JP4742964B2 - 実装基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
このような実装基板が特許文献1に開示されている。特許文献1の実装基板は、基板の表面に配線パターンが形成されており、半導体チップの裏面に形成されている主電極が基板に電気的に接続固定されている。半導体チップの表面に形成されている主電極は、ワイヤボンディングにより基板に形成されている配線パターンに接続固定されている。
図15に、従来の実装基板50の模式図を示している。実装基板50は、基板52の表面に6個の半導体チップ60が搭載されている。基板52の表面には、ソース配線62とゲート配線64が形成されている。半導体チップ60のソース電極(図示省略)と基板52のソース配線62は、ワイヤ64を利用してワイヤボンディングで接続されている。半導体チップ60のゲート領域(図示省略)と基板52のゲート配線64は、ワイヤ58を利用してワイヤボンディングで接続されている。半導体チップ60のドレイン電極は半導体チップ60の裏面に形成されており、基板52の表面に形成されている図示しないドレイン配線と接続されている。なお、ソース配線62及びゲート配線64は、半導体チップ60と接続する部分のみを簡易的に示している。
図15に示すように、従来の実装基板50では、基板52に搭載する半導体チップ60の表面の面積と搭載する個数によって、基板52に必要な表面面積が決定していた。そのため、表面と裏面が広い半導体チップを利用すると、実装基板50の表面の面積を小さくすることが困難であった。また、基板52に冷却装置を設置して、半導体チップ50を冷却しようとしても、半導体チップ50の一面のみが基板52と接触しているため冷却効率が悪い。そのため、半導体チップ50を冷却するための構造が大掛かりになっていた。
本発明では、半導体チップを搭載した実装基板の厚さ方向の距離が長くなることが許容されることを利用してその表面面積を小さくする技術を提供する。また、半導体チップを効率的に冷却することができる技術を実現する。
上記の実装基板によると、半導体チップの一方の主電極に接続する第1配線パターンと半導体チップの他方の主電極に接続する第2配線パターンの間に流れる電流を、基板の表面に取り出すことができる。それにより、複数の半導体チップの一方の主電極に接続されている配線パターン同士を基板の表面で接続することもできる。同様に、複数の半導体チップの一方の主電極に接続されている配線パターン同士を基板の表面で接続することもできる。
上記の実装基板によると、基板に半導体チップを搭載するときに、半導体チップを搭載し易い。半導体チップを基板の所定の位置に搭載し易い。
上記の実装基板によると、基板が熱伝導率の高い金属で形成されている。それにより、半導体チップで発生した熱を基板に効率的に伝導することができる。基板に冷却装置を設置することで半導体チップを冷却する効率が飛躍的に上昇する。大掛かりな冷却装置を用いることなく、半導体チップを効率的に冷却することができる。
上記の保護膜が形成されていると、半導体チップの主電極と基板の窪みの側壁に形成された配線パターンを、導電性の材料で接続するときに、一方の主電極と他方の主電極が短絡することを防止できる。導電性の材料の移動範囲を、保護膜によって所望する範囲内に留めることができる。
側面に制御電極が形成されているような半導体チップ、例えばIGBTやFET等の半導体チップを搭載している実装基板を製造することができる。
(第1実施形態)基板に窪みを形成して、窪みの内部に半導体チップ搭載することによって実装基板の表面の面積を小さくしている。半導体チップと基板の窪みの側壁に形成された配線をはんだで接続している。また、基板を構成する材料にはアルミニウムを使用している。
(第1実施例)
図1は、基板2に半導体チップ20を搭載した実装基板10を模式的に示している。実装基板10の表面に窪み30が形成されており、半導体チップ20が6個搭載されている。窪み30の内部に半導体チップ20が一方の側面を下にして搭載されている。半導体チップ20の上側の側面にはゲート電極6が形成されている。ゲート電極6は、ワイヤ8によって、基板2の表面に形成されているゲート配線14に接続されている。図示16は、ソース配線である。ソース配線16は、基板2の表面から窪み30の側壁まで連続して形成されており、窪み30の側壁で半導体チップ20のソース電極と電気的に接続している。図示22は、ドレイン配線である。ドレイン配線22は、基板2の表面から窪み30の側壁まで連続して形成されており、窪み30の側壁で半導体チップ20のドレイン電極と電気的に接続している。窪み30の側壁部分の構成は後述する。なお、図1では、基板2に形成されているゲート配線14、ソース配線16及びドレイン配線22の一部のみを簡略化して示しており、基板2の表面に形成されている全ての配線パターンを示すものではない。
基板2は、アルミニウムで形成されており、基板2の内部に図示しない冷却装置を備えている。冷却装置により基板2全体を冷却することができる。
基板2に窪み30が形成されている。窪み30の底の部分は、半導体チップ20の側面よりも大きく形成されている。窪み30の横断面は、基板の表面側では大きく、窪み30の底面側では小さくなる向きに傾斜して形成されている。
窪み30を含む基板2の表面には、絶縁膜24が形成されている。その絶縁膜24の表面にゲート配線14とソース配線16とドレイン配線22が形成されている。ゲート配線14は基板2の表面部分のみに形成されている。ソース配線16は、窪み30の一方の側壁(紙面左側)に形成されており、ゲート配線14と接しない状態で基板2の表面まで連続して形成されている(図1参照)。ドレイン配線22は、窪み30の他方の側壁(紙面右側)から基板2の表面部分まで連続して形成されている。
絶縁膜24が形成されていることにより、ゲート配線14、ソース配線16及びドレイン配線22が互いに電気的に接続しない状態を保っている。
半導体チップ20が、窪み30の内部に搭載されている。半導体チップ20は、はんだ18によって、窪み30の側壁に形成されているソース配線16及びドレイン配線22に接続されている。半導体チップ20の側面の一部は、側面の周方向に亘って保護膜26によって覆われている。保護膜26の表面にゲート電極6が形成されている。
ゲート電極6は、ワイヤ8によりゲート配線14に接続されている。ゲート配線14は基板2の表面にのみ形成されている。
ソース配線16は、基板2の表面から連続して窪み30の側壁まで形成されている。ソース配線16は、窪み30の側壁において、半導体チップ20のソース電極と電気的に接続している。
ドレイン配線22は、基板2の表面から連続して窪み30の側壁まで形成されている。ドレイン配線22は、窪み30の側壁において、半導体チップ20のドレイン電極と電気的に接続している。
本発明の実装基板10の製造方法を、図面を参照して説明する。まず、図4に示すようにアルミニウム基板2を用意する。次に、図5に示すように、アルミニウム基板2をエッチングして窪み30を形成する。
次に、図6に示すように、窪み30の表面及び基板30の表面にCVD法を利用して、酸化シリコンからなる絶縁膜24を形成する。次いで絶縁膜24の表面にスパッタ法を利用してゲート配線14とソース配線16とドレイン配線22を形成する。このとき、ソース配線14は、窪み30の一方の側壁から基板2の表面に亘って連続して形成する。同様に、ドレイン配線22は、窪み30の他方の側壁から基板2の表面に亘って連続して形成する。
次いで、図7に示すように、半導体チップ20の表面と裏面が基板2の表面に直交するとともに半導体チップ20の側面が基板2の表面に平行でゲート電極6が基板2の表面側に位置する姿勢で、半導体チップ20を窪み30に収容する。半導体チップ20に保護膜26及びゲート電極6を形成する方法は後述する。半導体チップ20を窪み30に搭載するに先立って、半導体チップ20のソース電極及びドレイン電極が形成されている面に未溶融状態のはんだ板18を貼り付ける。
次いで、実装基板を200℃に加熱して、半導体チップのソース電極とソース配線16及び半導体チップのドレイン電極とドレイン配線22を、はんだ18によって、電気的に接続固定する(図8)。ここで、半導体チップ20と窪み30の隙間は、窪み30の底の部分では狭く、基板2の表面に向かうに従って広くなっている。そのため、はんだ18は、窪み30の底には流れにくく、半導体チップ20の側面にはんだ18が付着することが防止できる。ソース配線16とドレイン配線22間の短絡が防止できる。
次いで、ゲート電極6とゲート配線14をワイヤボンディング利用してワイヤ8で接続し、図2に示す実装基板10を得ることができる。
図9から図14は、半導体チップ20に保護膜26及びゲート電極6を形成する工程を示す要部断面図を示している。なお、図9〜図14では、分かり易さのために、複数の半導体チップ20に保護膜26及びゲート電極6を同時に形成する工程の内、2個の半導体チップ20について示している。
まず、図9に示すように、隣り合う2個の半導体チップ20のダイシング部分以外にレジスト膜40を形成する。レジスト膜40は、フォトレジストを成膜した後、所望する部分以外を露光した後、不要部分を現像液で除去して得られる。
次いで、図10に示すように、隣り合う2個の半導体チップ20のダイシング部分をドライエッチングして溝42を形成する。
次に、図11に示すように、レジスト膜40をアルカリ溶液で除去した後、CVD法を利用して、酸化シリコンの保護膜(後に保護膜26になる部分を含む)44を形成する。
次いで、図12に示すように、半導体チップのゲート領域につらなる部分にコンタクトウィンドウ44aを設け、さらにスパッタリング法を利用して、チタン(Ti)を主材料とする金属膜(後にゲート電極6になる部分を含む)46を形成する。金属膜46の一部は、保護膜44のコンタクトウィンドウ44aを貫通して半導体チップ20のゲート領域に電気的に接続される。次いで、半導体チップ20のゲート領域に接している金属膜46の表面にレジスト膜48を形成する。
次に、図13に示すように、サイドウォールドライエッチング法を利用して、レジスト膜48が形成されている部分以外の金属膜46を除去する。次いで、レジスト膜48を、アルカリ溶液で除去する。このようにして、半導体チップ20のゲート領域に接しており、半導体チップ20の側壁の一部に形成されるゲート電極6が得られる。
次に、図14に示すように、実装基板20のソース領域を覆っている部分の保護膜44を弗化水素系溶液で除去した後、隣り合う半導体チップ20をダイシングにより分離する。ゲート電極6ならびにソース電極を取り囲む範囲は、額縁状に保護膜44で取り囲まれている。
半導体チップの側面にゲート電極が形成されている。そのため、半導体チップの表面ではゲート電極を形成するための面積を削減することができる。半導体チップの表面ではソース電極を形成することができる面積が増加する。ソース電極の面積を大きく形成すると、ソース電極とソース配線の接触面積が大きくなり、電気抵抗を小さくすることができる。すなわち、半導体チップのオン抵抗を下げることができる。
半導体チップのソース電極及びドレイン電極に、予めはんだ膜が形成されている。予めはんだ膜が形成されていることにより、はんだの融点以上に半導体チップを加熱するだけで電極と配線を接続できる。電極と配線をワイヤで接続するよりも簡単な方法で製造できる。また、電極と配線をワイヤで接続するよりも電極と配線を接続する体積が増加するため、半導体チップのオン抵抗が小さくなる。
半導体チップの側壁に保護膜が形成されているため、はんだが溶融して半導体チップの側壁に移動しても、半導体チップの側壁に直接付着することを抑制できる。半導体チップの電極同士が短絡することを防止できる。
基板に形成される窪みの側壁に、ソース電極及びドレイン電極と接続する配線が形成されている。窪みの側壁に配線を形成することにより、基板の表面に形成する配線を削減することができるため、基板の表面面積をより小さくすることができる。
基板と配線の間に絶縁膜を形成することにより、基板の材料として金属(本実施例ではアルミニウム)を使用することができる。基板の材料として金属を使用すると、半導体チップで発生した熱を基板に効率的に伝導することができ、基板に冷却装置を設置することで半導体チップを冷却する効率が飛躍的に向上する。
本発明では、基板に形成された配線とソース電極又は配線とドレイン電極の接続にワイヤを使用しない。配線とソース電極をワイヤボンディングで接続することによる半導体チップへの損傷が防止できる。同様に、配線とドレイン電極をワイヤボンディングで接続することによる半導体チップへの損傷が防止できる。
本発明では、半導体チップの一方の表面にソース電極が形成され、ソース電極が形成されている面に対向する面にドレイン電極が形成されている。ソース配線とソース電極をはんだで接続し、ドレイン配線とドレイン電極をはんだで接続することにより半導体チップの両面にかかる応力を均一にすることができる。
例えば、上記実施例では、基板を200℃で加熱して、電極と配線を電気的に接続固定している。しかしながら、はんだの種類によって加熱する温度を変化することができる。すなわち、基板を加熱する温度は、はんだの融点以上であればよい。
上記実施例では、ソース配線とソース電極をはんだで接続し、ドレイン配線とドレイン電極をはんだで接続している。しかしながら、はんだを用いずに、他の導電性を有した材料で接続してもよい。例えば、導電性の熱可塑性樹脂を、加熱工程で熱可塑性樹脂の軟化点以上で加熱してもよい。または、導電性の熱硬化性樹脂を、加熱工程で熱硬化性樹脂の硬化点以上で加熱してもよい。または、導電性のペースト材料を、加熱工程で固化させてもよい。すなわち、配線と電極が電気的に接続する材料であればよい。
上記実施例では、アルミニウム基板をエッチングして窪みを形成している。しかしながら、切削で窪みを形成することもできる。
上記実施例では、アルミニウムの基板を利用しているが、基板はアルミニウム以外の金属を利用してもよい。金属は熱伝導率が高く、どのような種類の金属でも半導体チップを効率的に冷却することができる。また、基板の材料は金属に限定されず、例えば樹脂を利用してもよい。樹脂は加工性に富むため、基板の製造コストを削減することができる。また、樹脂を利用すると、軽量な実装基板を提供することができる。さらに、基板と配線の間の絶縁膜を省略することができる。すなわち、基板を形成する材料は、目的と用途に合わせて選択することができる。
上記実施例では、窪みの表面および基板の表面にCVD法を利用して、絶縁膜を形成している。しかしながら、印刷で絶縁膜を形成することもできる。また、絶縁膜は酸化シリコンに限らず、樹脂等の絶縁物も利用することができる。
上記実施例では、絶縁膜の表面に、スパッタ法を利用して配線を形成している。しかしながら、印刷やメッキで配線を形成してもよい。
上記実施例では、チタンを主材料とする金属膜を形成している。しかしながら、ニッケルやタングステンなどの材料を利用することもできる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
8、58、64:ワイヤ
10、50:実装基板
20、60:半導体チップ
14、64:ゲート配線
16、64:ソース配線
18:はんだ
22:ドレイン配線
24:絶縁膜
26:保護膜
Claims (8)
- 表面と裏面に一対の主電極が形成されている半導体チップを搭載している実装基板であり、
半導体チップの表面と裏面が基板の表面に直交する姿勢の半導体チップを収容可能であるとともに基板の表面に形成されている窪みと、
半導体チップの表面に対向する前記窪みの側壁に形成されている、半導体チップの一方の主電極に接続する第1配線パターンと、
半導体チップの裏面に対向する前記窪みの側壁に形成されている、半導体チップの他方の主電極に接続する第2配線パターンと、
半導体チップの一方の主電極と第1配線パターンとを接続固定している導電性の第1材料と、
半導体チップの他方の主電極と第2配線パターンとを接続固定している導電性の第2材料と、
半導体チップの側面の一端と前記窪みの底面との間に介在している保護膜と、を備えていることを特徴とする実装基板。 - 半導体チップの側面の他端に形成されている制御電極と、
基板の表面に形成されている、半導体チップの制御電極に接続する第3配線パターンと、
半導体チップの制御電極と第3配線パターンとを接続しているワイヤボンディングと、をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載の実装基板。 - 第1配線パターンは、前記窪みの側壁から基板の表面に亘って連続しており、
第2配線パターンは、前記窪みの側壁から基板の表面に亘って連続していることを特徴とする請求項1又は2に記載の実装基板。 - 前記窪みの側壁が、基板の表面側で窪みの横断面が大きく、窪みの底面側で窪みの横断面が小さくなる向きに傾斜していることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の実装基板。
- 前記基板は金属製であり、
基板の表面と各配線パターンのとの間に絶縁膜が介在していることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の実装基板。 - さらに、半導体チップの少なくとも一方の主電極を取り囲む範囲に設けられている保護膜を備えていることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の実装基板。
- 半導体チップを搭載している実装基板の製造方法であり、
表面に一方の主電極が形成されており、裏面に他方の主電極が形成されており、側面が保護膜で保護されている半導体チップを製造する工程と、
半導体チップの表面と裏面が基板の表面に直交する姿勢の半導体チップを収容できる窪みを基板の表面に形成する工程と、
半導体チップの表面に対向する前記窪みの側壁に、半導体チップの一方の主電極に接続する第1配線パターンを形成する工程と、
半導体チップの裏面に対向する前記窪みの側壁に、半導体チップの他方の主電極に接続する第2配線パターンを形成する工程と、
半導体チップの側面の一端が保護膜を介して前記窪みの底面に接するように、半導体チップを前記窪み内に収容する収容工程と、
半導体チップの一方の主電極と第1配線パターンを、導電性の材料で接続固定する工程と、
半導体チップの他方の主電極と第2配線パターンを、導電性の材料で接続固定する工程を有することを特徴とする実装基板の製造方法。 - 収容工程に先立って、半導体チップの双方の主電極に熱硬化性の導電性材料を貼り付ける貼り付け工程を有しており、
収容工程後に基板を加熱することにより、半導体チップの一方の主電極と第1配線パターン、及び、半導体チップの他方の主電極と第2配線パターンを、同時に接続固定することを特徴とする請求項7に記載の実装基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006114028A JP4742964B2 (ja) | 2006-04-18 | 2006-04-18 | 実装基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006114028A JP4742964B2 (ja) | 2006-04-18 | 2006-04-18 | 実装基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007287947A JP2007287947A (ja) | 2007-11-01 |
JP4742964B2 true JP4742964B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=38759426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006114028A Active JP4742964B2 (ja) | 2006-04-18 | 2006-04-18 | 実装基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4742964B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5268704B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2013-08-21 | 株式会社フジクラ | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002198638A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | チップ部品の実装用基板及びその製造方法並びに実装構造及び実装方法 |
JP2004356173A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体素子の実装構造 |
JP4496043B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
-
2006
- 2006-04-18 JP JP2006114028A patent/JP4742964B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007287947A (ja) | 2007-11-01 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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