JP4766695B2 - プラズマ放射線源、ガスカーテンを生成するための装置および気体ジェット真空ポンプ - Google Patents
プラズマ放射線源、ガスカーテンを生成するための装置および気体ジェット真空ポンプ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4766695B2 JP4766695B2 JP2006522888A JP2006522888A JP4766695B2 JP 4766695 B2 JP4766695 B2 JP 4766695B2 JP 2006522888 A JP2006522888 A JP 2006522888A JP 2006522888 A JP2006522888 A JP 2006522888A JP 4766695 B2 JP4766695 B2 JP 4766695B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- radiation source
- radiation
- axis
- gas jet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 85
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 18
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 77
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 67
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
- H05G2/005—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state containing a metal as principal radiation generating component
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
PG=10−3ミリバール〜10ミリバール
PT=100ミリバール〜20バール
PG/P0>10=>P0<10−4ミリバール〜1ミリバール
Claims (17)
- 真空室にて源領域から所定の立体角でデブリ抑制のために設けられたガスカーテンを通って進む放射線を、放射線の平均的な伝搬方向の軸に沿って放射するプラズマ放射線源において、放射状に向けられた超音速気体ジェット(7)としての前記ガスカーテンは、前記放射線(5)の前記平均的な伝搬方向の軸(X−X)上に配置される気体ジェット真空ポンプ(3)の推進ノズル(2)から進み、前記軸(X−X)に同軸に配置される前記気体ジェット真空ポンプ(3)の環状の混合ノズル(8)に向けられ、ディフューザ(10)によって前記真空室(1)の中から誘導されることを特徴とするプラズマ放射線源。
- 放電がプラズマ励起のために用いられ、前記放射線(5)の前記平均的な伝搬方向の軸(X−X)に沿って互いに隣接して配置される陽極(11)および陰極(12)を備えた電極の配置構成が放電のために設けられることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ放射線源。
- 液体金属電極が電極として用いられることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放射線源。
- 前記液体金属電極は、液体エミッタ(18)用の供給路(17)によって貫通され且つ前記供給路(17)が通じる前記プラズマ(4)に面するその端部で高融点多孔性材料(19)によって被覆される担体(16)を有することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ放射線源。
- 前記液体金属電極は、加熱装置を備えて構成されることを特徴とする請求項3または4に記載のプラズマ放射線源。
- 前記担体(16)および前記多孔性材料(19)は、導電性であることを特徴とする請求項4または5に記載のプラズマ放射線源。
- 前記担体(16)および前記多孔性材料(19)は、導電性でないことを特徴とする請求項4または5に記載のプラズマ放射線源。
- 前記担体(16)および前記多孔性材料(19)は、化学的に同一であることを特徴とする請求項6または7に記載のプラズマ放射線源。
- 前記軸(X−X)に沿って電流の流れによって生成されるピンチ効果が、前記プラズマ(4)の周囲の外部磁界によってさらに補助されることを特徴とする請求項2〜8のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
- 前記外部磁界は、静磁界として形成されることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ放射線源。
- 前記外部磁界は、前記プラズマ(4)を通る電流の流れに適合されることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ放射線源。
- レーザ放射線は、プラズマを励起するために用いられることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ放射線源。
- 反射体が、前記放射線(5)の前記平均的な伝搬方向の軸(X−X)に沿って前記プラズマ(4)用の源領域(B)に隣接して設けられ、当該反射体は前記プラズマ(4)による前記放射線(5)の焦点を再び合わせることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
- 前記ガスカーテンは、作用領域(A)の側のみで前記放射線(5)の前記平均的な伝搬方向の軸(X−X)に沿って源領域(B)に隣接することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載のプラズマ放射線源。
- 前記ガスカーテンは、両側で前記放射線(5)の前記平均的な伝搬方向の軸(X−X)に沿って前記源領域(B)に隣接することを特徴とする請求項13に記載のプラズマ放射線源。
- その平均的な伝搬方向が真空室においてガスカーテンを通って向けられる軸に沿って延在する放射線中の粒子用のフィルタとして前記ガスカーテンを生成するための配置構成であって、前記軸(X−X)上に配置される推進ノズル(2)を備えた気体ジェット真空ポンプ(3)は、前記ガスカーテン用の超音速気体ジェット(7)を生成するように機能し、前記超音速気体ジェット(7)を前記軸(X−X)に同軸に配置される前記気体ジェット真空ポンプ(3)の環状の混合ノズル(8)に向かって放射状に向けることと、ディフューザ(10)が前記真空室(1)の中から前記超音速気体ジェット(7)を誘導するために設けられることと、を特徴とする配置構成。
- その気体入口開口部が環状中心に面する環状の混合ノズル(8)と、推進ノズル(2)から放射状に進み、前記気体入口開口部に向けられる超音速気体ジェット(7)を生成するための前記環状中心に配置される推進ノズル(2)と、前記環状中心から遠い方向に向けるように機能する環状のディフューザ(10)と、を備える気体ジェット真空ポンプ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10337667A DE10337667B4 (de) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | Plasma-Strahlungsquelle und Anordnung zur Erzeugung eines Gasvorhangs für Plasma-Strahlungsquellen |
DE10337667.4 | 2003-08-12 | ||
PCT/DE2004/001802 WO2005015962A2 (de) | 2003-08-12 | 2004-08-09 | Plasma-strahlungsquelle und anordnung zur erzeugung eines gasvorhangs für plasma-strahlungsquellen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007502000A JP2007502000A (ja) | 2007-02-01 |
JP4766695B2 true JP4766695B2 (ja) | 2011-09-07 |
JP4766695B6 JP4766695B6 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63292553A (ja) * | 1987-05-25 | 1988-11-29 | Agency Of Ind Science & Technol | X線発生装置におけるプラズマ飛散防止機構 |
JPS646349A (en) * | 1986-09-11 | 1989-01-10 | Hoya Corp | Laser plasma x-ray generator and x-ray ejection port opening/closing mechanism |
JPH01243349A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマ極端紫外光発生装置 |
JPH05157899A (ja) * | 1991-12-09 | 1993-06-25 | Japan Steel Works Ltd:The | 平行x線ビーム照射法 |
JPH10221499A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
WO2002091807A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-14 | Powerlase Limited | High flux, high energy photon source |
WO2003026363A1 (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Euv Limited Liability Corporation | Discharge source with gas curtain for protecting optics from particles |
JP2003518316A (ja) * | 1997-12-31 | 2003-06-03 | ユニバーシティ・オブ・セントラル・フロリダ | 放電ランプ光源装置及び方法 |
JP2003518729A (ja) * | 1999-12-23 | 2003-06-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 極短波放射線を発生する方法、前記放射線によって装置を製造する方法、極短波放射線源装置およびこのような放射線源装置が装備されたリソグラフィ投影装置 |
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS646349A (en) * | 1986-09-11 | 1989-01-10 | Hoya Corp | Laser plasma x-ray generator and x-ray ejection port opening/closing mechanism |
JPS63292553A (ja) * | 1987-05-25 | 1988-11-29 | Agency Of Ind Science & Technol | X線発生装置におけるプラズマ飛散防止機構 |
JPH01243349A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマ極端紫外光発生装置 |
JPH05157899A (ja) * | 1991-12-09 | 1993-06-25 | Japan Steel Works Ltd:The | 平行x線ビーム照射法 |
JPH10221499A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
JP2003518316A (ja) * | 1997-12-31 | 2003-06-03 | ユニバーシティ・オブ・セントラル・フロリダ | 放電ランプ光源装置及び方法 |
JP2003518729A (ja) * | 1999-12-23 | 2003-06-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 極短波放射線を発生する方法、前記放射線によって装置を製造する方法、極短波放射線源装置およびこのような放射線源装置が装備されたリソグラフィ投影装置 |
WO2002091807A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-14 | Powerlase Limited | High flux, high energy photon source |
WO2003026363A1 (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Euv Limited Liability Corporation | Discharge source with gas curtain for protecting optics from particles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060158126A1 (en) | 2006-07-20 |
JP2007502000A (ja) | 2007-02-01 |
DE10337667A1 (de) | 2005-03-24 |
WO2005015962A3 (de) | 2005-07-28 |
DE10337667B4 (de) | 2012-03-22 |
US7328885B2 (en) | 2008-02-12 |
WO2005015962A2 (de) | 2005-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7328885B2 (en) | Plasma radiation source and device for creating a gas curtain for plasma radiation sources | |
JP4696019B2 (ja) | プラズマに基づく短波長放射線の生成におけるデブリの抑制のための方法および装置 | |
US4591724A (en) | Curing apparatus | |
JP4654141B2 (ja) | 短波長放射線発生のための放射線源 | |
US10887973B2 (en) | High brightness laser-produced plasma light source | |
US8399867B2 (en) | Extreme ultraviolet light source apparatus | |
US6232613B1 (en) | Debris blocker/collector and emission enhancer for discharge sources | |
US7372057B2 (en) | Arrangement for providing a reproducible target flow for the energy beam-induced generation of short-wavelength electromagnetic radiation | |
US7732794B2 (en) | Extreme ultra violet light source apparatus | |
JP5130267B2 (ja) | プラズマに基づく短波長放射線源の動作方法およびその装置 | |
JP2006294606A (ja) | プラズマ放射線源 | |
US20210092824A1 (en) | Short-wavelength radiation source with multisectional collector module and method of collecting radiation | |
JP2000098098A (ja) | X線発生装置 | |
US7339181B2 (en) | High flux, high energy photon source | |
JP4766695B6 (ja) | プラズマ放射線源、ガスカーテンを生成するための装置および気体ジェット真空ポンプ | |
JP2018060640A (ja) | レーザ駆動光源 | |
US6654446B2 (en) | Capillary discharge source | |
JP7549313B2 (ja) | マルチセクションの集光モジュールを備えた短波長放射線源 | |
KR20240087651A (ko) | 고휘도 레이저 생성 플라즈마 소스 및 방사선 생성 및 수집 방법 | |
JP6594958B2 (ja) | 極紫外(euv)線源 | |
KR20230104856A (ko) | 다중 섹션 컬렉터 모듈을 구비한 단파장 방사선 소스 | |
US6359968B1 (en) | X-ray tube capable of generating and focusing beam on a target | |
JP2847056B2 (ja) | 半導体製造装置用のプラズマイグナイタ | |
JP4117694B2 (ja) | エキシマレーザ発振装置及び露光装置 | |
CN118435705A (zh) | 靶材料、高亮度euv源和产生euv辐射的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061020 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100907 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110613 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4766695 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |