JP2592617B2 - イオン・プレーテイング装置 - Google Patents
イオン・プレーテイング装置Info
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- JP2592617B2 JP2592617B2 JP62255463A JP25546387A JP2592617B2 JP 2592617 B2 JP2592617 B2 JP 2592617B2 JP 62255463 A JP62255463 A JP 62255463A JP 25546387 A JP25546387 A JP 25546387A JP 2592617 B2 JP2592617 B2 JP 2592617B2
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- Japan
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- coating material
- evaporation source
- ion plating
- arc discharge
- vapor
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、真空中において被覆材料を蒸発させて被
蒸着物表面に蒸着させる装置にかかり、更に詳しく述べ
れば、被覆材料蒸気をイオン化してから被蒸着物表面に
蒸着させる装置に関する。
蒸着物表面に蒸着させる装置にかかり、更に詳しく述べ
れば、被覆材料蒸気をイオン化してから被蒸着物表面に
蒸着させる装置に関する。
高真空中において被覆材料の蒸発源に対面して被蒸着
物を配置すると共に、上記蒸発源から上記被蒸着物へ向
う被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に接近した位
置に、上記蒸発源との間に上記被覆材料を通してアーク
放電を営むよう構成されたイオン化電極を配置してなる
イオン・プレーテイング装置は、例えば実公昭59−4045
号公報に示されている。
物を配置すると共に、上記蒸発源から上記被蒸着物へ向
う被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に接近した位
置に、上記蒸発源との間に上記被覆材料を通してアーク
放電を営むよう構成されたイオン化電極を配置してなる
イオン・プレーテイング装置は、例えば実公昭59−4045
号公報に示されている。
また、上記蒸発源と上記イオン化装置との間にアーク
放電が起りにくい場合に、アーク放電を起し易くするた
めに、両者の間に熱電子放射用フイラメントを配置する
ことも、上記公報に示されている。
放電が起りにくい場合に、アーク放電を起し易くするた
めに、両者の間に熱電子放射用フイラメントを配置する
ことも、上記公報に示されている。
上述のイオン化電極は、アーク放電の際の強い電子衝
撃によつて著るしく加熱される。そのために材料として
高融点で熱伝導率の良いモリブデンの厚肉のものを使用
したり、水冷したりして、放電スポツトの著るしい昇温
を防いでいる。
撃によつて著るしく加熱される。そのために材料として
高融点で熱伝導率の良いモリブデンの厚肉のものを使用
したり、水冷したりして、放電スポツトの著るしい昇温
を防いでいる。
上述の従来のイオン・プレーテイング装置において
は、イオン化電極には、蒸発源に近い位置にあるために
被覆材料の蒸着、堆積が行われ易い。被覆材料が、例え
ばチタンのような金属である場合には、イオン化電極の
表面に被覆材料が厚く堆積しても、アーク放電は支障な
く継続する。しかし、被覆材料が例えばアルミナのよう
な絶縁体で、特にアーク放電の電流が小さいためにイオ
ン化電極の昇温が少ない場合には、その表面が絶縁皮膜
で覆われる結果、放電が数分間程度で停止してしまい、
長時間にわたる成膜作業は行い得なかつた。
は、イオン化電極には、蒸発源に近い位置にあるために
被覆材料の蒸着、堆積が行われ易い。被覆材料が、例え
ばチタンのような金属である場合には、イオン化電極の
表面に被覆材料が厚く堆積しても、アーク放電は支障な
く継続する。しかし、被覆材料が例えばアルミナのよう
な絶縁体で、特にアーク放電の電流が小さいためにイオ
ン化電極の昇温が少ない場合には、その表面が絶縁皮膜
で覆われる結果、放電が数分間程度で停止してしまい、
長時間にわたる成膜作業は行い得なかつた。
この発明は、従来、イオン化電極におけるアーク放電
のスポツトを可及的に低温にするよう努力していたのと
は反対に、イオン化電極の温度を被覆材料の蒸発温度以
上に加熱する手段を設けたものである。
のスポツトを可及的に低温にするよう努力していたのと
は反対に、イオン化電極の温度を被覆材料の蒸発温度以
上に加熱する手段を設けたものである。
このようにイオン化電極を加熱するために、イオン化
電極をフィラメント状に形成してこれに通電する。
電極をフィラメント状に形成してこれに通電する。
上述のように、イオン化電極が通電によつて被覆材料
の蒸発温度以上に抵抗加熱される結果、被覆材料蒸気は
イオン化電極面に凝結しない。その結果、アーク放電電
流の大小に関係なくイオン化電極の表面は、常に新鮮な
状態に保たれるので、アーク放電は長時間にわたり安定
して行われる。
の蒸発温度以上に抵抗加熱される結果、被覆材料蒸気は
イオン化電極面に凝結しない。その結果、アーク放電電
流の大小に関係なくイオン化電極の表面は、常に新鮮な
状態に保たれるので、アーク放電は長時間にわたり安定
して行われる。
第1図において、真空槽1の下底部には排気口2が存
在し、これに連なる真空ポンプによつて、槽1内は常に
高真空に排気されている。槽1内の下部には蒸発源3が
位置し、その電子銃部から発せられる電子ビーム4の衝
撃により、被覆材料5は蒸発する。槽1内の上部の、蒸
発源3の真上にあたる位置には、被蒸着物6が配置され
る。蒸発源3に接近しその斜上方に、棒状材料で作られ
たイオン化電極7が位置し、その両端は槽1外において
加熱電源8に接続されている。蒸発源3とイオン化電極
7との間には、例えばタングステン製の熱電子放射フイ
ラメント9が位置し、その両端は槽1外で加熱電源10に
接続されている。蒸発源3及びフイラメント9は共に接
地され、イオン化電極7と接地との間にはアーク放電用
の電源11が介在する。被蒸着物6は、槽1外において直
流または高周波のバイアス電12に接続される。なお、13
は必要時に反応ガスを導入する導入口である。
在し、これに連なる真空ポンプによつて、槽1内は常に
高真空に排気されている。槽1内の下部には蒸発源3が
位置し、その電子銃部から発せられる電子ビーム4の衝
撃により、被覆材料5は蒸発する。槽1内の上部の、蒸
発源3の真上にあたる位置には、被蒸着物6が配置され
る。蒸発源3に接近しその斜上方に、棒状材料で作られ
たイオン化電極7が位置し、その両端は槽1外において
加熱電源8に接続されている。蒸発源3とイオン化電極
7との間には、例えばタングステン製の熱電子放射フイ
ラメント9が位置し、その両端は槽1外で加熱電源10に
接続されている。蒸発源3及びフイラメント9は共に接
地され、イオン化電極7と接地との間にはアーク放電用
の電源11が介在する。被蒸着物6は、槽1外において直
流または高周波のバイアス電12に接続される。なお、13
は必要時に反応ガスを導入する導入口である。
上述の装置において、被覆材料として例えばアルミナ
のような絶縁物を用いる際は、イオン化電極7の材料と
してはタングステン、或いはモリブデンのような高融点
金属を用い、2000℃前後に通電加熱すればよい。
のような絶縁物を用いる際は、イオン化電極7の材料と
してはタングステン、或いはモリブデンのような高融点
金属を用い、2000℃前後に通電加熱すればよい。
第1図示の実施例は、イオン化電極7を流れる放電電
流が、例えば10A以下の少い場合に適するが、この放電
電流が例えば20〜100Aというように大きな値になると、
イオン化電極7を加熱電源8によつて通電加熱しなくて
も、その構造を適切に選ぶことにより、アーク放電の衝
撃を利用した自己加熱により、所定の温度に昇温させる
ことが可能になる。
流が、例えば10A以下の少い場合に適するが、この放電
電流が例えば20〜100Aというように大きな値になると、
イオン化電極7を加熱電源8によつて通電加熱しなくて
も、その構造を適切に選ぶことにより、アーク放電の衝
撃を利用した自己加熱により、所定の温度に昇温させる
ことが可能になる。
以上のように、この発明によるときは、被覆材料とし
て絶縁性物質を用い、かつアーク放電電流が小さい場合
に、この蒸着物がイオン化電極の表面を覆い、安定な放
電を防げるのを効果的に阻止することができる。
て絶縁性物質を用い、かつアーク放電電流が小さい場合
に、この蒸着物がイオン化電極の表面を覆い、安定な放
電を防げるのを効果的に阻止することができる。
従つて、従来困難であつた絶縁性物質による高品質の
イオン・プレーテイング皮膜の能率的な形成を可能にす
ることができる。
イオン・プレーテイング皮膜の能率的な形成を可能にす
ることができる。
第1図はこの発明の実施例の構成図である。 1……真空槽、3……蒸発源、6……被蒸着物、7……
イオン化電極、8……加熱電源、11……アーク放電用電
源。
イオン化電極、8……加熱電源、11……アーク放電用電
源。
Claims (1)
- 【請求項1】高真空中において被覆材料の蒸発源に対面
して被蒸着物を配置すると共に、上記蒸発源から上記被
蒸着物へ向う被覆材料蒸気の径路の近傍の上記蒸発源に
接近した位置に、上記蒸発源との間に上記被覆材料蒸気
を通してアーク放電を営むよう構成されたイオン化電極
を配置してなるイオン・プレーティング装置において、
上記イオン化電極に通電して上記被覆材料の蒸発温度以
上に抵抗加熱する手段を設けたことを特徴とするイオン
・プレーティング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62255463A JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62255463A JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0196373A JPH0196373A (ja) | 1989-04-14 |
JP2592617B2 true JP2592617B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=17279115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62255463A Expired - Lifetime JP2592617B2 (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | イオン・プレーテイング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2592617B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4767509B2 (ja) * | 2004-07-26 | 2011-09-07 | 神港精機株式会社 | 成膜装置および成膜方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS595732U (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-14 | 三菱重工業株式会社 | 燃料調整リンク装置 |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP62255463A patent/JP2592617B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0196373A (ja) | 1989-04-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |