JP6335815B2 - 放熱構造体 - Google Patents
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Description
図1〜図4を参照して、実施の形態1に係る放熱構造体100について説明する。放熱構造体100は、発熱体としての電子部品1〜4と、ベース体10と、第1フィン20とを備える。
はじめに、ベース体10の第2主面10Bに第1凹凸部30を形成する(S10)。具体的には、まず第1主面10Aと第2主面10Bとを有するベース体10を準備し、第1主面10A上に第1絶縁層11および導電層12を形成する。第1絶縁層11および導電層12は任意の方法により形成され得る。導電層12は回路パターンとして形成される。次に、第1主面10Aの全面、および第2主面10Bにおいて第1凹凸部30を形成すべき領域以外の領域を覆うマスク膜をそれぞれ形成する。マスク膜は、ベース体10をエッチング可能な溶液に対し、ベース体10よりもエッチング速度の遅い任意の材料で構成されていればよい。次に、第2主面10Bにおいて第1凹凸部30を形成すべき領域に対し、ベース体10をエッチング可能な溶液を用いてウエットエッチングする。このときのエッチング時間などを適宜調整することにより、上記のような第1凹凸部30が形成される。上記マスク膜は、第1凹凸部30が形成された後、除去される。
なお、実施の形態1に係る放熱構造体100の製造方法において、第1凹凸部30を形成する工程(S10)はベース体10に電子部品1〜4を搭載する工程(S20)の後に実施してもよい。すなわち、電子部品1〜4が搭載されたベース体10の第2主面10Bに対してエッチング処理が施されることにより、第1凹凸部30を形成してもよい。
放熱構造体100は、少なくとも1つの発熱体(電子部品1〜4)と、第1主面10Aと第1主面10Aの反対側に位置する第2主面10Bとを有し、第1主面10A上に上記発熱体を搭載しているベース体10と、第2主面10Bに接続されている少なくとも1つの第1フィン20とを備える。ベース体10を構成する材料は金属を含む。第1フィン20を主に構成する材料は樹脂である。ベース体10の第2主面10Bは、凹凸が形成された第1凹凸部30を含み、第2主面10Bにおいて第1フィン20と接続されている領域は第1凹凸部30を含んでいる。
次に、図5および図6を参照して、実施の形態2に係る放熱構造体100について説明する。実施の形態2に係る放熱構造体100は、基本的には実施の形態1に係る放熱構造体100と同様の構成を備えるが、ベース体10の第1主面10Aに接続されており、かつ発熱体としての電子部品1〜4を囲むように形成されている壁部21を備える点で異なる。
図7〜図9を参照して、実施の形態3に係る放熱構造体100について説明する。実施の形態3に係る放熱構造体100は、基本的には実施の形態2に係る放熱構造体100と同様の構成を備えるが、壁部21の外周面21C,21Dに接続されている少なくとも1つの第2フィン22,23を備える点で異なる。
図10〜図12を参照して、実施の形態4に係る放熱構造体100について説明する。実施の形態4に係る放熱構造体100は、基本的には実施の形態3に係る放熱構造体100と同様の構成を備えるが、第2フィン22,23が、放熱構造体100を側面視したときに、発熱体(電子部品1〜4のうちの半導体モジュール1および電解コンデンサ4)と重なる外周面21C,21D上の領域に接続されており、また、第1フィン20が、放熱構造体100を平面視したときに、発熱体(電子部品1〜4のうちの半導体モジュール1および電解コンデンサ4)と重なる第2主面10B上の領域に接続されている点で異なる。
図13〜図15を参照して、実施の形態5に係る放熱構造体200について説明する。実施の形態5に係る放熱構造体200は、基本的には実施の形態1に係る放熱構造体100と同様の構成を備えるが、複数のベース体13,14,15を備え、第1フィン20は、隣り合う複数のベース体13,14,15に跨って、それぞれの第2主面10Bと接続されている点で異なる。
図16および図17を参照して、実施の形態6に係る放熱構造体200について説明する。実施の形態6に係る放熱構造体200は、基本的には実施の形態5に係る放熱構造体200と同様の構成を備えるが、第2主面13B,14B,15B上において第1フィン20が形成されていない全領域を覆う第2絶縁層16を備える点で異なる。
図18を参照して、実施の形態7に係る放熱構造体200について説明する。実施の形態7に係る放熱構造体200は、基本的には実施の形態5に係る放熱構造体100と同様の構成を備えるが、複数のベース体13,14,15はそれぞれ異なる第1フィン20と接続されており、複数のベース体13,14,15のうち、1つのベース体の第1フィン20は他のベース体の第1フィン20と間隔を隔てて形成されている点で異なる。
Claims (14)
- 少なくとも1つの発熱体と、
第1主面と前記第1主面の反対側に位置する第2主面とを有し、前記第1主面上に前記発熱体を搭載している少なくとも1つのベース体と、
前記第2主面に接続されている少なくとも1つの第1フィンとを備え、
前記ベース体を構成する材料は金属を含み、
前記第1フィンを主に構成する材料は樹脂であり、
前記ベース体の前記第2主面は、凹凸が形成された第1凹凸部を含み、
前記第2主面において前記第1フィンと接続されている領域は前記第1凹凸部を含んでおり、
前記第1凹凸部が形成されている領域は、前記第2主面において前記第1フィンと接続されている領域よりも狭い、放熱構造体。 - 複数の前記ベース体を備え、
複数の前記ベース体は、それぞれの前記第2主面が同じ側を向いて隣り合うように配置されており、
前記第1フィンは、隣り合う複数の前記ベース体に跨って、それぞれの前記第2主面と接続されている、請求項1に記載の放熱構造体。 - 複数の前記ベース体と、
複数の前記第1フィンとを備え、
複数の前記ベース体は、互いに間隔を隔てて配置されており、かつ、それぞれ異なる前記第1フィンと接続されており、
複数の前記ベース体のうち、1つの前記ベース体の前記第1フィンは他の前記ベース体の前記第1フィンと間隔を隔てて形成されている、請求項1に記載の放熱構造体。 - 前記第1主面に接続されており、かつ前記発熱体を囲むように形成されている壁部を備え、
前記ベース体の前記第1主面は凹凸が形成された第2凹凸部を含み、
前記第1主面において前記壁部と接続されている領域は前記第2凹凸部を含んでいる、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の放熱構造体。 - 前記壁部の外周面に接続されている少なくとも1つの第2フィンを備え、
前記第2フィンを主に構成する材料は樹脂である、請求項4に記載の放熱構造体。 - 前記第2フィンは、前記放熱構造体を側面視したときに、前記発熱体と重なる前記外周面上の領域に接続されている、請求項5に記載の放熱構造体。
- 前記第1フィンは、前記放熱構造体を平面視したときに、前記発熱体と重なる前記第2主面上の領域に接続されている、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の放熱構造体。
- 前記第1フィンには、前記第2主面に沿った方向に延びるように形成されている少なくとも1つの空洞が形成されている、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の放熱構造体。
- 前記第1フィンには、複数の前記空洞が形成されており、
前記空洞が延びる方向に垂直な断面において、複数の前記空洞は格子状に配置されている、請求項8に記載の放熱構造体。 - 前記第1フィンは、前記第2主面に交差する方向に延びるように形成されている芯部と
、前記芯部の少なくとも一部周囲に形成されている被覆部とを含む、請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の放熱構造体。 - 前記第1フィンの側壁と前記第2主面とを接続するように配置された補強部を備え、
前記補強部を主に構成する材料は樹脂である、請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の放熱構造体。 - 前記第1主面上の第1絶縁層と、
前記第1絶縁層上の導電層とを備え、
前記発熱体は前記導電層上に配置されている、請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の放熱構造体。 - 前記第2主面上において前記第1フィンが形成されていない全領域を覆う第2絶縁層を備える、請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の放熱構造体。
- 前記第1凹凸部は、前記ベース体に対するエッチング処理により形成されている、請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載の放熱構造体。
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