JP4760384B2 - Mems振動子 - Google Patents

Mems振動子 Download PDF

Info

Publication number
JP4760384B2
JP4760384B2 JP2006002148A JP2006002148A JP4760384B2 JP 4760384 B2 JP4760384 B2 JP 4760384B2 JP 2006002148 A JP2006002148 A JP 2006002148A JP 2006002148 A JP2006002148 A JP 2006002148A JP 4760384 B2 JP4760384 B2 JP 4760384B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mems
beams
free
support
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006002148A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007184815A (ja
Inventor
竜児 木原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2006002148A priority Critical patent/JP4760384B2/ja
Publication of JP2007184815A publication Critical patent/JP2007184815A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4760384B2 publication Critical patent/JP4760384B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Micromachines (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本発明は、MEMS振動子の構造に関し、より具体的には、複数の両端自由梁を振動の節で連環状に接続した固有振動数が異なるMEMS構造体を同一基板上に複数個備えるMEMS振動子の構造に関する。
MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)は、微細な立体的駆動体(MEMS構造体)をつくる技術として、多くのものが提案されている。特に、同一基板上に複数個の駆動体を設けることができることに特徴を有している。
そのような提案の中に、無線通信器のメカニカルフィルターとして、MEMS構造体を複数個設けたMEMS振動子が知られている(例えば、非特許文献1参照)。
また、具体的なMEMS振動子の構造として、同一基板上に複数個のMEMS構造体を1個ずつ並べて配設する構造も知られている(例えば、非特許文献2参照)。
また、MEMS構造体の課題は等価回路における直列抵抗成分が大きく、エネルギー損失が大きいことから、複数の振動片(梁)を同一駆動周波数で同時に駆動することで、各直列抵抗が並列接続に相当するように構成し、全体の抵抗値を下げることを可能にするMEMS振動子も提案されている(例えば、非特許文献3参照)。
C,T−C."RF MEMS in Wirless Architectures",Design Automation Conference,pp.416−420,June 2005. G.Pizza,P.J.Stephanou,M.B.J.Wijesundara,and A.P.Pisano,"Single−Chip Multiple−Frequeny Filters Based on Contour−Model Aluminum Nitride Piezoelectnic Micromecanical Resonators",Solid−State Sennsor & Actuators(Transducers’05),pp.2065−2068,Jone 2005. S.Lee and C.T−C.Nguyen"Mechanically Corner−Coupled Micromechanical Resonator Arrays for Improved Phase Noise",IEEE Int.Ultrasonics,pp.280−286,August 2004.
しかしながら、上述した非特許文献1〜非特許文献3では、一つずつの振動片は一つの駆動周波数のみで駆動するため、複数の駆動周波数を用いる場合には、それぞれの駆動周波数に対応した駆動体(MEMS構造体)を用意しなければならず、その結果として広帯域の駆動周波数を用いる場合には広いスペースを必要とし、小型化は困難であると推測できる。
また、非特許文献3によれば、複数の振動子を同一駆動周波数で駆動することにより、直列抵抗は並列接続に相当するため、MEMS振動子全体としての直列抵抗成分を低減することを可能にするが、この構造においても、それぞれの振動子を同一周波数のみでしか駆動できないというような課題がある。
本発明の目的は、前述した課題を解決することを要旨とし、同一基板上に異なる固有振動数のMEMS構造体を備えながら小型化と、エネルギー損失を低減し、Q値が高いMEMS振動子を提供することである。
本発明のMEMS振動子は、複数の両端自由梁が、振動の節となる位置を連結部として連環状に交差連結されるMEMS構造体を基板の同一表面上に複数備え、複数の前記MEMS構造体が前記連結部において、支持部材によって前記基板に連結支持されており、複数の前記MEMS構造体それぞれを形成する前記複数の両端自由梁が、同時に同じ周波数で駆動されるとともに、複数の前記MEMS構造体それぞれが異なる固有振動数を有し、所望の固有振動数を有するMEMS構造体を選択的に駆動することを特徴とする。
ここで、固有振動数とは、複数のMEMS構造体それぞれの共振周波数を意味する。
この発明によれば、複数の両端自由梁を振動の節となる連結部で交差連結し、この連結部を支持部によって支持しているために、両端自由梁の振動による支持部材の変位は非常に小さく、基板への振動漏れを抑制することができることからエネルギー損失が少なく、Q値が高いMEMS振動子を実現できる。
また、複数のMEMS構造体間を、上述した連結部において支持部材によって連結しているために、支持部材の変位が非常に小さく、各MEMS構造体の異なる固有振動数に依存することなくMEMS構造体それぞれの振動が他のMEMS構造体に伝播することを抑制でき、所定の固有振動数を安定して得ることができる。
また、各MEMS構造体を構成する両端自由梁を、連結部において交差連結して連環状に構成していることから、等価回路において、直列抵抗成分が並列接続に相当し、MEMS構造体全体としての直列抵抗成分を低減することができ、エネルギー損失を低減できる。
上述したような理由から、同一基板上に異なる固有振動数を有するMEMS構造体を複数個備え、複数の異なる信号を取り出せるMEMS振動子を提供することができる。
また、本発明では、それぞれが異なる固有振動数を有する複数の前記MEMS構造体が、平面的に多重環状に配設されていることが好ましい。
ここで、多重環状とは、例えば、小型のMEMS構造体の連環の外側または内側に、さらにMEMS構造体の連環を配設する形態を意味する。
このような構造にすれば、複数のMEMS構造体を多重環状に配設するために、複数の固有振動数を有しながら、MEMS振動子全体として小型化することができる。
また、多重環状に配設される複数の前記MEMS構造体が、前記連結部の側面から放射状に延在される梁状の前記支持部材によって連結されていることが好ましい。
支持部材は、振動の節となる部分、つまり両端自由梁の連結部の側面から放射状に延在しているため、両端自由梁と支持部材とは、フォトリソグラフィ等の同一工程において形成することが可能であり、振動の節となる部分と支持部材との位置関係を高精度に管理することができ、それらの位置ずれによる振動漏れや、振動特性への影響を抑制することができる。
また、複数の前記MEMS構造体それぞれが、前記連結部の平面略中央と前記基板とを柱状の支持部材によって垂直に支持されていることが好ましい。
両端自由梁の連結部中央(つまり、振動の節の位置)と、基板に垂直な柱状の支持部材によって支持することができることから、MEMS構造体間の振動漏れを抑制する効果があるとともに、MEMS構造体の形状を簡素化することができる。
さらに、前述したような梁状の支持部材の長さに依存することなくMEMS構造体を基板に接続することができ、多重環状に配設される内側と外側にあるMEMS構造体の間隔を詰めることが可能となる。
また、複数の前記MEMS構造体のうちのいくつかが前記連結部の側面から放射状に延在される前記支持部材によって連結され、他のMEMS構造体が、前記連結部の平面略中央と前記基板とを支持部材によって垂直に支持されていることが望ましい。
このようにすれば、前述した梁状の支持部材と、柱状の支持部材と、のそれぞれの利点を併せ持つ構造を実現でき、多重環状に配設される内側と外側にあるMEMS構造体の間隔を任意に設定できる。つまり、固有振動数が近いMEMS構造体を隣接して備えることが可能となる効果がある。
また、前記複数の両端自由梁それぞれの長手方向中央部に、前記両端自由梁と空隙を有して交差する駆動電極が前記基板の表面に設けられ、前記複数の両端自由梁が、前記基板の表面に対して垂直に駆動されることが好ましい。
このように両端自由梁と駆動電極とを構成すれば、両端自由梁の幅で、両端自由梁と駆動電極との交差面積が決定されるため、駆動電極の厚さは電気特性が保証される程度の厚さがあればよく、薄膜プロセスで形成することが可能で、製造し易いという効果がある。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1〜図5は本発明の実施形態1に係るMEMS振動子を示し、図6,7はMEMS構造体の駆動形態、図8は、実施形態1の変形例、図9は実施形態2、図10は実施形態3に係るMEMS振動子を示している。
なお、本発明では、同一基板上に固有振動数が異なる複数個のMEMS構造体を備えることができるが、以降の実施形態では2個のMEMS構造体30,40を備えるMEMS振動子を例示して説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るMEMS振動子の一部を示す平面図、図2は、図1のA―A切断面を示す断面図である。図1,2において、MEMS振動子10は、基板20の表面に駆動部としてのMEMS構造体30,40と駆動電極71〜78とを備えて構成されている。MEMS構造体30,40は、それぞれ断面が矩形の棒状の振動体4個が井桁状に結合され、それぞれ1個のMEMS構造体が形成されている。このMEMS構造体30とMEMS構造体40とは、支持部材としての支持梁51〜58によって連結され、且つ、基部30aに連結され基板20に接合されている。
MEMS構造体30は、4個の両端自由梁31〜34が、それぞれの振動の節となる部分を連結部として交差連結されており、井桁状に連環されている。両端自由梁31〜34は、それぞれ全く同じ形状の梁であって、交差連結されることにより正四角形に形作られている。つまり、両端自由梁31,32は連結部35、両端自由梁32,33は連結部36、両端自由梁33,34は連結部37、両端自由梁34,31は連結部38において直交連結された一体構造である。
このように構成されたMEMS構造体30は、連結部35〜38から延在される支持梁51〜54によって基部30aと連続している。また、連結部35〜38の位置から、さらに支持梁55〜58が中心方向に向かって延在され、MEMS構造体40が連結されている。
MEMS構造体40は、上述したMEMS構造体30と同様な構成の一回り小さい構造体である。このMEMS構造体40は、4個の両端自由梁41〜44が、それぞれの振動の節となる部分を連結部として交差連結されており、井桁状に連環されている。両端自由梁41〜44は、それぞれ全く同じ形状の梁であって、交差連結されることにより正四角形に形作られている。つまり、両端自由梁41,42は連結部45、両端自由梁42,43は連結部46、両端自由梁43,44は連結部47、両端自由梁44,41は連結部48において直交連結された一体構造である。
従って、MEMS構造体30,40とは、ほぼ相似形の構造体が多重環状に形成され、MEMS構造体30,40は支持梁55〜58によって連結され、MEMS構造体30が支持梁51〜54によって基板20に連結されている。すなわち、図2で示すように、MEMS構造体30,40は、支持梁51〜58によって基板20の表面から浮いた状態に支持されており、両端自由梁31〜34,41〜44が基板20の表面対して垂直に振動可能な構成としている。
図2に示すように、基板20には、両端自由梁31〜34,41〜44のそれぞれ長手方向中央部の下部に、両端自由梁31〜34,41〜44それぞれと空隙90を有して交差する駆動電極71〜78が形成されている。
基板20は、シリコン(Si)基板からなり、両端自由梁31の下部には駆動電極71が形成され、両端自由梁32の下部には駆動電極72、両端自由梁33の下部には駆動電極73、両端自由梁34の下部には駆動電極74が配設されている。この駆動電極71,73とは同電位(仮に+電位)で、駆動電極72,74とは同電位(仮に−電位)であり、それぞれ図示しない駆動制御回路に接続され、同一周波数、逆位相の交流電圧が印加されるよう構成されている。
また、両端自由梁41の下部には駆動電極75が形成され、両端自由梁42の下部には駆動電極76、両端自由梁43の下部には駆動電極77、両端自由梁44の下部には駆動電極78が配設されている。この駆動電極75,77とは同電位(仮に+電位)で、駆動電極76,78とは同電位(仮に−電位)であり、それぞれ図示しない駆動制御回路に接続され、同一周波数、逆位相の交流電圧が印加されるよう構成されている。
なお、駆動電極71〜74と駆動電極75〜78とは、電気的に独立して構成されている。そしてMEMS構造体30,40(つまり、両端自由梁31〜34,41〜44)には、駆動時に一定の電圧(直流電圧)が印加される。
続いて、本実施形態のMEMS振動子10の製造方法について図2を参照して説明する。なお、各両端自由梁の構成は同じであるので両端自由梁42を例示して説明する。まず、シリコン(Si)からなる基板20の表面に、上述した駆動電極71〜78を形成する領域に絶縁層60を形成する。次に、金属(AuまたはAl)層を薄膜プロセスにより形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の形状の駆動電極71〜78を形成する(図2では駆動電極76を例示)。
続いて、支持梁51〜58を含むMEMS構造体30,40の形状を除く部分に犠牲層(SiO2)を形成した後、ポリシリコンからなるMEMS構造体30,40をCVD法やスパッタ法等により形成し、エッチングにより犠牲層を除去することにより、支持梁51〜54の端部が基部30aに接続された両端自由梁31〜34,41〜44が基板20とは空隙90を有した状態のMEMS構造体30,40を形成する。また、MEMS構造体30,40には、駆動時において直流電圧が加えられるように基板20の表面に接続されている。なお、駆動電極75〜78は、駆動電極71〜74に対して電気的に分離構成するために、図示しない直流電源と接続するビアホール95によって接続される。
なお、上述した製造方法は、MEMS構造体の製造方法の1例を示したもので、これに限定されるものではない。
次に、本実施形態に係るMEMS振動子10の構成を等価回路に表し説明する。なお、MEMS構造体30,40とは、同じ構成であるのでMEMS構造体30を例示して説明する。
図3(a)は、本実施形態におけるMEMS構造体30を模式的に示す構成図、(b)は等価回路である。本実施形態のMEMS構造体30の構成は、図3(a)のように表すことができる。両端自由梁31〜34は並列接続に相当する。両端自由梁31〜34に同じ周波数の交流電圧Viが印加され、それぞれから電流ix1〜ix4が流れ、総電流i0が流れるように構成されている。これを図3(b)で等価回路として表す。
MEMS振動子10の等価回路はインダクタンス成分L、コンデンサ成分C、直列抵抗成分Rを構成要素とするLCR回路で表される。ここで、各両端自由梁の形状は同じであるためインダクタンス成分Lx、コンデンサ成分Cx、直列抵抗成分Rx、は同じ値となり並列接続されている。つまり、それぞれの直列抵抗成分Rxは、両端自由梁31〜34が連環状に連結されていることから並列接続に相当する構成とされる。従って、MEMS構造体30の直列抵抗成分は、両端自由梁が1個の場合や、直列接続する場合に比べて小さくすることができるため、直列抵抗成分による損失が小さくなる。
次に、上述した直列抵抗成分について説明を加える。一般に、このような等価回路を有する振動子は、直列抵抗成分が大きく、この直列抵抗成分によるエネルギー損失が駆動の効率に影響を与えることが知られている。
ここで、振動片(両端自由梁)の直列抵抗成分をRx、バネ定数をkr、固有円振動ω0、バイアス電圧をVDC、両端自由梁と駆動電極との空隙距離をg、誘電率をε0、両端自由梁と駆動電極との交差面積をA0としたとき、直列抵抗成分Rxは次の数式で表される。なお、Q値はQで表す。
つまり、直列抵抗成分Rxは、Rx=(kr/ε0QVDC 2)・(g4/ε0 20 2)で表される。
従って、直列抵抗成分Rxは、空隙距離gが狭いほど、バイアス電圧VDCが大きいほど小さくすることができる。しかしながら、空隙距離gは製造プロセスによって限界値があり、バイアス電圧VDCは大きくするとバネ定数krの関係から振幅が大きくなり、駆動電極との接触が考えられるため、空隙距離gとバイアス電圧VDCとのバランスを調整する必要がある。ここで、等価回路で示すように、直列抵抗成分Rxを並列接続する構成とすることにより、直列抵抗成分によるエネルギー損失を低減することを可能にする。
続いて、本実施形態によるMEMS構造体の駆動形態について図面を参照して説明する。本発明では、MEMS構造体30とMEMS構造体40とは、それらのサイズが異なることから固有振動数(固有の共振周波数と言い換えることができる)が異なり、これらを単独で駆動することとしている。
図4は、両端自由梁1個単独の振動形態を示す説明図である。なお、両端自由梁31〜34,41〜44は、共振周波数が異なるものの同じ振動形態を示すので、両端自由梁42を例示して説明する。
図4において、両端自由梁42は、振動の節に設けられる連結部45,46を支持梁55,56によって支持されている(図1も参照)。両端自由梁42には直流電圧を印加し、駆動電極76には交流電圧を印加することにより、両端自由梁42は、連結部を振動の節として矢印で表されるように撓み振動する。つまり、両端自由梁42の中央部が上方に撓むとき、自由端42a,42bは下方に、また、両端自由梁42の中央部が下方に撓むとき、自由端42a,42bは上方に撓む。つまり、両端自由梁42は、基板20の表面に対して垂直方向に振動する。
次に、MEMS構造体30の駆動形態について図面を参照して説明する。
図5は、MEMS構造体30の駆動形態を模式的に示す説明図である。図5において、両端自由梁31〜34は、同一周波数の駆動電圧が印加され、所定の共振周波数で振動する。ここで、両端自由梁31,33と両端自由梁32,34とは逆位相の駆動電圧を印加することで、振動の位相も逆位相となる。つまり、両端自由梁31,33は中央部が上方に撓み(矢印F1方向)、先端部(自由端)31a,31b,33a,33bが下方に撓むように振動するとき、両端自由梁32,34は中央部が下方(矢印F2方向)に撓み、先端部(自由端)32a,32b,34a,34bが上方に撓むように振動する。
両端自由梁31〜34の連結部35〜38は振動の節に相当する位置に連続しているために、振動の伝播は抑制されており、両端自由梁31〜34は、各連結部においてねじれのような振動形態となる。ここで、MEMS構造体30を支持する支持梁51〜54の長さは、共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λとなるように設定されている。
なお、前述した数式において、直列抵抗成分Rxは、Q値が大きいほど小さくなることが表されている。Q値は、振動片の材質、形状、カット角など様々な要因によって決定されるが、支持部からの振動漏れが影響することが知られている。そこで、振動漏れを抑制する構造として、支持梁51〜54の長さを共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λとする構造について説明する。
図6は、支持梁51〜54がない場合の駆動周波数(共振周波数)と支持梁がある場合の駆動周波数(共振周波数)の関係を示すグラフである。図6において、MEMS構造体30は、理想的には支持梁がない構造がもっとも自然な駆動形態を示し、支持梁51〜54を設けることにより駆動周波数は影響を受ける。そして、図6に示すように、支持梁が長くなるに従い駆動周波数が低くなる傾向を示す。支持梁がないときの駆動周波数と支持梁を有するときの駆動周波数が一致する位置が、駆動周波数の波長をλとしたときに支持梁の長さを(1/4)λに相当し、このような長さにすることで振動漏れを抑制することができる。
また、本実施形態では、MEMS構造体30の連結部35〜38とMEMS構造体40の連結部45〜48とをそれぞれ支持梁55〜58で接続しており、各連結部は、振動の節に相当する位置であるため、MEMS構造体30の振動による支持梁55〜58の変位は極わずかとなり、MEMS構造体40への振動漏れを減縮している。
次に、MEMS構造体40の駆動形態について図面を参照して説明する。
図7は、MEMS構造体40の駆動形態を模式的に示す説明図である。図7において、両端自由梁41〜44は、同一周波数の駆動電圧が印加され、所定の共振周波数で振動する。ここで、両端自由梁41,43と両端自由梁42,44とは逆位相の駆動電圧を印加することで、振動の位相も逆位相となる。つまり、両端自由梁41,43は中央部が上方に撓み(矢印F1方向)、先端部(自由端)41a,41b,43a,43bが下方に撓むように振動する。また、両端自由梁42,44は中央部が下方(矢印F2方向)に撓み、先端部(自由端)42a,42b,44a,44bが上方に撓むように振動する。つまり、両端自由梁42は、基板20の表面に対して垂直方向に振動する。
両端自由梁41〜44の連結部45〜48は振動の節に相当する位置に連続しているために、振動の伝播は抑制されており、両端自由梁41〜44は、各連結部においてねじれのような振動形態となる。MEMS構造体40の連結部45〜48とMEMS構造体30の連結部35〜38をそれぞれ支持梁55〜58で接続しており、各連結部は、振動の節に相当する位置であるため、MEMS構造体40の振動による支持梁55〜58の変位は極わずかとなり、MEMS構造体30への振動漏れを減縮している。
ここで、MEMS構造体40を支持する支持梁55〜58の長さは、前述したように、共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λとなるように設定されることが最も好ましい。しかし、MEMS構造体30とMEMS構造体40との固有振動数(共振周波数)が異なるため、支持梁55〜58の長さはMEMS構造体30の固有振動数から求められる長さと、MEMS構造体40の固有振動数から求められる長さの中間とすることで、MEMS構造体40の振動漏れを抑制することができる。
従って、前述した実施形態1によれば、MEMS構造体30,40それぞれの両端自由梁31〜34,41〜44を振動の節となる連結部35〜38,45〜48と交差連結し、この連結部35〜38または連結部45〜48をそれぞれ支持梁51〜54、支持梁55〜58によって支持しているためにMEMS構造体30またはMEMS構造体40の振動による支持梁の変位は非常に小さく、基板20への振動漏れを抑制することができることから損失が少なく、Q値が高いMEMS振動子10を実現できる。
また、MEMS構造体30,40の間を、上述した連結部において支持梁55〜58によって連結しているために支持梁55〜58の変位を小さくすることができるので、各MEMS構造体の異なる固有振動数に依存することなく、MEMS構造体それぞれの振動が他のMEMS構造体に伝播することを抑制でき、所定の固有振動数を安定して得ることができる。
また、各MEMS構造体を構成する両端自由梁を、連結部において交差連結して連環状に構成していることから、等価回路において、直列抵抗成分が並列接続に相当し、MEMS構造体全体としての直列抵抗成分を小さくすることができ、エネルギー損失を低減できる。
上述したような理由から、同一基板上に異なる固有振動数を有するMEMS構造体を複数備えるMEMS振動子を提供することができ、固有振動数を有する複数のMEMS構造体の中から所望の固有振動数を選択して駆動することができる。
また、本実施形態では、MEMS構造体30,40が異なる固有振動数を有し、多重環状に配設されていることから、MEMS振動子全体として小型化することができる。さらにMEMS構造体の数を例えば3個、4個としても、多重環状に配設することで、単に平面上に並列する従来構造に比べ小型化できるという効果がある。
さらに、支持梁51〜58は、振動の節となる部分、つまり両端自由梁の各連結部の側面から放射状に延在しているため、両端自由梁と支持梁とは、フォトリソグラフィ等の同一工程において形成することが可能であり、振動の節となる部分と支持梁との位置関係を高精度に管理することができ、それらの位置ずれによる振動漏れや、振動特性への影響を抑制することができる。
また、上述したように両端自由梁と駆動電極とを構成し、基板20の表面に対して垂直に振動させる構成にすれば、両端自由梁の幅で、両端自由梁と駆動電極との交差面積が決定されるため、駆動電極の厚さは電気特性が保証される程度の厚さがあればよく、薄膜プロセスで形成することが可能で、製造し易いという効果がある。
(実施形態1の変形例)
なお、実施形態1における技術的思想を基本として、様々な変形例を提案することができる。続いて、実施形態1の一変形例について説明する。この変形例は、MEMS構造体40を支持する支持梁55〜58をMEMS構造体40の内側に設けて延在していることに特徴を有し、他は、実施形態1と同じであるため、共通部分の説明を省略し、同じ符号を付して説明する。
図8は、実施形態1の変形例の一つを示し、(a)は平面図、(b)は図8(a)のB−B切断面を示す断面図である。図8(a)、(b)において、支持梁55〜58は、MEMS構造体40の中心部に向かって延在されている。
支持梁55〜58は、連結部45〜48のそれぞれから放射状に延在されて基部40aに連続している。図8(b)に示すように基部40aは、基板20の表面に接続された島状をしており、上部から支持梁55〜58が放射状に延在されている。これら支持梁55〜58の長さは、MEMS構造体40の共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λに設定される。
なお、MEMS構造体30を支持する支持梁51〜54は、実施形態1(図1、参照)と同様に、MEMS構造体30の外側方向に放射状に形成されている。
このような構成のMEMS振動子10は、前述した実施形態1の製造方法で製造することができる。
従って、このような変形例によれば、MEMS構造体30,40をそれぞれの振動の節となる連結部で支持しているため、前述した実施形態1と同様な効果が得られる。
さらに、内側にあるMEMS構造体40を中心方向(基部40a)に延在する支持梁55〜58で支持する構造であるため、MEMS構造体30とは、支持を分離しているので、それぞれの振動漏れを他のMEMS構造体に伝播させず、振動特性に影響を与えることを、より一層抑制することができる。
また、支持梁55〜58の長さを、MEMS構造体40の共振周波数の波長λとしたとき、(1/4)λの理想長さに設定可能となるというような効果もある。
なお、支持梁51〜54をMEMS構造体30の内側方向に形成する構造とすることもできる。つまり、MEMS構造体30,40共に、基部40aに連続する支持梁55〜58で支持する構造を採用することもできる。
(実施形態2)
続いて、本発明の実施形態2に係るMEMS振動子の構造について図面を参照して説明する。実施形態2は、MEMS構造体の支持部材として両端自由梁の振動の節となる部分、つまり連結部に柱状の支持柱を設けたことに特徴を有し、支持柱の構造以外のMEMS構造体30,40の基本構成は実施形態1(図1、参照)と同じであるため、共通部分の説明を省略し、共通部には同じ符号を付している。
図9は、本実施形態のMEMS振動子100を示し、(a)はその平面図、(b)は図9(a)のC−C切断面を示す断面図である。図9(a)、(b)において、MEMS構造体30,40のそれぞれの連結部(振動の節の位置)の下面に支持部材としての支持柱81〜88が設けられている。
支持柱81〜84は、MEMS構造体30の連結部下面から垂直に延在され、支持柱85〜88は、MEMS構造体40の連結部下面から垂直に延在され、それぞれ基板20の表面に接続されている。
図9(b)を参照して断面構造について説明する。両端自由梁33を代表して例示している。図9(b)において、両端自由梁33は、基板20の表面に接続される支持柱82,83の上面から長手方向に延在されて形成されている。他の両端自由梁の構成も同様であり説明を省略するが、MEMS構造体30とMEMS構造体40とは、固有振動数(共振周波数)が異なるため、支持柱の長さを変えることがより好ましい。
つまり、仮に、MEMS構造体30の固有振動数を20MHz、MEMS構造体30の固有振動数を5MHzとしたとき、MEMS構造体30の支持柱81〜84は、MEMS構造体40の支持柱85〜88よりも長くなる。この際、基板20に凹部を形成し、この凹部の底部から支持柱81〜84を形成し、基板20の表面から支持柱85〜88を形成することで支持柱をそれぞれ所望の長さに設定することができる。
なお、実施形態2においても、実施形態1と同様な製造方法で形成することが可能である。
なお、支持柱の長さも、前述した長さ(1/4)λにすることが望ましく、各MEMS構造体の固有振動数のそれぞれに対応して基板20の支持柱接続部の高さを変えることにより、所望の長さに設定することができる。
従って、前述した実施形態2によれば、両端自由梁の連結部の中央(つまり、振動の節の位置)に、この支持柱81〜84を設けることができることから、振動漏れをより抑制する効果があるとともに、MEMS構造体の形状を簡素化することができる。
さらに、前述したような支持梁の長さに依存することなくMEMS構造体30,40を基板20に接続することができ、多重環状に配設されて内側と外側にあるMEMS構造体の間隔を詰めることが可能となる。
なお、支持柱81〜84の形状は、断面形状が連結部に相当する四角柱でも、中心が振動の節(連結部中央)と一致する円柱でもよく、特に限定されない。
(実施形態3)
続いて、本発明の実施形態3に係るMEMS振動子の構造について図面を参照して説明する。本実施形態は、前述した実施形態1と実施形態2の構造を組み合わせたもので、複数のMEMS構造体のそれぞれを支持する支持部材として支持梁または支持柱を備えることを特徴としている。ここでは、1例として、MEMS構造体30を支持梁で支持し、MEMS構造体40を支持柱で支持する構成を例示して説明する。
なお、支持部を除いてMEMS構造体30,40の構造及び駆動電極の構造は前述した実施形態1または実施形態2と同じであるため、共通部分の説明を省略する。
図10は、本実施形態に係るMEMS振動子200を示す平面図である。図10において、MEMS構造体30の連結部35〜38それぞれには、外側方向に支持梁51〜54が設けられている。支持梁51〜54は図1,2に示す構造を有しており、MEMS構造体30を基板20から浮いた状態で支持している。また、支持梁51〜54の長さは、共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λとなるように設定されている。
MEMS構造体40の連結部それぞれの下面には、支持部材としての支持柱85〜88が設けられている。支持柱85〜88は、MEMS構造体40の連結部下面から延在され、それぞれ基板20の表面に接続されている。支持柱85〜88の長さ(高さ)も共振周波数の波長をλとしたときに(1/4)λとなるように設定されている。
従って、本実施形態によれば、前述した支持梁(実施形態1)と、支持柱(実施形態2)とのそれぞれの利点を併せ持つ構造を実現でき、MEMS構造体30とMEMS構造体40とを別々に支持しているため、一方のMEMS構造体の振動が他方に伝播せず、振動漏れを一層抑制することができる。
なお、MEMS構造体30の支持を支持柱で行い(図9(a)、参照)、MEMS構造体40を支持梁で行う(図8(a)、参照)構造としてもよい。さらに、MEMS構造体を3個以上の多重環状に組み合わせる場合においては、複数個の前記MEMS構造体のうち、前述した連結部において単独またはいくつかを前記支持梁で支持し、他のMEMS構造体を単独で前記支持柱で支持する構造とすることができる。
このようにすれば、多重環状に配設するMEMS構造体の内側と外側との間隔を任意に設定できる。つまり、固有振動数が近いMEMS構造体を備えることが可能となる効果がある。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示され、且つ、説明しているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲に逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、材質、組み合わせ、その他の詳細な構成、及び製造工程間の加工方法において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状、材質、製造工程などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものでないから、それらの形状、材質、組み合わせなどの限定の一部もしくは全部の限定をはずした部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
例えば、前述の実施形態では、それぞれのMEMS構造体を構成する両端自由梁は、4本で構成されているが、6本の梁の構成でもよい。つまり、両端自由梁の数は2n(nは2以上の整数)の組み合わせとすることができる。
本発明のMEMS振動子は、共振器の他に、フィルタ、スイッチ及びアクチュエータとして応用が可能である。
本発明の実施形態1に係るMEMS振動子の一部を示す平面図。 図1のA―A切断面を示す断面図。 (a)は、本発明の実施形態1に係るMEMS構造体を模式的に示す構成図、(b)は等価回路。 本発明の実施形態1に係る両端自由梁1個単独の振動形態を示す説明図。 本発明の実施形態1に係るMEMS構造体30の駆動形態を模式的に示す説明図。 本発明の実施形態1に係るMEMS構造体の支持梁51〜54がない場合の駆動周波数と支持梁がある場合の駆動周波数の関係を示すグラフ。 本発明の実施形態1に係るMEMS構造体40駆動形態を模式的に示す説明図。 本発明の実施形態1の変形例を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B切断面を示す断面図。 本発明の実施形態2に係るMEMS振動子を示し、(a)はその平面図、(b)は(a)のC−C切断面を示す断面図。 本発明の実施形態3に係るMEMS振動子を示す平面図。
符号の説明
10…MEMS振動子、20…基板、30…MEMS構造体、30a…基部、31〜34…両端自由梁、35〜38…連結部、40…MEMS構造体、45〜48…連結部、51〜54…支持梁、55〜58…支持梁。

Claims (5)

  1. 複数の両端自由梁が、振動の節となる位置を連結部として連環状に交差連結されるMEMS構造体を基板の同一表面上に複数備え、
    前記複数の両端自由梁それぞれの長手方向中央部に、前記両端自由梁と空隙を有して交差する駆動電極が前記基板の表面に設けられ、
    複数の前記MEMS構造体が前記連結部において、支持部材によって前記基板に連結支持されており、
    複数の前記MEMS構造体それぞれを形成する前記複数の両端自由梁が、同時に同じ周波数で、かつ前記基板の表面に対して垂直に駆動されるとともに、
    複数の前記MEMS構造体それぞれが異なる固有振動数を有し、所望の固有振動数を有するMEMS構造体を選択的に駆動することを特徴とするMEMS振動子。
  2. 請求項1に記載のMEMS振動子において、
    それぞれが異なる固有振動数を有する複数の前記MEMS構造体が、平面的に多重環状に配設されていることを特徴とするMEMS振動子。
  3. 請求項1または請求項2に記載のMEMS振動子において、
    多重環状に配設される複数の前記MEMS構造体が、前記連結部の側面から放射状に延在される梁状の前記支持部材によって連結されていることを特徴とするMEMS振動子。
  4. 請求項1または請求項2に記載のMEMS振動子において、
    複数の前記MEMS構造体それぞれが、前記連結部の平面略中央と前記基板とを柱状の支持部材によって垂直に支持されていることを特徴とするMEMS振動子。
  5. 請求項1または請求項2に記載のMEMS振動子において、
    複数の前記MEMS構造体のうちのいくつかが前記連結部の側面から放射状に延在される前記支持部材によって連結され、
    他のMEMS構造体が、前記連結部の平面略中央と前記基板とを支持部材によって垂直に支持されていることを特徴とするMEMS振動子。
JP2006002148A 2006-01-10 2006-01-10 Mems振動子 Expired - Fee Related JP4760384B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006002148A JP4760384B2 (ja) 2006-01-10 2006-01-10 Mems振動子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006002148A JP4760384B2 (ja) 2006-01-10 2006-01-10 Mems振動子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007184815A JP2007184815A (ja) 2007-07-19
JP4760384B2 true JP4760384B2 (ja) 2011-08-31

Family

ID=38340504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006002148A Expired - Fee Related JP4760384B2 (ja) 2006-01-10 2006-01-10 Mems振動子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4760384B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4844526B2 (ja) * 2006-10-03 2011-12-28 ソニー株式会社 共振器、発振器及び通信装置
JP5115244B2 (ja) * 2008-03-05 2013-01-09 セイコーエプソン株式会社 静電振動子及びその使用方法
FI20095988A0 (fi) * 2009-09-28 2009-09-28 Valtion Teknillinen Mikromekaaninen resonaattori ja menetelmä sen valmistamiseksi
JP2012119822A (ja) 2010-11-30 2012-06-21 Seiko Epson Corp 電子装置、電子機器及び電子装置の製造方法
CN103620343B (zh) * 2011-07-04 2016-06-08 株式会社村田制作所 振子及振动陀螺仪
CN112261561B (zh) * 2020-09-29 2021-10-19 瑞声科技(南京)有限公司 一种mems发声装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6985051B2 (en) * 2002-12-17 2006-01-10 The Regents Of The University Of Michigan Micromechanical resonator device and method of making a micromechanical device
JP4442158B2 (ja) * 2003-08-21 2010-03-31 ソニー株式会社 マイクロ電気機械システムの共振器およびその駆動方法
JP2005079604A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Sony Corp 信号伝達装置
US7227432B2 (en) * 2005-06-30 2007-06-05 Robert Bosch Gmbh MEMS resonator array structure and method of operating and using same
JP4760382B2 (ja) * 2006-01-06 2011-08-31 セイコーエプソン株式会社 Mems振動子

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007184815A (ja) 2007-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4645227B2 (ja) 振動子構造体及びその製造方法
KR101917088B1 (ko) 주파수 및 타이밍 생성을 위한 복합 스프링 mems 공진기들
JP4760384B2 (ja) Mems振動子
JP4690436B2 (ja) Mems共振器、mems発振回路及びmemsデバイス
US7839239B2 (en) MEMS resonator having at least one resonator mode shape
JP4760382B2 (ja) Mems振動子
JP2004507921A (ja) マイクロメカニカル共振装置及びそれを使用するマイクロメカニカル装置
CN101223692B (zh) 共振器及使用其的滤波器
KR20050101313A (ko) 극소 기계적 공진기 장치 및 극소 기계적 장치의 제조 방법
KR20170056008A (ko) 발진기들 및 실시간 클럭 응용들을 위한 다수의 코일 스프링 mems 공진기
JP4977431B2 (ja) マイクロメカニカル共振器
KR20210151924A (ko) 마이크로 전자기계 공진기
US8872603B2 (en) Resonator and resonator array
EP2987239B1 (en) A nanomechanical resonator array and production method thereof
JP2006231489A (ja) 振動子構造体及びその製造方法
US7511937B2 (en) Rotary variable capacitance element and rotary variable capacitance device
JP2008259100A (ja) マイクロメカニカル共振器
JP7453147B2 (ja) Mems共振器の構成
JP5671742B2 (ja) 電極構造要素と振動構造要素を近接して配置する方法およびこれを用いたmemsデバイス
JP4965962B2 (ja) マイクロメカニカル共振器
JP2008103777A (ja) マイクロメカニカル共振器
JP4341288B2 (ja) Mems型共振器及びその製造方法、並びにフィルタ
JP5115244B2 (ja) 静電振動子及びその使用方法
JP5056967B2 (ja) Mems振動子
WO2004050545A1 (ja) マイクロマシンおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070405

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110125

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110328

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110523

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees