JP4767509B2 - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Description
12 真空槽
34 ホルダ
36 被処理物
40 カソード
42 アノード
44 カソード加熱用電源装置
46 カソードバイアス用電源装置
48 アノード用電源装置
50,52 磁界発生器
58 ガス管
64 高周波電源装置
66 電圧制御回路
68 プラズマ領域
Claims (4)
- イオンプレーティング法により被処理物の表面に絶縁性被膜である窒化ホウ素膜を生成する成膜装置において、
上記被処理物に交流のバイアス電力を供給するバイアス供給手段と、
上記被処理物に上記バイアス電力が供給されることによって該バイアス電力に重畳される直流成分の電圧値を取得して該電圧値の絶対値が段階的に増大するように上記バイアス供給手段を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする、成膜装置。 - 上記絶対値の1段階当たりの増大量は5Vであり、かつ、該絶対値の増大度合は1分間につき5V以下である、請求項1に記載の成膜装置。
- カソード電力が供給されることによって加熱されて熱電子を放出するカソードと、
アノード電力が供給されることによって上記熱電子を加速させて上記イオンプレーティング法のためのプラズマを発生させるアノードと、
上記窒化ホウ素膜の生成過程において上記被処理物の表面に上記プラズマ内のイオンが照射されることによって該表面に蓄積される電荷を相殺するための電子を上記熱電子で補うべく上記アノードに流れるアノード電流が一定となるように上記カソード電力を制御する電子供給手段と、
をさらに備える、請求項1または2に記載の成膜装置。 - イオンプレーティング法により被処理物の表面に絶縁性被膜である窒化ホウ素膜を生成する成膜方法において、
上記被処理物に交流のバイアス電力を供給するバイアス供給過程と、
上記被処理物に上記バイアス電力が供給されることによって該バイアス電力に重畳される直流成分の電圧値を取得して該電圧値の絶対値が段階的に増大するように上記バイアス電力を制御する制御過程と、
を具備することを特徴とする、成膜方法。
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