JP4736825B2 - Method for manufacturing electromagnetic shielding mesh - Google Patents
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Description
本発明は、PDPなどのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽する電磁波シールドメッシュに関するものであり、特に、各製造装置内を搬送ロールで搬送しながら電磁波シールドメッシュ用フィルムに各処理が施しても、プラスチックシート表面に傷(転写痕跡)を発生させない電磁波シールドメッシュの製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding mesh that shields electromagnetic waves generated from a display such as a PDP, and in particular, even if each film is subjected to an electromagnetic wave shielding mesh film while being conveyed by a conveying roll in each manufacturing apparatus, the plastic wound manufacturing method of wave shielding mesh collector that does not generate the (transfer traces) relating to the sheet surface.
気体放電による発光を利用したPDP(プラズマディスプレイパネル)は、気体放電に伴う電磁波を遮蔽するために、パネルの前面(観察者側)に電磁波シールドを施している。
PDPに施す電磁波シールドとしては、例えば、片面銅張プラスチックシートの銅箔をメッシュ状に形成した電磁波シールドメッシュが実用されている。この電磁波シールドメッシュは、ディスプレイの輝度の損失が比較的少なく、優れたシールド特性を有するものが得られている。
A PDP (plasma display panel) using light emission by gas discharge has an electromagnetic wave shield on the front surface (observer side) of the panel in order to shield electromagnetic waves accompanying gas discharge.
As an electromagnetic wave shield to be applied to a PDP, for example, an electromagnetic wave shield mesh in which a copper foil of a single-sided copper-clad plastic sheet is formed in a mesh shape is in practical use. This electromagnetic wave shielding mesh has a relatively small loss in luminance of the display and has an excellent shielding property.
図1は、電磁波シールドメッシュの一例の構成を示す断面図である。図1に示すように、電磁波シールドメッシュ(10)は、透明なプラスチックシート(1)として、例えば、透明なPET(ポリテレフタル酸エチレン)シートの片面上に接着剤(2)を介して銅箔(3)が貼り合わされている。
電磁波を吸収する材料として導電性の高い銅箔が用いられている。銅箔(3)はエッチングにより所定の形状、例えば、メッシュ状に形成されている。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an exemplary configuration of an electromagnetic wave shielding mesh. As shown in FIG. 1, the electromagnetic wave shielding mesh (10) is made of a copper foil through an adhesive (2) on one side of a transparent PET (polyterephthalate ethylene) sheet, for example, as a transparent plastic sheet (1). (3) is pasted.
A highly conductive copper foil is used as a material that absorbs electromagnetic waves. The copper foil (3) is formed into a predetermined shape, for example, a mesh shape, by etching.
図2は、図1に示すシールドメッシュ(10)の上方からの平面図であり、一部分を拡大して示したものである。また、図3は、図2におけるX−X’線での断面図である。
図2、及び図3に示すように、エッチングによってメッシュ状に形成された銅箔(3)は、メッシュ部(3A)と開口部(3B)で構成され、開口部(3B)では接着剤(2)が露出している。また、メッシュ部(3A)には反射防止のために、その表面には黒化処理が施されている。
この開口部(3B)を伴ったメッシュ部(3A)によって電磁波はシールドされる。尚、メッシュ部(3A)の幅(W1)は10μm程度、開口部(3B)の幅(W2)は200μm程度のものである。
FIG. 2 is a plan view from above of the shield mesh (10) shown in FIG. 1, and shows a partially enlarged view. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line XX ′ in FIG.
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the copper foil (3) formed into a mesh shape by etching is composed of a mesh portion (3A) and an opening portion (3B), and an adhesive ( 2) is exposed. Further, the surface of the mesh portion (3A) is blackened to prevent reflection.
Electromagnetic waves are shielded by the mesh part (3A) with the opening (3B). The width (W1) of the mesh part (3A) is about 10 μm, and the width (W2) of the opening (3B) is about 200 μm.
この電磁波シールドメッシュ(10)を使用する際には、接着剤(2)を介して銅箔(3)が貼り合わされている透明なプラスチックシート(1)をパネルの前面(観察者側)に取り付ける。この取り付けの際には、反射防止フィルム、保護ガラス、Ne発光吸収フィルタなども同時に取り付けられるのが一般的である。尚、透明なプラスチックシート(PETシート)(1)の厚みは100〜125μm、接着剤(2)の厚みは15μm、銅箔(3)の厚みは10μm程度である。 When this electromagnetic shielding mesh (10) is used, a transparent plastic sheet (1) on which a copper foil (3) is bonded is attached to the front surface (observer side) of the panel via an adhesive (2). . In general, an antireflection film, a protective glass, a Ne light absorption filter, and the like are attached at the same time. The transparent plastic sheet (PET sheet) (1) has a thickness of 100 to 125 μm, the adhesive (2) has a thickness of 15 μm, and the copper foil (3) has a thickness of about 10 μm.
図4は、電磁波シールドメッシュ(10)の製造に用いられる電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)の一例の構成を示す断面図である。図4に示すように、電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)は、透明なプラスチックシート(1)として、例えば、透明なPET(ポリテレフタル酸エチレン)シートの片面上に接着剤(2)を介して一様な層状の銅箔(13)が貼り合わされている。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an electromagnetic wave shielding mesh film (30) used for manufacturing the electromagnetic wave shielding mesh (10). As shown in FIG. 4, the electromagnetic wave shielding mesh film (30) is a transparent plastic sheet (1), for example, on one side of a transparent PET (polyterephthalate ethylene) sheet with an adhesive (2) interposed therebetween. A uniform layered copper foil (13) is bonded.
電磁波シールドメッシュ(10)を製造する際には、長尺帯状の電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)原反を用いる。先ず、電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)原反の銅箔(13)上に、例えば、a)カゼインを用いてフォトレジストの塗布膜を形成し、次に、b)フォトマスクを介しての露光、c)現像によるレジストパターンの形成、d)塩化第二鉄を用いての銅箔のエッチング、e)水酸化ナトリウムを用いてのレジストパターンの剥膜、f)銅箔パターンの黒化処理、等の処理を施してメッシュ部(3A)と開口部(3B)で構成される、メッシュ状に形成された銅箔(3)を得る。長尺帯状の電磁波シールドメッシュ原反は、最終的に所定の大きさの枚葉状の電磁波シールドメッシュ(10)に切断する。 When manufacturing the electromagnetic wave shielding mesh (10), a long belt-like film for electromagnetic wave shielding mesh (30) is used. First, for example, a) a photoresist coating film is formed on a copper foil (13) of an electromagnetic shielding mesh (30) raw fabric using, for example, a) casein, and then, b) exposure through a photomask. C) Formation of resist pattern by development, d) Etching of copper foil using ferric chloride, e) Stripping of resist pattern using sodium hydroxide, f) Blackening treatment of copper foil pattern, The copper foil (3) formed in the mesh shape comprised by a mesh part (3A) and an opening part (3B) is obtained by performing the process of these. The long strip-shaped electromagnetic shielding mesh raw material is finally cut into a sheet-shaped electromagnetic shielding mesh (10) having a predetermined size.
長尺帯状の電磁波シールドメッシュ原反の幅は、パネルの画面サイズに相応し、例えば、画面42インチ用には650mm、50インチ用には720mm程度である。尚、上記a)カゼインを用いてフォトレジストの塗布膜の形成から始まる各工程内では、電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)は長尺帯状で各装置内を、搬送ロール上に保持、搬送されながら各処理が施される。
しかし、各装置内を搬送されながら各処理が施されると、電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)のプラスチックシート(1)表面に傷が発生することがある。
The width of the strip-shaped electromagnetic shielding mesh original fabric corresponds to the screen size of the panel, and is, for example, about 650 mm for a 42 inch screen and about 720 mm for a 50 inch screen. In each process starting from the formation of the photoresist coating film using a) casein, the electromagnetic shielding mesh film (30) is in the form of a long band and is held and transported on the transport roll in each apparatus. Each process is performed.
However, if each process is performed while being conveyed in each apparatus, the surface of the plastic sheet (1) of the electromagnetic wave shielding mesh film (30) may be damaged.
図5は、各装置内で電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)が搬送ロール(29)上を搬送される状態を示す断面図である。図5に示すように、搬送ロール(29)表面に微小な傷(21A)が生じていたり、微小な異物(22A)が付着していたりすると、搬送ロール(29)表面の微小な傷(21A)や異物(22A)の凹凸形状がプラスチックシート(1)表面に転写して、傷(21A)の転写痕跡(21B)や異物(22A)の転写痕跡(22B)が、プラスチックシート(1)表面にはプラスチックシートの傷(20)として残ることがある(プラスチックシートの傷(20)=転写痕跡(21B)+転写痕跡(22B))。 FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the electromagnetic shielding mesh film (30) is conveyed on the conveying roll (29) in each apparatus. As shown in FIG. 5, if a minute scratch (21A) is generated on the surface of the transport roll (29) or if a minute foreign matter (22A) is attached, a minute scratch (21A) on the surface of the transport roll (29). ) And the irregular shape of the foreign matter (22A) are transferred to the surface of the plastic sheet (1), and the transfer trace (21B) of the scratch (21A) and the transfer trace (22B) of the foreign matter (22A) are transferred to the surface of the plastic sheet (1). May remain as a scratch (20) on the plastic sheet (scratch (20) on the plastic sheet = transfer trace (21B) + transfer trace (22B)).
このようなプラスチックシート表面の傷(20)が、前記b)フォトマスクを介しての露光前に発生していると、露光の際の電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)の真空吸着時に、傷(20)部分の空気が吸引されずに残り、電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)は密着不良の状態になる。
その結果、メッシュパターンには、ボケ、線幅の変動が生じて表示画面ではムラとして観視されるようになる。
When the scratch (20) on the surface of the plastic sheet is generated before exposure through the photomask (b), the scratch (on the vacuum adsorption of the electromagnetic wave shielding mesh film (30) at the time of exposure) 20) The air in the portion remains without being sucked, and the electromagnetic shielding mesh film (30) is in a poorly adhered state.
As a result, the mesh pattern is blurred and fluctuates in line width, and is viewed as unevenness on the display screen.
また、電磁波シールドメッシュ(10)には、パネルの前面に取り付けるために、図3に示す電磁波シールドメッシュ(10)のプラスチックシート(1)表面(下面)上に粘着層が形成され、この粘着層上、或いはメッシュ状に形成された銅箔(3)上に保護層が貼り合わされる。
図6は、傷(転写痕跡)が発生したプラスチックシート(1)表面に粘着層(4)が形成された状態を示す断面図である。
The electromagnetic wave shielding mesh (10) is formed with an adhesive layer on the surface (lower surface) of the plastic sheet (1) of the electromagnetic wave shielding mesh (10) shown in FIG. A protective layer is bonded to the upper or meshed copper foil (3).
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which an adhesive layer (4) is formed on the surface of the plastic sheet (1) in which scratches (transfer marks) are generated.
図6に示すように、粘着層(4)は、異物(22A)の転写痕跡(22B)に入り込み凸状となり、或いは傷(21A)の転写痕跡(21B)により凹状となる。プラスチックシート(1)と粘着層(4)の屈折率の差により、この凸状或いは凹状はレンズの作用を有することになるので、パネルに取り付けられた際に、照射光(L1)は、散乱光(L2)となり、表示画面ではムラとして観視されるようになる。 As shown in FIG. 6, the adhesive layer (4) enters the transfer mark (22B) of the foreign matter (22A) and becomes convex, or becomes concave due to the transfer mark (21B) of the scratch (21A). Due to the difference in refractive index between the plastic sheet (1) and the adhesive layer (4), this convex shape or concave shape has the function of a lens, so that the irradiation light (L1) is scattered when attached to the panel. It becomes light (L2) and is viewed as unevenness on the display screen.
このようなプラスチックシート(1)表面の傷(転写痕跡)(20)は、前記b)フォトマスクを介しての露光前での発生に限らず、各工程において発生するものであるが、特に、前記d)銅箔のエッチング工程での塩化第二鉄液や、前記f)黒化工程での黒化処理
液(例えば、プリント配線板で銅パターンを黒化するのに用いられる、亞塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、燐酸ナトリウム水溶液など)の温度は、例えば、90℃程度の高温であるために、プラスチックシート(1)が軟化した状態になるので、これらの装置内では搬送ロール(29)による同様なプラスチックシート(1)表面の傷(転写痕跡)(20)は発生し易いものである。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、透明なプラスチックシート上に接着剤を介して貼り合わせた金属箔をメッシュ状に形成した電磁波シールドメッシュの製造方法において、各装置内を搬送ロールで搬送しながら電磁波シールドメッシュ用フィルムに各処理を施しても、プラスチックシート表面に傷(転写痕跡)が発生することがなく、一連の処理工程を1回行うことで、電磁波シールドメッシュ用フィルムの表裏から各々電磁波シールドメッシュ、すなわち、2枚の電磁波シールドメッシュを得られることになり、作業時間当たりの生産量は略倍増する電磁波シールドメッシュ用フィルムを用いた電磁波シールドメッシュの製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problem, and in an electromagnetic shielding mesh manufacturing method in which a metal foil bonded to a transparent plastic sheet via an adhesive is formed in a mesh shape, Even if the film for electromagnetic wave shielding mesh is subjected to various treatments while being conveyed by a conveying roll, scratches (transfer traces) are not generated on the surface of the plastic sheet , and the electromagnetic wave shielding mesh is performed by performing a series of treatment steps once. each wave shielding mesh front and back surfaces of the use film, i.e., will be obtained the two electromagnetic wave shielding mesh, the method of manufacturing an electromagnetic wave shielding mesh with electromagnetic wave shielding mesh film for the production per working time approximately doubling The issue is to provide.
本発明は、電磁波シールドメッシュの製造方法であって、電磁波シールドメッシュ用フイルムとして、透明なプラスチックシート上に接着剤を介して金属箔が貼り合わされた構成の材料を、基材フイルムの両面に粘着層を設けた剥離フイルムの両面側に、透明なプラスチックシート面と前記剥離フイルムの粘着層とが対向し、かつ、金属箔面が両面となるように貼り合わせた、電磁波シールドメッシュ用フイルムを用い、パターンを形成する各処理を該電磁波シールドメッシュ用フイルムの両面の金属箔に同時に施して所定のパターンを形成した後に、剥離フイルムの両面の粘着層からパターンが形成された前記材料を剥離して電磁波シールドメッシュとすることを特徴とする電磁波シールドメッシュの製造方法である。 The present invention is a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding mesh, as a film for electromagnetic wave shielding mesh, the structure of the material metal foil is bonded through an adhesive onto a transparent plastic sheet, on both surfaces of the substrate film on both sides of the release film provided with an adhesive layer, and the adhesive layer faces of the release film and the transparent plastic sheet surface, and the metal foil surface is adhered to so that a double-sided, film for electromagnetic wave shielding mesh After forming the predetermined pattern by simultaneously applying the respective processes for forming the pattern to the metal foils on both sides of the electromagnetic shielding mesh film, the material on which the pattern is formed is peeled off from the adhesive layer on both sides of the peeling film. An electromagnetic wave shielding mesh, wherein the electromagnetic wave shielding mesh is produced .
また、本発明は、上記発明による電磁波シールドメッシュの製造方法において、前記粘着層は、UV照射により粘着性を消失する粘着層であることを特徴とする電磁波シールドメッシュの製造方法である。 Further, the present invention provides a method for producing an electromagnetic wave shielding mesh according to the invention, the adhesive layer is an electromagnetic wave shielding mesh manufacturing method which is a pressure-sensitive adhesive layer loses its tackiness by UV irradiation.
本発明は、透明なプラスチックシート上に接着剤を介して金属箔が貼り合わされた構成の材料を、基材フィルムの両面に粘着層を設けた剥離フィルムの両面側に、前記材料のプラスチックシート面を前記剥離フィルムの粘着層に対向させて貼り合わせた電磁波シールドメッシュ用フィルムであるので、各装置内を搬送ロールで搬送しながら電磁波シールドメッシュ用フィルムに各処理を施して電磁波シールドメッシュを製造しても、プラスチックシート表面に傷(転写痕跡)が発生することのない電磁波シールドメッシュ用フィルムとなる。 The present invention provides a material having a structure in which a metal foil is bonded to a transparent plastic sheet via an adhesive, and a plastic sheet surface of the material on both sides of a release film provided with an adhesive layer on both sides of a base film. Is a film for an electromagnetic shielding mesh bonded to the adhesive layer of the release film, so that the electromagnetic shielding mesh film is manufactured by applying each treatment to the electromagnetic shielding mesh film while being conveyed by a conveying roll in each device. Even if it becomes a film for electromagnetic wave shield meshes which a crack (transfer trace) does not generate | occur | produce on the surface of a plastic sheet.
これにより、プラスチックシート表面の傷(20)による露光時の密着不良はなくなり、メッシュパターンのボケ、線幅の変動は解消する。また、プラスチックシート表面の傷
(20)による粘着層のレンズ作用の散乱光は解消する。従って、表示画面には線幅の変動、及び散乱光に起因するムラはなく、良好な表示画面が得られる。
Thereby, the adhesion failure at the time of exposure due to the scratch (20) on the surface of the plastic sheet is eliminated, and the blur of the mesh pattern and the fluctuation of the line width are eliminated. Further, the scattered light of the lens action of the adhesive layer due to the scratch (20) on the surface of the plastic sheet is eliminated. Therefore, the display screen is free from variations in line width and unevenness due to scattered light, and a good display screen can be obtained.
また、本発明は、粘着層がUV照射により粘着性を消失する粘着層であるので、金属箔に所定のパターンを形成した後の、プラスチックシートの剥離は容易なものとなる。
また、本発明は、透明なプラスチックシート上に接着剤を介して金属箔が貼り合わされた構成の材料を、剥離フィルムの両面側に貼り合わせた上記電磁波シールドメッシュ用フィルムを用い、両面の金属箔に各処理を同時に施して所定のパターンを形成した後に、プラスチックシートを剥離して電磁波シールドメッシュを製造する。そのため、一連の処理工程を1回行うことで、電磁波シールドメッシュ用フィルムの表裏から各々電磁波シールドメッシュ、すなわち、2枚の電磁波シールドメッシュを得られることになり、作業時間当たりの生産量は略倍増する。
In the present invention, since the pressure-sensitive adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer that loses its pressure-sensitive adhesive property by UV irradiation, the plastic sheet can be easily peeled after a predetermined pattern is formed on the metal foil.
In addition, the present invention uses the above-described electromagnetic shielding mesh film in which a material having a configuration in which a metal foil is bonded to a transparent plastic sheet via an adhesive is bonded to both sides of a release film, and the metal foil on both sides Each process is simultaneously performed to form a predetermined pattern, and then the plastic sheet is peeled to produce an electromagnetic wave shielding mesh. Therefore, by performing a series of processing steps once, electromagnetic shielding meshes, that is, two electromagnetic shielding meshes can be obtained from the front and back of the electromagnetic shielding mesh film, and the production amount per working time is substantially doubled. To do.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図7は、本発明による電磁波シールドメッシュ用フィルムの構成を示す断面図である。図7に示すように、本発明による電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)は、透明なプラスチックシート(1)上に接着剤(2)を介して金属箔(13)が貼り合わされた構成の材料(50)を、基材フィルム(41)の両面に粘着層(42)を設けた剥離フィルム(40)の両面側に、前記構成の材料(50)のプラスチックシート(1)面を前記剥離フィルム(40)の粘着層(42)に対向させて貼り合わせたものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of the electromagnetic shielding mesh film according to the present invention. As shown in FIG. 7, the film (60) for electromagnetic wave shielding mesh according to the present invention comprises a material (a metal foil (13) bonded to a transparent plastic sheet (1) via an adhesive (2)). 50) on the both sides of the release film (40) provided with the adhesive layer (42) on both sides of the base film (41), the surface of the plastic sheet (1) of the material (50) having the above structure is placed on the release film (40). 40) and adhered to the adhesive layer (42).
透明なプラスチックシート(1)としては、例えば、透明なPET(ポリテレフタル酸エチレン)シート、金属箔(13)としては、例えば、銅箔があげられる。透明なプラスチックシート(PETシート)(1)の厚みは100〜125μm、接着剤(2)の厚みは15μm、銅箔(13)の厚みは10μm程度である。すなわち、本発明における、透明なプラスチックシート上に接着剤を介して金属箔が貼り合わされた構成の材料(50)は、前記図4に示す電磁波シールドメッシュ用フィルム(30)の一例と同様なものである。 Examples of the transparent plastic sheet (1) include a transparent PET (polyethylene terephthalate) sheet, and examples of the metal foil (13) include a copper foil. The transparent plastic sheet (PET sheet) (1) has a thickness of 100 to 125 μm, the adhesive (2) has a thickness of 15 μm, and the copper foil (13) has a thickness of about 10 μm. That is, in the present invention, the material (50) in which the metal foil is bonded to the transparent plastic sheet via the adhesive is the same as the example of the electromagnetic shielding mesh film (30) shown in FIG. It is.
上記のように、本発明による電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)は、前記構成の材料(50)の透明なプラスチックシート(1)面が剥離フィルム(40)の粘着層(42)に貼り合わされており、電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)の外面には露出していない。
この電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)の両面の金属箔(13)に各処理を同時に施して所定のパターンを形成した後に、剥離フィルム(40)の両面の粘着層(42)から前記構成の材料(50)を剥離して電磁波シールドメッシュを製造する。従って、プラスチックシート(1)表面に、搬送ロール表面の微小な傷や微小な異物に起因する傷(転写痕跡)が発生することはない。
As described above, the film (60) for electromagnetic wave shielding mesh according to the present invention has the transparent plastic sheet (1) surface of the material (50) having the above-described structure bonded to the adhesive layer (42) of the release film (40). And is not exposed on the outer surface of the electromagnetic shielding mesh film (60).
The metal foil (13) on both sides of the electromagnetic wave shielding mesh film (60) is subjected to each treatment simultaneously to form a predetermined pattern, and then the material having the above structure is formed from the adhesive layers (42) on both sides of the release film (40). (50) is peeled off to produce an electromagnetic shielding mesh. Therefore, the surface of the plastic sheet (1) does not generate a minute scratch on the surface of the transport roll or a scratch (transfer trace) due to a minute foreign matter.
また、本発明における剥離フィルム(40)の両面の粘着層(42)は、金属箔(13)に所定のパターンを形成した後の、前記構成の材料(50)の剥離を容易なものとするために、粘着層(42)は、UV照射により粘着性を消失する粘着層であることが好ましい。
しかし、これに限定されるものではなく、粘着層(42)は、処理中に剥がれず、各処理に耐え、剥離の際に構成の材料(50)に影響を及ぼさない程度に粘着性を有し、各材料に影響を与えないものであれば、適宜選択して構わない。例えば、アクリル系粘着剤が使用可能である。
Moreover, the adhesive layers (42) on both sides of the release film (40) in the present invention make it easy to peel off the material (50) having the above-mentioned configuration after a predetermined pattern is formed on the metal foil (13). Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer (42) is preferably a pressure-sensitive adhesive layer that loses its adhesiveness when irradiated with UV.
However, the adhesive layer (42) is not limited to this, and the adhesive layer (42) does not peel off during the treatment, and can withstand each treatment, and has an adhesive property to such an extent that the material (50) of the composition is not affected during the peeling. However, any material that does not affect each material may be selected as appropriate. For example, an acrylic adhesive can be used.
剥離の際に構成の材料(50)に変形等の影響を及ぼさない粘着層(42)の粘力とし
ては、剥離のJIS規格(JIS Z0237;引っ張り速度300mm/min、引き剥がし角度108°、サンプルサイズ25mm×150mm)で、0.05〜0.2N/25mm程度が好ましい。
The adhesive layer (42) that does not affect deformation or the like on the material (50) of the constituent during peeling includes JIS standard for peeling (JIS Z0237; pulling speed 300 mm / min, peeling angle 108 °, sample The size is preferably about 0.05 to 0.2 N / 25 mm.
図8は、本発明による電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)を用いて電磁波シールドメッシュを製造する工程の説明図である。
図8(a)は、長尺帯状の電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)原反の両面の銅箔(13)上に、例えば、a)カゼインを用いてフォトレジストの塗布膜(70)を形成した段階のものである。
この両面の塗布膜(70)に、b)フォトマスクを介しての両面露光を同時に行い、続いて、c)両面現像を同時に行い電磁波シールドメッシュ用フィルム(60)原反の両面にレジストパターンの形成する(図示せず)。
FIG. 8 is an explanatory view of a process for producing an electromagnetic wave shielding mesh using the electromagnetic wave shielding mesh film (60) according to the present invention.
FIG. 8 (a) shows, for example, a) Forming a photoresist coating film (70) on a copper foil (13) on both sides of a long belt-like electromagnetic shielding mesh film (60) using, for example, a) casein. At the stage.
This double-sided coating film (70) is subjected to double-sided exposure through a photomask at the same time, followed by c) double-sided development at the same time to form a resist pattern on both sides of the electromagnetic shielding mesh film (60). Form (not shown).
続いて、形成した両面のレジストパターン(70’)をマスクとして、d)塩化第二鉄を用いて両面の銅箔(13)のエッチングを行い、両面の銅箔(13)をメッシュ状に形成する。
図8(d)は、銅箔(13)のエッチングが行われた段階のものであり、銅箔のメッシュ部(3A)が表されている。
Subsequently, using the formed double-sided resist pattern (70 ') as a mask, d) etching the double-sided copper foil (13) using ferric chloride to form the double-sided copper foil (13) in a mesh shape To do.
FIG. 8D shows the stage where the copper foil (13) has been etched, and shows the mesh portion (3A) of the copper foil.
続いて、図8(e)に示すように、e)水酸化ナトリウム水溶液を用いての両面のレジストパターン(70’)の剥膜を行い、f)黒化液を用いての黒化処理を両面のメッシュ部(3A)に施して(図示せず)、メッシュ部(3A)と開口部(3B)で構成される、メッシュ状に形成された銅箔(3)を得る。
続いて、図8(e)に示す剥離フィルム(40)の両面の粘着層(42)から
プラスチックシート(1)を剥離し、電磁波シールドメッシュ(10)を得る(図8(g))。
Subsequently, as shown in FIG. 8 (e), e) stripping the resist pattern (70 ′) on both sides using an aqueous sodium hydroxide solution, and f) blackening treatment using a blackening solution. It gives to the mesh part (3A) of both surfaces (not shown), and the copper foil (3) formed in the mesh shape comprised by a mesh part (3A) and an opening part (3B) is obtained.
Subsequently, the plastic sheet (1) is peeled from the adhesive layers (42) on both sides of the release film (40) shown in FIG. 8 (e) to obtain an electromagnetic wave shield mesh (10) (FIG. 8 (g)).
また、電磁波シールドメッシュ(10)には、パネルの前面に取り付けるために、電磁波シールドメッシュ(10)のプラスチックシート(1)表面(下面)上に粘着層が形成され、この粘着層上、或いはメッシュ状に形成された銅箔(3)上に保護層が貼り合わされる(図示せず)。 The electromagnetic wave shielding mesh (10) has an adhesive layer formed on the surface (lower surface) of the plastic sheet (1) of the electromagnetic wave shielding mesh (10) to be attached to the front surface of the panel. A protective layer is bonded onto the copper foil (3) formed in a shape (not shown).
上記のように、本発明による電磁波シールドメッシュの製造方法は、前記構成の材料(50)のプラスチックシート(1)と搬送ロールとは接触せずに電磁波シールドメッシュを製造する方法であるので、プラスチックシート(1)表面に、搬送ロール表面の微小な傷や微小な異物に起因する傷(転写痕跡)が発生することはない。 As described above, the method for producing an electromagnetic wave shielding mesh according to the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding mesh without contacting the plastic sheet (1) of the material (50) having the above-described configuration and the transport roll. On the surface of the sheet (1), the scratches (transfer traces) caused by the fine scratches on the surface of the transport roll and the fine foreign matters do not occur.
また、上記のように、図8(a)〜(d)の間、すなわち、a)フォトレジストの塗布膜(70)を形成した後〜e)レジストパターン(70’)の剥膜前の工程においては、金属箔(13)或いはメッシュ部(3A)上にレジストが設けられているので、搬送ロールによって金属箔(13)或いはメッシュ部(3A)に、搬送ロール表面の微小な傷や微小な異物に起因する傷(転写痕跡)が発生することはない。 Further, as described above, between FIGS. 8A to 8D, that is, after a) the photoresist coating film (70) is formed to e) before the resist pattern (70 ′) is stripped. Since the resist is provided on the metal foil (13) or the mesh part (3A), the metal foil (13) or the mesh part (3A) is caused to have a minute scratch or minute on the surface of the transport roll by the transport roll. Scratches (transfer traces) caused by foreign matter do not occur.
a)フォトレジストの塗布膜(70)を形成する前、及びe)レジストパターン(70’)の剥膜後には、金属箔(13)或いはメッシュ部(3A)に傷(転写痕跡)が発生することはあるものの、前記従来の方法におけるプラスチックシート(1)表面の傷(転写痕跡)に比較すれば僅少なものといえる。 Scratches (transfer traces) are generated in the metal foil (13) or the mesh part (3A) before a) forming the photoresist coating film (70) and after e) stripping the resist pattern (70 ′). Although there is a thing, it can be said that it is few compared with the damage | wound (transfer trace) of the surface of the plastic sheet (1) in the said conventional method.
1・・・プラスチックシート
2・・・接着剤
3・・・メッシュ状に形成された銅箔
3A・・・メッシュ部
3B・・・開口部
4・・・粘着層
10・・・電磁波シールドメッシュ
13・・・金属箔(銅箔)
20・・・プラスチックシート表面の傷
21A・・・搬送ロール表面の微小な傷
21B・・・プラスチックシート表面に転写した傷の転写痕跡
22A・・・搬送ロール表面の微小な異物
22B・・・プラスチックシート表面に転写した異物の転写痕跡
29・・・搬送ロール
30・・・電磁波シールドメッシュ用フィルム
40・・・剥離フィルム
41・・・基材フィルム
42・・・粘着層
50・・・プラスチックシートに接着剤を介して金属箔が貼り合わされた構成の材料
60・・・電磁波シールドメッシュ用フィルム
70・・・フォトレジストの塗布膜
70’・・・レジストパターン
L1・・・照射光
L2・・・散乱光
W1・・・メッシュ部の幅
W2・・・開口部の幅
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20 ...
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