設ける。図5(A)(B)は、テープ研磨ユニット5の傾き調整機構の構成および動作を示す図である。図5(A)を参照して、ナット21a,21bはともに図1に示したZテーブル9に固定されており、調整ネジ22a,22bはそれぞれナット21a,21bにねじ込まれている。また、テープ研磨ユニット5は、図1に示したZテーブル9に傾き調整可能なように設けられている。
ナット21a,21bおよび調整ネジ22a,22bは傾き調整機構を構成しており、テープ研磨ユニット5が傾いている場合や基板1を搭載したXYテーブル8が傾いている場合など基板1に対して研磨ヘッド16が傾いている場合であっても、研磨ヘッド16が基板1に対して垂直になるようにテープ研磨ユニット5の傾きを微調整することができる(図5(B)参照)。したがって、研磨加工を正確に行なうことが可能になる。
なお、テープ研磨ユニット5の傾きの影響を最小限に抑えるために、図6に示すように、その底面の縁が丸みを帯びたR形状を有する円柱型の研磨ヘッド16を使用してもよい。ただし、研磨ヘッド16の底面のうちR形状部分を含まない平面部分の底面積Atotalに対して、押付圧力Ptotal(=F/Atotal)<最小押付圧力値Pminとなるようにする。また、図7に示すように、その底面が球面形状を有する円柱型の研磨ヘッド16を使用してもよい。
また、この一実施の形態では、プラズマディスプレイの背面ガラス基板1上に形成されたリブ11の突起欠陥部12を修正する場合を示したが、この用途に限定されるものではなく、プラズマディスプレイ以外のフラットパネルディスプレイの製造工程において発生した突起欠陥部を修正することも可能である。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
この発明の一実施の形態によるテープ研磨装置の全体構成を示す図である。 図1に示したテープ研磨装置の使用方法を示す図である。 図2に示したテープ研磨ユニットの要部の動作を示す図である。 基板に対して研磨ヘッドが傾いている場合のテープ研磨ユニットの要部の動作を示す図である。 テープ研磨ユニットの傾き調整機構の構成および動作を示す図である。 研磨ヘッドの形状の変更例を示す図である。 研磨ヘッドの形状の他の変更例を示す図である。 プラズマディスプレイの背面ガラス基板の構成を示す斜視図である。 リブの突起欠陥部を示す斜視図である。
符号の説明
1,101 基板、2 観察機構、3 モニタ、4 位置検出機構、5 テープ研磨ユニット、6 切り屑吸引機構、7 コントローラ、8 XYテーブル、9 Zテーブル、11,102 リブ、11a,102a トップ面、12,103 突起欠陥部、13 研磨テープ、14a 供給リール、14b 巻取リール、15a,15b 補助リール、16 研磨ヘッド、17 圧縮バネ、18 押付力制御部、21a,21b ナット、22a,22b 調整ネジ。

Claims (5)

  1. 基板上に形成された微細パターンの突起欠陥部を研磨して修正するテープ研磨装置であって、
    前記突起欠陥部を研磨するための研磨テープと、その底面で前記研磨テープを前記突起欠陥部に押し当てるための研磨ヘッドと、前記研磨テープを前記研磨ヘッドの底面に沿って所定の速度で送るテープ送り機構と、所定の押付力になるように制御しながら前記研磨ヘッドを下方に押し付ける押付制御機構とを含むテープ研磨ユニット、および
    前記基板と前記テープ研磨ユニットを相対的に移動させる移動装置を備え、
    前記研磨ヘッドの底面は、前記突起欠陥部よりも大きく、
    前記押付制御機構は、前記研磨ヘッドの底面全体が前記微細パターンに押し付けられているときの押付圧力が、前記微細パターンの材料を研磨することが可能な最小押付圧力よりも小さくなるように、前記所定の押付力を予め設定することを特徴とする、テープ研磨装置。
  2. 前記押付制御機構は、圧縮バネの伸張力または圧縮空気の膨張力を利用して、前記研磨ヘッドを下方に押し付けることを特徴とする、請求項1に記載のテープ研磨装置。
  3. 前記研磨ヘッドは、円柱形状を有することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のテープ研磨装置。
  4. 前記研磨ヘッドの底面の縁は、丸みを帯びたR形状を有することを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれかに記載のテープ研磨装置。
  5. さらに、前記テープ研磨ユニットの前記基板に対する傾きを調整する傾き調整機構を備えることを特徴とする、請求項1から請求項4までのいずれかに記載のテープ研磨装置。
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