JP4754595B2 - 薄膜形成装置および方法 - Google Patents
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(膜厚変化率)=(Δd/Δt)×100
に基づき薄膜の膜厚変化率を算出している。そして、上記したように膜厚変化が流動性や粘性などの薄膜の状態変化と密接に関連していることから、薄膜の状態を示す指標値として膜厚変化率を採用し、この膜厚変化率に基づき薄膜の状態を間接的に検出している。
2…圧力調整部
3…制御部
11…薄膜形成室
71,75…加重モータ(押付け手段)
80…膜厚検出器(検出手段)
W…基板
Claims (4)
- 基板上に所定の薄膜形成材料からなる薄膜を形成する薄膜形成装置において、
その内部が薄膜形成室となっている処理容器と、
前記薄膜形成室内で、前記薄膜形成材料を含む塗布液が塗布された基板に対して押付部材を相対的に接近させて前記基板上の塗布液に前記押付部材を押し付ける押付け手段と、
前記基板に塗布された塗布液の状態を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて前記押付け手段による前記塗布液への前記押付部材の押付タイミングを制御する制御手段とを備え、
前記検出手段は前記基板に形成された塗布液の膜厚に関する膜厚情報を取得するとともに、前記制御手段は前記膜厚情報により時間に対する膜厚の変化を求め、該膜厚変化に基づき前記押圧タイミングを決定することを特徴とする薄膜形成装置。 - 前記制御手段は、複数種類の塗布液に対応した膜厚変化率の最適値を記憶したメモリを有する請求項1記載の薄膜形成装置。
- 前記押圧部材は、平面研磨された石英基板である請求項1または2に記載の薄膜形成装置。
- 基板上に所定の薄膜形成材料からなる薄膜を形成する薄膜形成方法において、
基板に前記薄膜形成材料を含む塗布液を塗布する第1工程と、
前記基板に形成された前記塗布液が所定状態に達したことを検出する第2工程と、
前記第2工程における検出タイミングに対応し、前記基板に押付部材を相対的に接近させて前記基板上の塗布液に前記押付部材を押し付ける第3工程と
を備え、
前記第2工程は前記基板に形成された塗布液の膜厚に関する膜厚情報を取得する工程であり、
前記第3工程は前記膜厚情報により時間に対する膜厚の変化を求め、該膜厚変化に基づき前記押圧タイミングを決定する工程である
ことを特徴とする薄膜形成方法。
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