JP4751187B2 - 配線基板の製造方法 - Google Patents

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本発明は、配線基板製造方法に関するもので、特に携帯電話、情報端末機器等の各種電子機器に用いられる配線基板の接栓部分もしくは他の配線基板と電気的に接続する部分の構造に関する配線基板製造方法に関する。
近年、携帯電話や携帯用情報端末等の各種電子機器において、半導体等を搭載したプリント基板を接続するためにフレキシブルプリント配線基板が多く用いられている。フレキシブルプリント配線基板は、その可撓性の構造により携帯電話等の小型の携帯電子機器の薄型化または省スペース化による制限された空間においても他のプリント基板等を接続することを可能にしていた。
ここで、従来のフレキシブルプリント配線基板の構造およびその製造方法について図4、図5、図6および図7を用いて説明する。
図4は従来の全面メッキのフレキシブルプリント配線基板を示す断面図である。また図5(a)乃至図5(h)は従来の全面メッキのフレキシブルプリント配線基板の構成の製造方法を示す各工程のフロー断面図である。
また図6は従来の部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板を示す断面図である。また図7(a)乃至図7(k)は部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板の構成の製造方法を示す各工程のフロー断面図である。
図4において3層材の両面フレキシブルプリント配線基板11はポリイミド等からなる可撓性を有する絶縁性の樹脂基板12の表面に接着材(絶縁性)13a、13bを介して銅箔14a、14bが形成されている。この銅箔14a、14bはエッチングにより所定の回路配線として形成させる。
また必要であれば他のフレキシブルプリント配線基板との接続のためのスルーホール15が設けられており、スルーホール15の内側、両面の銅箔14a、14bの全面に銅メッキ16、16a、16bが施されている。
この樹脂基板12、および銅メッキ16a、16bを接着材(絶縁性)17a、17bを介して接栓部分もしくは他のプリント配線との接続部分19(以下接栓部分という。)以外を包含するポリイミド等の絶縁性のカバーレイ18を形成する。よって、銅メッキ16aが形成された銅箔14aおよび樹脂基板12の接栓部分19はカバーレイ18より突出している。
また図6は従来の部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板の断面図を示しており、図4と同じ構成部分は同じ符号を付し、説明は省略する。図4との相違点は銅メッキ16、16c、16dがスルーホール15の内側と銅箔14a、14b上のスルホール5の周辺のみであることである。また銅箔14aおよび樹脂基板12の接栓部分19がカバーレイ18から突出していることである。
次に図5を用いて図4の従来の全面メッキのフレキシブルプリント配線基板11の製造方法について以下に説明する。まず、図5(a)において、ポリイミド等からなる可撓性を有する絶縁性の樹脂基板12の表面に接着材(絶縁性)13a、13bを介して銅箔14a、14bを両面に形成する。
次に図5(b)において、所望の位置に他の配線基板等との接続のためのスルーホール15の穴あけを上記図5(a)の銅箔積層基板に形成する。
さらに図5(c)においてスルーホール15の内側および銅箔14a、14bの表面に銅メッキ16a、16bを形成する。
次に図5(d)において銅メッキ16a、16bの表面にレジストを塗布する。図5(e)において接栓部分19および所定の回路配線を形成するためにレジストパターニングをして、露光、現像して、レジストを所望のパターンにエッチングする。
次に図5(f)において、形成されたレジストのパターンで銅メッキ16a、16bおよび銅箔14a、14bを所望の回路配線にパターンエッチングする。その後、図5(g)において、残ったレジストを剥離する。
次に図5(h)において、接着材(絶縁性)17a、17bを介して接栓部分19以外のフレキシブルプリント配線基板11全体を包含するようにカバーレイ18を形成する。よって、接栓部分19の樹脂基板12、接着剤13a、13bおよび銅メッキ16aされた銅箔14aがカバーレイ18より突出する。
さらに図7を用いて図6の部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板11‘の製造方について以下に説明する。まず図7(a)において、ポリイミド等からなる可撓性を有する絶縁性の樹脂基板12の表面に接着材(絶縁性)13a、13bを介して銅箔14a、14bを両面に積層する。
次に図7(b)において、所望の位置に他の配線基板等との接続のためのスルーホール15の穴あけを上記図7(a)の銅箔積層基板に形成する。
さらに図7(c)において銅メッキ16、16c、16dの表面にレジストを塗布する。次に図7(d)においてスルーホール15の周辺に銅メッキ16を形成するためにレジストをレジストパターニングして、露光、現像して、レジストを所望のパターンにエッチングする。
その後、図7(e)においてパターニングされたレジストを残したまま、スルーホール15の内側およびその周辺に銅箔14a、14bの表面に銅メッキ16、16c、16d行う。そして、図7(f)において、レジストを剥離する。
次に図7(g)において銅箔14a、14bおよび銅メッキ16c、16dの表面にレジストを塗布する。図7(h)において接栓部分19および所定の回路配線を形成するためにレジストパターニングをして、露光、現像して、レジストを所望のパターンにエッチングする。
また図7(i)において形成されたレジストのパターンで銅箔14a、14bを所望の回路配線にパターンエッチングする。その後、図7(j)において、残ったレジストを剥離する。
次に図7(k)において、接着材(絶縁性)17a、17bを介して接栓部分19以外のフレキシブルプリント配線基板11全体を包含するようにカバーレイ18を形成する。よって、接線部分19の樹脂基板12、接着剤13a、13bおよび銅箔14aがカバーレイ18より突出する。
このような従来のフレキシブルプリント配線基板を例えば携帯電話、デジタルスチールカメラ、デジタルビデオのようなモバイル電子機器に使用されている。例えば、その電子機器内部のHDDが搭載されたプリント配線基板と接続する場合について、図8を用いて説明する。
図8は携帯電話の機器内部に搭載されたHDDを含む構成概要図である。図8において携帯電話100の機器内部にはメモリー等に使用されるHDDが搭載されているプリント基板101があり、そのプリント基板とI/O(インプット、アウトプット)フレキシブルプリント配線基板102が接続されている。
ここで、プリント基板とのフレキシブルプリント配線基板との接合方法には、種々接合方法があるが、フレキシブルプリント配線基板の接合には、ACF(異方性導電膜)接合が多く用いられている。
ここで、ACF接合には以下(1)〜(5)の接合条件が必要である。その接合条件とは、(1)フレキシブルプリント配線基板の銅箔の厚み、(2)フレキシブルプリント配線基板の銅箔の形状、(3)フレキシブルプリント配線基板と接続する部分の導体(配線)の厚み、(4)フレキシブルプリント配線基板と接続する部分の導体(配線)の形状、(5)ACF材の厚みである。
その為にそのフレキシブルプリント配線基板の形状にはその電子機器の薄型化もしくは省スペース化等によっていろいろな形態、例えば、両面フレキシブルプリント配線基板、片面フレキシブルプリント配線基板、2層材のフレキシブルプリント配線基板等が求められる。
このようにフレキシブルプリント配線基板の形状の変化に伴い、ACFテープを選択しなければならず、実装工程への負担が大きいという問題あった。
さらにACF接続する場合には、その配線間のピッチ間隔に制限があるという問題があった。
このACF接合における配線間のピッチ間隔の制限の問題を解決するために接続する配線基板をマトリックス上に設ける回路基板装置および基板間の接続方法が提案されている。
例えば特開2004―1555号では、表層に複数の電極端子をマトリックス状に配置した第一の基板と電子端子10に対向するとともに表層に複数の電極端子をマトリクス上に配置した第二の基板とこれらの基板間に且つ電極端子に対応する位置に配置したACFとを供え、2つの基板およびACFを加圧部品により加圧して、2つの基板を電気的に接続する。よって、電極端子をマトリクス状に配置したため、従来の接続部分を使用した場合に比べ、薄型化と省スペース化を実現できるという効果が得られた。
特開2004−31555号
従来の回路基板装置および基板間の接続方法は電極端子の配置に制約され、製造効率が良くないという問題点があった。
また、フレキシブルプリント配線基板の形状の変化に伴い、ACFテープを選択しなければならず、実装工程への負担が大きいという問題があり、それを解決するために実装工程でのACF材(ACFテープ)を統一する必要がある。
そのためにはフレキシブルプリント配線基板の薄さを要求される。その場合、基板を3層材から2層材にしたり、銅箔を薄くしたり、3層材の接着材を薄くしたり、カバーレイおよびベースポリイミドの厚さを調節することで対応していた。しかしながら、材料的に薄く出来ないものがあったり、2層材の場合、銅箔を薄くし過ぎると製造工程内で断線が生じるという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、配線基板の薄型化もしくは省スペース化および接続条件に対応が可能であり、製造効率が向上する配線基板製造方法を提供することを目的とする。
記目的を達成するための本発明による配線基板の製造方法は、第1面と、この第1面とは反対側に位置される第2面とを有する基板の前記第1面に第1導体を形成する工程と、前記第1導体を覆うように第1導体メッキを施す工程と、前記第1導体メッキで覆われた前記第1導体の上に重ねるように第1カバー層を形成する工程と、前記基板の前記第2面に、前記基板の上に後で形成する第2カバー層との間に位置されて第2導体メッキに覆われた被覆部分と該被覆部分から延出された外部露出部分とを有する第2導体を形成する工程と、前記第2導体の前記被覆部分を覆うように第2導体メッキを施す工程と、前記第2導体メッキで覆われた前記第2導体の前記被覆部分の上に重ねるように第2カバー層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、導体の接栓部分もしくは他の配線基板との接続部分の導体上に導体メッキを形成しないことにより、薄型化もしくは省スペース化および接続条件に対応が可能であり、製造効率が向上することができる。
以下、本発明の一実施例の形態による配線基板とその製造方法を図面を用いて詳細に説明する。本実施形態は、フレキシブルプリント配線基板に本発明を適用した例である。
まず、図1を参照して、フレキシブルプリント配線基板の構造の概要を説明する。図1は本発明の一実施例の形態における配線基板の構造を示す断面図である。
図1において3層材の両面フレキシブルプリント配線基板1はポリイミド等からなるか性を有する絶縁性の樹脂基板2の表面に接着材(絶縁性)3a、3bを介して銅箔4a、4bを設置している。この銅箔4a、4bはエッチングにより所定の回路配線として形成させる。
また必要であれば他のフレキシブルプリント配線基板との接続のためのスルーホール5が設けられており、スルーホール5の内側、両面の銅箔4a、4bの全面に銅メッキ6a、6bが形成れている。ここで、銅箔4aの表面の接栓部分9には銅メッキ6aが形成されていない。
この樹脂基板2、および銅メッキ6a、6bが表面に形成されている銅箔4a、4bを接着材( 絶縁性)7a、7bを介して接栓部分9以外を包含するポリイミド等の絶縁性のカバーレイ8を形成する。従って、銅メッキ6aが形成されていない銅箔4aおよび樹脂基板2の接栓部分9はカバーレイ8より突出する。
次に図2を参照して、図1の構造を有するフレキシブルプリント配線基板の製造方法について説明する。図2(a)ないし図2(f)は本発明の一実施例の形態における配線基板の製造方法を示す各工程のフロー断面図である。
まず、図2(a)において、ポリイミド等からなる可撓性を有する絶縁性の樹脂基板2の表面に接着材(絶縁性)3a、3bを介して銅箔4a、4bを両面に形成する。
次に図2(b)において、所望の位置に他の配線基板等との接続のためのスルーホール5の穴あけを上記図2(a)の銅箔積層基板に形成する。
さらに図2(c)において、銅箔4a、4bの表面にレジストを塗布する。次に図2(d)において、銅箔4aの表面の接栓部分9の部分のレジストを残すようにレジストをレジストパターニングして、露光して、エッチングして所望のレジストパターンを残す。
次に図2(e)において、スルーホール5の内側およびレジストパターン以外の表面の銅箔4a、4bの表面に銅メッキ6a、6bを施す。さらに図2(f)において、残ったレジストをエッチングして剥離する。すると銅箔4aの接栓部分のみ銅メッキ6aが施されない。
次に図2(g)において銅メッキ6a、6bおよび一部銅箔4aの表面にレジストを塗布する。
図2(h)において銅箔4bの接栓部分9および銅箔4a、4bに所定の回路配線を形成するためにレジストパターニングをして、露光、現像して、レジストを所望のパターンにエッチングする。
次に図2(i)において、形成されたレジストのパターンで銅メッキ6および銅箔4を所望の回路配線にパターンエッチングする。その後、図2(j)において、残ったレジストを剥離する。
次に図2(k)において、接着材(絶縁性)7a、7bを介して接栓部分9以外のフレキシブルプリント配線基板1 全体を包含するようにカバーレイ8a、8bを形成する。よって、接栓部分9のみが銅メッキ6aが表面に形成されていない銅箔4aおよび接栓部分9の樹脂基板2、接着剤3,3bがカバーレイ8a、8bより突出する。
本実施例によれば、フレキシブルプリント配線基板1の銅箔4aの接栓部分9の銅メッキ6aが形成さないことにより、接栓部分9でのフレキシブルプリント配線基板1の厚さが薄くなるので、高さ制限に対応可能である。
従って、図8で説明したような携帯電話等の電子機器の薄型化もしくは省スペース化によって、他の配線基板と本発明の配線基板との接合における高さ制限がより厳しくなったとしてもその条件に対応することが可能となる。
また、本実施例によれば、従来の部分スルーメッキ構造のようにスルーホール5の周りだけに銅メッキ6を塗布するので、レジストパターニングの工程で、スルーホール5との位置合わせを行う必要があり、複雑な工程が必要になるとともに、スルーホール5とずれてしまうと不良品となる可能性があり、生産効率が悪くなることが懸念されるが、本実施例によれば、接栓部分のみを銅メッキ6を塗布しないにする簡単なレジストパターニング工程で実施することが可能となる。
さらに、従来の部分スルーメッキ構造においては、銅メッキ部分が全面メッキ等に比べると電流容量が少なくなってしまう。よって接栓部分を薄型にできたとしても、電流容量が少なくなるので、銅箔4aを厚くする必要があるので、最終的には接栓部分のフレキシブル基板の厚さが厚くなり、高さ制限等に対応できなくなってしまう。
また接栓部分9のパターンの厚みが薄くなるので、そのエッチング精度が向上する。そのために接栓部分のパターン幅を細くすることが可能となり、高精細化にも対応することが可能となる。
次に図3を用いて、本発明の一実施例のフレキシブル配線基板同士をAFC接合する場合について説明する。ここで、図3は本発明の一実施例のフレキシブル配線基板のACF接合方法を示す各工程のフロー断面図である。
このACF接合とはφ2〜20μmの微小な導電性粒子が均一に接着性のある樹脂(バインダー)に混在され、フィルム状にしたACFフィルムを使用し、2つの基板を接続する場合は共に接続する電極の間にそのフィルムをはさみこみ、熱と圧力を与えることで接合するものである。
図3において、フレキシブルプリント回路基板21は図1で説明したような本発明の一実施例の構造を有するフレキシブルプリント回路基板21の接栓部分を図1のX−X断面のA方向から見た断面図である。
まず、図3(a)で示すように配線24が形成されたフレキシブルプリント配線基板21およびこれと接合させるもうひとつの配線23が形成されたプリント配線基板22を用意し、この2つの配線基板の間に導電性粒子26を有するACFフィルム25を挟み込み、加圧および加熱する。ここで、フレキシブルプリント配線基板21は図1で説明したように樹脂基板の両面に接着剤が塗布された3層材である。
両基板を加圧および加熱することにより図3(b)で示すように配線23、24上の余バインダーを排除し、上下の配線間に導電性粒子26を挟み込むことで、配線間が導電性を有すると同時に熱硬化性の絶縁性のバインダーにより、接着性の保持および隣接端子間の絶縁性を一括で行うことができる。また絶縁性を保つためには配線23または24同士の間隔dは通常、100μm程度であり、最小間隔は50μmぐらいとされている。
ここで、ACF接合を使用する利点として、ほとんど接着剤の厚さがなく、容易に電気的接続および絶縁性が保たれるので、高さ制限等にも有効である。さらにプリント回路基板のACF接合されていない側に特定の部品を実装する場合には、取り扱いが容易であり、ACF接合した後の工程の能率を上げることが可能である。
またACF接合するフレキシブルプリント基板21の配線23には銅メッキが施されていないので、その分においても高さ制限にも対応可能であり、使用される電子機器の薄型化、省スペース化に対応できる。
このように本実施例のフレキシブルプリント回路基板では、接栓部分の配線の銅メッキを施さないことにより、所望の静電容量を保ちつつ回路基板自体の薄型が図れる。また、それを電子機器等に搭載する場合にはその高さ制限等に対応可能であり、電子機器の薄型化、省スペース化に対応することができる。さらに、そのフレキシブルプリント回路基板を他のプリント回路基板をAFC接合することにより、接着剤により全体の厚さが厚くなることもなく、またその後の工程においても作業効率を向上されることができる。
ここで、本実施例の説明では、3層材の両面フレキシブルプリント回路基板について説明したが、使用状況によって2層材もしくは片面フレキシブルプリント回路基板に採用してもよい。
また、上述した実施例には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件、もしくは複数の工程における適宜な組み合わせにより種々の段階の発明が抽出されえる。例えば、実施例に示される全構成要件から幾つかの構成要件もしくは全工程から幾つかの工程を削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられる効果が得られる場合には、この構成要件もしくは工程が削除された構成が発明として抽出される。
本発明の一実施例の形態における配線基板の構造を示す断面図。 本発明の一実施例の形態における配線基板の製造方法を示す各工程のフロー断面図。 発明の一実施例の配線基板のACF接合方法を示す各工程のフロー断面図。 従来の全面メッキのフレキシブルプリント配線基板を示す断面図。 従来の全面メッキのフレキシブルプリント配線基板の製造方法を示す各工程のフロー断面図。 従来の部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板を示す断面図。 従来の部分スルーホールメッキのフレキシブルプリント配線基板の製造方法を示す各工程のフロー断面図。 携帯電話の機器内部に搭載されたHDDおよびI/Oフレキシブルプリント配線基板を含む構成概要図
符号の説明
1、11 フレキシブルプリント配線基板
2、12 樹脂基板
3、13 接着剤
4a、4b、14a、14b 銅箔
5、15 スルーホール
6a、6b、16a、16b、16c、16d 銅メッキ
7、17a、17b 接着剤
8、18a、18b ハードカバーレイ
9,19 接栓部分

Claims (5)

  1. 第1面と、この第1面とは反対側に位置される第2面とを有する基板の前記第1面に第1導体を形成する工程と、
    前記第1導体を覆うように第1導体メッキを施す工程と、
    前記第1導体メッキで覆われた前記第1導体の上に重ねるように第1カバー層を形成する工程と、
    前記基板の前記第2面に、前記基板の上に後で形成する第2カバー層との間に位置されて第2導体メッキに覆われた被覆部分と該被覆部分から延出された外部露出部分とを有する第2導体を形成する工程と、
    前記第2導体の前記被覆部分を覆うように第2導体メッキを施す工程と、
    前記第2導体メッキで覆われた前記第2導体の前記被覆部分の上に重ねるように第2カバー層を形成する工程と、
    を具備することを特徴とする配線基板の製造方法。
  2. 前記第1導体または第2導体を所望の回路にパターニングする工程を具備することを特徴とする請求項に記載の配線基板の製造方法
  3. 前記第1導体メッキおよび第2導体メッキを施す工程の前に前記基板および前記第1導体および第2導体の所望の箇所にスルーホールを形成する工程をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法
  4. 前記第1導体メッキおよび第2導体メッキを施す工程は前記スルーホールの内側に導体メッキを形成することを特徴とする請求項3に記載の配線基板の製造方法
  5. 前記パターニングする工程後に、前記基板、前記第1導体、前記第2導体の前記被覆部分を包含する第1カバー層と第2カバー層を形成する工程をさらに具備することを特徴とする請求項2に記載の配線基板の製造方法
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