JP2007096111A - Composite filter for display and its manufacturing method - Google Patents

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Shinichi Kato
慎一 加藤
Hironori Kamiyama
弘徳 上山
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite filter for display excellent in transparency, and to provide a method for manufacturing a high transparency composite filter inexpensively with a favorable yield by reducing the burden of a facility or an extra material through a short process and preventing bubbles from mixing into a mesh opening. <P>SOLUTION: In the composite filter for display where at least a conductor mesh layer 12 having a mesh-like region, an adhesive layer 22, and an optical filter 21 are formed in this order on one side of a transparent substrate 11, a height at a line in the mesh-like region of the conductor mesh layer 12 is 3 μm or lower, the width of an opening in the mesh-like region is 150 μm or larger, and the adhesive layer 22 is formed of an adhesive having a storage modulus E'(Pa) at 20°C of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz not higher than 9.5×10<SP>5</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、CRT、PDPなどのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽(シールド)する電磁波遮蔽用シートと光学フィルタとを含んでなるディスプレイ用複合フィルタ及びディスプレイ用複合フィルタの製造方法に関し、さらに詳しくは、気泡の混入が少なく、透明性に優れたディスプレイ用複合フィルタ、及び生産性が高い当該ディスプレイ用複合フィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a composite filter for display comprising an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter for shielding (shielding) electromagnetic waves generated from a display such as a CRT and a PDP, and a manufacturing method of the composite filter for display. The present invention relates to a composite filter for a display with less air bubbles and excellent transparency, and a method for producing the composite filter for a display with high productivity.

近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electro Magnetic Interference;EMI)が増え、陰極線管(CRTという)、プラズマディスプレイパネル(PDPという)などのディスプレイでも電磁波が発生する。プラズマディスプレイパネルは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、近赤外線、及び熱が大量に発生する。   In recent years, with the advancement of functions and increased use of electrical and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and electromagnetic waves are also generated in displays such as cathode ray tubes (referred to as CRT) and plasma display panels (referred to as PDP). appear. A plasma display panel is a combination of a glass having a data electrode, a fluorescent layer, and a glass having a transparent electrode, and generates a large amount of electromagnetic waves, near infrared rays, and heat when operated.

通常、電磁波を遮蔽するためにプラズマディスプレイパネルの前面に、電磁波遮蔽用シートが前面板として設けられる。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、30MHz〜1GHzにおいて30dB以上の機能が必要である。さらに、ディスプレイの表示画像を視認しやすくするため、電磁波遮蔽用の金属メッシュ(ライン部)部分が見えにくく、また、メッシュパターン精度がよくメッシュの乱れがなく、適度な透明性(可視光透過性)を有することが必要である。   Usually, an electromagnetic wave shielding sheet is provided as a front plate on the front surface of the plasma display panel in order to shield electromagnetic waves. The shielding property of electromagnetic waves generated from the front surface of the display requires a function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz. Furthermore, in order to make the display image easy to see, it is difficult to see the metal mesh (line part) for shielding electromagnetic waves, and the mesh pattern accuracy is good and the mesh is not disturbed. ).

また、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線も、他のVTRなどの機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。更に、画像表示装置から発生する特定波長の不要な光を遮蔽したり、画像表示装置に必要とされる各種機能を付与したりする機能が求められる場合がある。
上記機能をできるだけ少ない層構成で実現するために、上記電磁波遮蔽用シートと、近赤外線吸収フィルタ等を含んで成る光学フィルタ層とを積層して、画像表示装置から発生する不要な電磁波及び特定波長の光を遮蔽し、且つ画像表示装置に必要とされる各種機能を付与することができる複合フィルタをディスプレイパネルの前面板として用いることが検討されている。
In addition, near infrared rays having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front of the display also cause other devices such as VTRs to malfunction, and need to be shielded. Further, there is a case where a function for shielding unnecessary light having a specific wavelength generated from the image display device or providing various functions necessary for the image display device is required.
In order to realize the above functions with as few layer configurations as possible, the electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter layer including a near-infrared absorption filter or the like are laminated to generate unnecessary electromagnetic waves and specific wavelengths generated from the image display device. It has been studied to use a composite filter as a front panel of a display panel that can shield various light and can provide various functions required for an image display device.

従来、メッシュ状の金属層を有する電磁波遮蔽用シートの製造方法としては、透明プラスチック基材に接着層を介して金属箔を貼り合わせた後に、金属箔をケミカルエッチングプロセス(フォトリソグラフィー工程)によって幾何学図形を形成する方法が知られている。しかしながら、この方法によれば、メッシュのパターン精度はよいものの、異種材料が積層されているために、反りが発生しやすい。また、メッシュ開口部の接着剤の表面には、金属箔の粗さが転写され凹凸状に残っているために、該粗さで光が乱反射して、メッシュ開口部の透明性が悪いという欠点がある。また、上記電磁波遮蔽用シートと光学フィルタを積層する工程では、上記電磁波遮蔽用シートの開口部がへこんでいるため、接着剤を用いて直接光学フィルタを積層すると、メッシュ開口部内に気泡が混入し、該気泡の光散乱により複合フィルタの透明性が悪化する恐れがある。金属箔を接着する方式を選択する以上、金属箔が接着工程において破断しないだけの強度を維持する為には金属箔の膜厚を10μm以上は確保する必要がある。それは即ちメッシュ開口部の深さ(段差)が10μm以上になることを意味する。そのため、従来、メッシュ開口部の接着剤表面の粗さを埋めるため、及び/又は気泡の混入を防止して透明化するため、透明化工程としてメッシュ開口部を予め平坦化樹脂と称される透明樹脂で充填して平坦化層を設ける工程の追加が必要であった。このような透明化工程は余分な材料が必要な上、工程も増加するので省略が望まれていた。   Conventionally, as a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding sheet having a mesh-like metal layer, a metal foil is bonded to a transparent plastic substrate via an adhesive layer, and then the metal foil is geometrically formed by a chemical etching process (photolithography process). Methods for forming academic figures are known. However, according to this method, although the pattern accuracy of the mesh is good, since different materials are laminated, warping is likely to occur. Further, since the roughness of the metal foil is transferred and remains uneven on the surface of the adhesive at the mesh opening, light is irregularly reflected by the roughness, and the transparency of the mesh opening is poor. There is. Further, in the step of laminating the electromagnetic shielding sheet and the optical filter, since the opening of the electromagnetic shielding sheet is dented, if the optical filter is laminated directly using an adhesive, bubbles are mixed into the mesh opening. The transparency of the composite filter may deteriorate due to light scattering of the bubbles. As long as the method for bonding the metal foil is selected, it is necessary to ensure the film thickness of the metal foil to 10 μm or more in order to maintain the strength that the metal foil does not break in the bonding process. That means that the depth (step) of the mesh opening is 10 μm or more. Therefore, conventionally, in order to fill the roughness of the adhesive surface of the mesh opening and / or to prevent contamination by bubbles and to make the mesh transparent, the mesh opening is previously referred to as a flattening resin. An additional step of filling with resin and providing a planarization layer was necessary. Such a transparentization process requires an extra material and also increases the number of processes, so that it has been desired to omit it.

一方で、接着剤の物性を改良することにより、気泡が混入する問題を解消する研究も進められている。例えば、特許文献1には、電磁波シールド性、透明性・非視認性、接着性等を同時に十分満たす接着フィルムを得ることを目的として、導電性金属により描かれた幾何学図形を有する電磁波シールドフィルムの導電性金属側を、貯蔵弾性率が25℃で特定の値以上、且つ80℃で特定の値以下の接着剤で被覆した電磁波シールド性接着フィルムが提案されている。上記電磁波シールド性接着フィルムの接着剤は、室温で自由に位置あわせするためにタックフリー(非粘着性)とし、80℃での加熱ラミネートによって導電性金属側に接着剤を被覆することが前提となっており、室温ラミネートによる積層には不向きである。   On the other hand, research to eliminate the problem of air bubbles mixing by improving the physical properties of the adhesive is also underway. For example, Patent Document 1 discloses an electromagnetic wave shielding film having a geometrical figure drawn with a conductive metal for the purpose of obtaining an adhesive film that sufficiently satisfies electromagnetic wave shielding properties, transparency / non-visibility, adhesiveness and the like simultaneously. There has been proposed an electromagnetic wave shielding adhesive film in which the conductive metal side is coated with an adhesive having a storage elastic modulus of 25 ° C. or more and a specific value at 80 ° C. or less. The adhesive for the electromagnetic wave shielding adhesive film is assumed to be tack-free (non-tacky) for free alignment at room temperature, and the conductive metal side is coated with the adhesive by heating lamination at 80 ° C. Therefore, it is not suitable for lamination by room temperature lamination.

特開2000−294982号公報JP 2000-294982 A

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、透明性に優れたディスプレイ用複合フィルタ、及び、短い工程で、設備や余分な材料の負担を少なくして、メッシュ開口部への気泡の混入を防ぎ、透明性の高い複合フィルタを歩留まり良く、高温に熱すること無く、安価に得ることができる複合フィルタの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is a composite filter for display having excellent transparency, and in a short process, the burden of equipment and extra material is reduced, and the mesh opening is reduced. An object of the present invention is to provide a method for producing a composite filter that can prevent air bubbles from being mixed and can be obtained at a low cost without being heated to a high temperature with a high transparency composite filter.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、特定の形状寸法の導電体メッシュ層と特定の粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる複合フィルタが、上記目的を達成することができるという知見を見出し、本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが3μm以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が150μm以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されていることを特徴とする。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has obtained a composite filter in which a conductive mesh layer having a specific shape and a pressure sensitive adhesive layer formed of a specific pressure sensitive adhesive are laminated. The knowledge that it can be achieved has been found and the present invention has been completed.
That is, the composite filter for display of the present invention is a composite filter for display in which a conductive mesh layer having a mesh region, an adhesive layer, and an optical filter are provided in this order on one surface of a transparent substrate. The height of the line portion of the mesh-like region in the conductor mesh layer is 3 μm or less, the opening width of the opening of the mesh-like region is 150 μm or more, and the adhesive layer is dynamic at a frequency of 1 Hz. The storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of viscoelasticity is E ′ ≦ 9.5 × 10 5
It is formed with the adhesive which is.

また、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法は、(A)透明基材の一方の面に、ライン部の高さが3μm以下、開口部の間口幅が150μm以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、(B)光学フィルタの一方の面に、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、(C)上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成ることを特徴とする。
In the method for producing a composite filter for display according to the present invention, (A) a conductive material having a mesh-like region having a line portion height of 3 μm or less and an aperture width of 150 μm or more on one surface of a transparent substrate. A step of preparing an electromagnetic wave shielding sheet in which at least a body mesh layer is laminated, and (B) a storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz on one surface of the optical filter. '≦ 9.5 × 10 5
A step of preparing a pressure-sensitive adhesive filter formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive, and (C) the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive optical filter, the conductor mesh of the electromagnetic wave shielding sheet It is characterized by comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter having a step of laminating toward the layer side.

特定の形状寸法のメッシュ状領域と特定の粘着剤層を組み合わせて用いることにより、メッシュ面への透明化工程、及びオートクレーブ処理の様な真空吸引工程や、積層時の加熱を省略しながら、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュ状領域の開口部内に気泡が混入することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。   By using a combination of a mesh area with a specific shape and a specific pressure-sensitive adhesive layer, while eliminating the vacuum suction process such as autoclaving and the laminating process on the mesh surface, and heating during lamination, Since it is possible to prevent air bubbles from being mixed into the openings of the mesh-like region during the lamination and adhesion of the shielding sheet and the optical filter, it is possible to avoid the disadvantage that the haze of the composite filter due to light scattering of the air bubbles increases, A highly transparent composite filter can be obtained with high production efficiency.

本発明の製造方法によれば上記メリットに加え、特に、電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域の中の中央部を中心とする特定形状、寸法の領域にのみに光学フィルタを積層する場合においては、粘着剤層を予めメッシュ状領域に塗工して、その後更に光学フィルタと積層する方法と比べて、粘着剤層が光学フィルタ貼着領域の外に滲み出し難いというメリットも有する。これは、粘着剤層をメッシュ状領域上に塗工する場合は、溶剤希釈して低粘度化した粘着剤を塗工する為、塗工領域(光学フィルタ貼着部)外にも粘着剤が流出することは必至であるのに対し、粘着剤層を光学フィルタ上に塗工する場合は、溶剤を乾燥除去して高粘度化した粘着剤層をメッシュ状領域上に積層する為、光学フィルタ貼着部外に粘着剤が流出し難くなる為である。   According to the manufacturing method of the present invention, in addition to the above merits, in particular, in the case where the optical filter is laminated only in a region having a specific shape and size centering on the central portion in the mesh-like region of the electromagnetic wave shielding sheet, Compared with a method in which the adhesive layer is applied in advance to the mesh region and then laminated with the optical filter, there is also an advantage that the adhesive layer hardly oozes out of the optical filter attaching region. This is because when the adhesive layer is applied on the mesh-like region, the adhesive is applied to the adhesive region that has been diluted with the solvent to reduce the viscosity. In the case where the adhesive layer is coated on the optical filter, it is inevitable that the adhesive layer is laminated on the mesh region by drying and removing the solvent to increase the viscosity. This is because it becomes difficult for the adhesive to flow out of the sticking part.

本発明のディスプレイ用複合フィルタは、気泡の混入がないため、透明性に優れた、生産性の高いものである。また、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法によれば、高温度(例えば80℃)以上に加熱せずとも、短い工程で設備や余分な材料の負担を少なくしても気泡の混入を防ぐことができるため、透明性が高い複合フィルタを歩留まり良く、安価に得ることができる。   The composite filter for display according to the present invention has excellent transparency and high productivity because there is no mixing of bubbles. In addition, according to the method for manufacturing a composite filter for display of the present invention, it is possible to prevent air bubbles from being mixed even if heating is not performed at a high temperature (for example, 80 ° C.) or more and the burden of equipment and extra materials is reduced in a short process. Therefore, a composite filter with high transparency can be obtained with good yield and at low cost.

本発明のディスプレイ用複合フィルタは、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが3μm以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が150μm以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されていることを特徴とする。
The composite filter for display of the present invention is a composite filter for display in which a conductive mesh layer having a mesh-like region, an adhesive layer, and an optical filter are provided in this order at least on one surface of a transparent substrate, The height of the line portion of the mesh region in the conductor mesh layer is 3 μm or less, the opening width of the opening of the mesh region is 150 μm or more, and the adhesive layer has dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz. Storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of E ′ ≦ 9.5 × 10 5
It is formed with the adhesive which is.

本発明のディスプレイ用複合フィルタは、厚みが比較的薄く、比較的広い開口部の間口幅を有するメッシュ状導電体層を備えた電磁波遮蔽シートと、特定の貯蔵弾性率E’を有する粘着剤により形成されている粘着剤層を有する粘着性光学フィルタとを組み合わせることによって、メッシュ状導電体層の開口部内の隅々にまで粘着剤層が行き渡り、且つ、粘着剤層が気泡を取り込み難いため、大気圧雰囲気下で加圧部分を高温に加熱することなく積層しても、気泡混入を抑制し、透明性を向上することができる。   The composite filter for display according to the present invention includes an electromagnetic wave shielding sheet having a mesh-like conductor layer having a relatively thin thickness and a wide opening width, and an adhesive having a specific storage elastic modulus E ′. By combining the adhesive optical filter having the formed adhesive layer, the adhesive layer spreads to every corner in the opening of the mesh-like conductor layer, and the adhesive layer is difficult to take in bubbles, Even if the pressurized portion is laminated without heating to a high temperature under an atmospheric pressure atmosphere, mixing of bubbles can be suppressed and transparency can be improved.

〔層構成〕
先ず、図1は本発明によるディスプレイ用複合フィルタについて、基本的な形態を例示する断面図である。
図1(A)は、透明基材11上に導電体メッシュ層12が形成され、更に該透明基材11の導電体メッシュ層12が形成された面と光学フィルタ21とが、粘着剤層22を介して積層されている構成である。なお、光学フィルタ21とは、例えば、シートや板状或いは塗膜状の、反射(含む防眩)防止フィルタ、近赤外吸収フィルタ等の各種フィルタ機能を有する層である。該光学フィルタは、通常は、導電体メッシュ層の保護フィルムとしての機能も兼ねる。なお、本発明において、上記導電体メッシュ層12には、電解メッキするための下地層となる導電性を有する薄層である導電処理層13、金属層14及び導電性を有するその他の層が含まれる。
〔Layer structure〕
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a basic form of a composite filter for display according to the present invention.
In FIG. 1A, the conductive mesh layer 12 is formed on the transparent base material 11, and the surface of the transparent base material 11 on which the conductive mesh layer 12 is formed and the optical filter 21 are the adhesive layer 22. It is the structure laminated | stacked through. The optical filter 21 is a layer having various filter functions such as a sheet, plate, or coating film, such as a reflection (including antiglare) prevention filter, a near infrared absorption filter, and the like. The optical filter usually also serves as a protective film for the conductor mesh layer. In the present invention, the conductor mesh layer 12 includes a conductive treatment layer 13, a metal layer 14, and other layers having conductivity, which are conductive thin layers serving as a base layer for electrolytic plating. It is.

また、図1(B)は電解メッキ法で複合フィルタを形成された場合の層構成の例示であり、透明基材11上に電解メッキが可能になるだけの導電性を付与する為に導電処理層13が形成され、更にその上に電解メッキ法により金属層14が積層され、更に該透明基材11上の金属層14が形成された面と光学フィルタ21とが粘着剤層22を介して積層されている構成である。   FIG. 1B is an example of a layer structure when a composite filter is formed by an electrolytic plating method, and a conductive treatment is applied to the transparent substrate 11 so as to provide conductivity sufficient for electrolytic plating. A layer 13 is formed, a metal layer 14 is further laminated thereon by electrolytic plating, and the surface on which the metal layer 14 is formed on the transparent substrate 11 and the optical filter 21 are interposed via the adhesive layer 22. It is the structure laminated | stacked.

また、本発明の複合フィルタは、上記導電体メッシュ層の表裏面上に必要に応じて更に黒化層及び/又は防錆層が積層されてなるものであっても良く、例えば、光の反射率が低減され、コントラスト感を出すことによりディスプレイの画像の視認性を向上するため、本発明の複合フィルタは、図1(C)に示すように、前記金属層14と前記粘着剤層22の間に黒化層が設けられてなるものであってもよい。   Further, the composite filter of the present invention may be formed by further laminating a blackening layer and / or a rust preventive layer on the front and back surfaces of the conductor mesh layer as necessary. In order to improve the visibility of the image of the display by reducing the rate and giving a sense of contrast, the composite filter of the present invention has the metal layer 14 and the pressure-sensitive adhesive layer 22 as shown in FIG. A blackened layer may be provided between them.

図2は、図1(C)の複合フィルタのうち、透明基材層11、導電処理層13及び金属層14のみを例示した斜視図であり、電磁波遮蔽シートの一例である。導電処理層13及び金属層14は、開口部103が密に配列したメッシュ状であり、該メッシュ状領域101は開口部103と枠をなしているライン部104から構成されている。金属層14の表面上に設けられた黒化層(図示せず)は、導電処理層13及び金属層14と一体となって、メッシュ状領域101を形成する。   FIG. 2 is a perspective view illustrating only the transparent base material layer 11, the conductive treatment layer 13, and the metal layer 14 in the composite filter of FIG. 1C, and is an example of an electromagnetic wave shielding sheet. The conductive treatment layer 13 and the metal layer 14 have a mesh shape in which the openings 103 are densely arranged, and the mesh region 101 is composed of the openings 103 and a line portion 104 that forms a frame. A blackened layer (not shown) provided on the surface of the metal layer 14 is integrated with the conductive treatment layer 13 and the metal layer 14 to form the mesh region 101.

図3は、図2のAA断面図、及びBB断面図である。図3(A)は開口部を横断するAA断面を示し、開口部103とライン104が交互に構成され、図3(B)はライン104を縦断するBB断面を示し、金属層14及び導電処理層13からなるライン部104が連続して形成されている。尚、図1に示した、複合フィルタの断面図はいずれもAA断面図に該当する。
尚、以上の例示は、本発明の複合フィルタの態様を限定するものではない。本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
3 is a cross-sectional view taken along line AA and BB in FIG. 3A shows an AA cross section that crosses the opening, and the openings 103 and the lines 104 are alternately formed. FIG. 3B shows a BB cross section that cuts through the line 104, and the metal layer 14 and the conductive treatment. A line portion 104 made of the layer 13 is continuously formed. In addition, all the sectional views of the composite filter shown in FIG. 1 correspond to the AA sectional view.
In addition, the above illustration does not limit the aspect of the composite filter of this invention. Any device that has substantially the same structure as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effect can be included in the technical scope of the present invention. .

以下、本発明の複合フィルタについて、透明基材から、各層毎に順に説明する。
[透明基材]
透明基材は、機械的強度が弱い銅メッシュ層を補強するための層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂等の有機材料からなる板及びシート(乃至フィルム。以下同様。)等、並びに、ガラス等の無機材料からなる板等である。
Hereinafter, the composite filter of this invention is demonstrated in order for every layer from a transparent base material.
[Transparent substrate]
The transparent substrate is a layer for reinforcing a copper mesh layer having a low mechanical strength. Therefore, as long as it has light transmittance as well as mechanical strength, it may be selected and used depending on the application, taking into account heat resistance, insulation, etc. as appropriate. Specific examples of the transparent substrate include, for example, plates and sheets (or films; the same applies hereinafter) made of an organic material such as a resin, and plates made of an inorganic material such as glass.

上記有機材料からなる板及びシート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of transparent resins used as plates and sheets made of the above organic materials include, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol. Polyester resins such as copolymers, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers And cellulose resins such as triacetyl cellulose, imide resins, polycarbonate resins and the like.

なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、また層的には、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
In addition, these resins are used as a single or a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys) as a resin material, and as a layer, they are used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin sheet, a uniaxially stretched or biaxially stretched sheet is more preferable in terms of mechanical strength.
Moreover, you may add additives, such as a ultraviolet absorber, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, in these resins suitably as needed.

また、上記ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率が小さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。
なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常12〜1000μm程度であるが、好ましくは50〜500μmである。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常1〜5mm程度が好適である。いずれの材料においても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
Further, as the glass of the glass plate, there are quartz glass, borosilicate glass, soda lime glass, etc. More preferably, the thermal expansion coefficient is small, the dimensional stability and the workability in high-temperature heat treatment are excellent, and the glass contains an alkali. Examples include alkali-free glass that does not contain a component, and can also be used as an electrode substrate that serves as a front substrate of a display.
The thickness of the transparent substrate is not particularly limited as long as it depends on the application. When the transparent substrate is made of a transparent resin, it is usually about 12 to 1000 μm, preferably 50 to 500 μm. On the other hand, when a transparent base material is a glass plate, about 1-5 mm is usually suitable. In any material, when the thickness is less than the above, the mechanical strength is insufficient and warping, loosening, breakage, and the like occur. When the thickness exceeds the above, the cost is increased due to excessive performance and it is difficult to reduce the thickness.

また、透明基材は、前面基板及び背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良いが、前面基板の前に配置する前面フィルタとして電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートが優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも樹脂シートが優れている。
この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で80%以上となる光透過性が良い。
In addition, the transparent base material may also be used as a front substrate, which is a component of the display main body including the front substrate and the rear substrate, but in the form using an electromagnetic wave shielding filter as a front filter disposed in front of the front substrate. The sheet is superior to the plate in terms of thinness and lightness, and the resin sheet is superior to the glass plate in that it is not broken.
In this respect, a resin sheet is a preferable material for the transparent substrate, but among the resin sheets, in particular, polyester resin sheets such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate have transparency, heat resistance, cost, and the like. In view of this, a biaxially stretched polyethylene terephthalate sheet is more preferable. In addition, although the transparency of a transparent base material is so good that it is high, Preferably the light transmittance which becomes 80% or more by visible light transmittance | permeability is good.

[導電体メッシュ層]
導電体メッシュ層は、導電性を有する層であって、電磁波遮蔽機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であるが、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させている。
該導電体メッシュ層には、金属層の他、例えば、10μm未満の薄い金属層の形成が容易な電解メッキ法により金属層を形成する場合に必要な、該金属層の下地層となる導電性を有する薄層(導電処理層)や、導電性を有する黒化層及び/又は防錆層等が含まれる。例えば、図1(C)において、黒化層15が導電性を有する場合は、導電体メッシュ層には導電処理層13、金属層14及び黒化層15が含まれる。一方、黒化層15が導電性を有しない場合は、導電体メッシュ層には導電処理層13及び金属層14のみが含まれる。
[Conductor mesh layer]
The conductor mesh layer is a layer having conductivity and is responsible for the electromagnetic wave shielding function, and is itself opaque but has an electromagnetic wave shielding performance due to the presence of an opening in a mesh shape. And light transmission.
For the conductor mesh layer, in addition to the metal layer, for example, a conductive layer serving as a base layer for the metal layer, which is necessary when the metal layer is formed by an electrolytic plating method that facilitates the formation of a thin metal layer of less than 10 μm. And a thin layer (conductive treatment layer) having conductivity, a blackening layer and / or a rust prevention layer having conductivity, and the like. For example, in FIG. 1C, when the blackened layer 15 has conductivity, the conductive mesh layer includes the conductive treatment layer 13, the metal layer 14, and the blackened layer 15. On the other hand, when the blackening layer 15 does not have conductivity, the conductive mesh layer includes only the conductive treatment layer 13 and the metal layer 14.

導電体メッシュ層の平面視形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状としては正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられる。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部104の幅、即ちライン幅Wは25μm以下、好ましくは20μm以下であることが好ましい。但し、電磁波遮蔽効果の発現、破断防止のためには、少なくとも5μm以上確保することが好ましい。また、開口部の間口幅は(ラインピッチP)−(ライン幅W)で表され、本発明においては150μm以上、好ましくは200μm以上とするのが、光透過性、及び後述する粘着性光学フィルタとの積層時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、MHz〜GHz帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大3000μm以下とする。   The shape in plan view of the conductor mesh layer is not particularly limited, but a square is typical as the shape of the opening. Examples of the shape of the opening include a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, and a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, and an ellipse. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are usually line-like line portions having a uniform width, and the openings and the openings are generally the same shape and the same size on the entire surface. For example, the width of the line portion 104 between the openings, that is, the line width W is preferably 25 μm or less, and preferably 20 μm or less, in view of the aperture ratio and the invisibility of the mesh. However, it is preferable to secure at least 5 μm or more for the expression of the electromagnetic wave shielding effect and prevention of breakage. The opening width of the opening is represented by (line pitch P) − (line width W). In the present invention, the width is 150 μm or more, preferably 200 μm or more. From the point that air bubbles hardly remain in the opening during lamination. However, in order to exhibit electromagnetic wave shielding properties in the MHz to GHz band, the maximum is 3000 μm or less.

また、本発明においては、導電体メッシュ層の最終的に得られるメッシュ状領域の厚み、すなわち、開口部間のライン部104の高さHを3μm以下とする。このような場合には、粘着性光学フィルタ層との積層前にメッシュ開口部を予め平坦化樹脂と称される透明樹脂で充填して平坦化層を設ける平坦化工程を省略した場合であっても、メッシュ状領域と粘着剤層の積層及び接着時にメッシュ状領域の開口部内に粘着剤層が均一に入り易く、開口部内に気泡が残留し難いからである。この場合には、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高いディスプレイ用複合フィルタを生産効率良く得ることができる。但し、導電体メッシュ層の厚みが薄くなり過ぎると、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすくなる。電磁波遮蔽機能の点を考慮すると、メッシュ状領域の開口部形状が前記の範囲であるとき、メッシュ層の厚みは1μm以上必要である。よって、メッシュ状領域のライン部の高さは、1〜3μmとなるようにすることが更に好ましい。上記メッシュ状領域のライン部の高さがこれ以下の厚さでは、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすく、これ以上の厚さでは、メッシュに加工した際にライン部と開口部の段差が大きくなり、接着剤層を積層する際に気泡が残留し易くなる。   In the present invention, the thickness of the finally obtained mesh region of the conductor mesh layer, that is, the height H of the line portion 104 between the openings is set to 3 μm or less. In such a case, it is a case where the flattening step of filling the mesh openings with a transparent resin called a flattening resin in advance and laminating the flattening layer before lamination with the adhesive optical filter layer is omitted. This is also because the pressure-sensitive adhesive layer easily enters the openings of the mesh-shaped region at the time of laminating and bonding the mesh-shaped region and the pressure-sensitive adhesive layer, and bubbles do not easily remain in the openings. In this case, it is possible to avoid the disadvantage that the haze of the composite filter is increased due to light scattering of the bubbles, and a highly transparent composite filter for display can be obtained with high production efficiency. However, if the thickness of the conductor mesh layer is too thin, the electric resistance value of the metal increases and the electromagnetic wave shielding effect is likely to be impaired. Considering the electromagnetic shielding function, when the opening shape of the mesh region is in the above range, the thickness of the mesh layer needs to be 1 μm or more. Therefore, it is more preferable that the height of the line portion of the mesh region is 1 to 3 μm. If the height of the line portion of the mesh region is less than this, the electric resistance value of the metal is increased and the electromagnetic wave shielding effect tends to be impaired. The level difference of the part becomes large, and bubbles tend to remain when the adhesive layer is laminated.

なお、メッシュ状領域のライン部の高さは、導電体メッシュ層12と、更に積層された導電性を有しない層のうち、開口部を形成されてライン部104を形成する層の厚みを全て含む総厚みをいう。また、メッシュ状領域のバイアス角度(メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。   In addition, the height of the line part of a mesh-like area | region is all the thickness of the layer which forms the opening part and forms the line part 104 among the conductor mesh layers 12 and the layer which is not further laminated | stacked. Total thickness including. In addition, the bias angle of the mesh region (angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the electromagnetic wave shielding sheet) may be appropriately set to an angle at which moire is difficult to occur in consideration of the pixel pitch of the display and the light emission characteristics. .

(導電処理層)
上記導電処理層としては、公知の導電性を持つ材料の薄膜が良く、その材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、或いはこれらの金属の合金から成る。また、酸化スズ、ITO、ATOなどの透明な金属酸化物でもよい。該導電処理層は単層或いは多層であってもよい。該導電処理層の厚さは、メッキ時に必要な導電性が得られれば良いので、0.001〜1μm程度の極薄い層であることが好ましい。
(Conductive treatment layer)
The conductive treatment layer is preferably a thin film of a known conductive material, and is made of a metal such as gold, silver, copper, iron, nickel, chromium, or an alloy of these metals. Moreover, transparent metal oxides, such as a tin oxide, ITO, and ATO, may be sufficient. The conductive treatment layer may be a single layer or a multilayer. The thickness of the conductive treatment layer is preferably an extremely thin layer of about 0.001 to 1 μm, as long as necessary conductivity can be obtained at the time of plating.

(金属層)
該金属層14の材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなど充分に電磁波を遮蔽できる程度の導電性を持つ金属、或いはこれら金属を含む合金が適用できる。金属層14は単体でなくても、多層であってもよい。本発明においては、上述のようにメッシュ状領域のライン部の高さを1〜3μmとするため、該金属層14の厚さは1〜2μm程度であることが好ましい。
導電体メッシュ層の表裏面上には、必要に応じて更に黒化層及び/又は防錆層が積層されてなるものであってもよい。これらは導電性を有する場合に導電体メッシュ層に含まれるが、導電性の有無に関わらず、導電体層と一体となってメッシュ状領域を形成する。
(Metal layer)
As a material of the metal layer 14, for example, a metal having sufficient conductivity to shield electromagnetic waves, such as gold, silver, copper, iron, nickel, chromium, or an alloy containing these metals can be applied. The metal layer 14 may be a single layer or multiple layers. In the present invention, as described above, the thickness of the metal layer 14 is preferably about 1 to 2 μm in order to set the height of the line portion of the mesh region to 1 to 3 μm.
A blackened layer and / or a rust preventive layer may be further laminated on the front and back surfaces of the conductor mesh layer as necessary. These are included in the conductor mesh layer when having conductivity, but form a mesh-like region integrally with the conductor layer regardless of the presence or absence of conductivity.

(黒化層)
電磁波遮蔽用シートへの外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、本発明の複合フィルタは、前記金属層と前記粘着剤層の間に黒化層が設けられてなることが、コントラスト向上の点から好ましい。
なお、黒化層の中には、該層表面が粗面となり密着強化が図れるものもある。
黒化層としては、黒等の暗色を呈する層であれば良く、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。また、黒化層の導電性の有無は問わない。
(Blackening layer)
In order to absorb the external light to the electromagnetic wave shielding sheet and improve the visibility of the display image, the composite filter of the present invention is provided with a blackening layer between the metal layer and the adhesive layer. It is preferable from the viewpoint of improving the contrast.
In some blackened layers, the surface of the layer becomes rough and adhesion can be enhanced.
The blackening layer may be any layer that exhibits a dark color such as black, and may be any layer that satisfies basic physical properties such as adhesion, and a known blackening layer may be appropriately employed. Further, it does not matter whether the blackened layer has conductivity.

従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。なかでも、メッキ法による黒化処理は密着性、均一性、容易性等で好ましい。メッキ法の材料は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。これらは、密着性、黒さ等の点でカドミウム等による場合よりも優れている。
また、黒化層として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましく、該ニッケル合金としては、ニッケル−亜鉛合金、ニッケル−スズ合金、ニッケル−スズ−銅合金である。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性が良い上、黒化層に防錆機能も付与でき(黒化層兼防錆層となる)、防錆層を省略することもできる。しかも、通常、黒化層の粒子は針状のために、外力で変形して外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒化層では粒子が変形し難く、後加工工程で外観が変化し難くい利点も得られる。
Therefore, as the blackening layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black colored resin, or the like can be used. For example, as the inorganic material, a metal compound such as a metal, an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide is used. It is formed as a metal-based layer. As a method for forming the metal layer, various conventionally known blackening methods can be appropriately employed. Especially, the blackening process by a plating method is preferable at adhesiveness, uniformity, ease, etc. As a material for the plating method, for example, a metal such as copper, cobalt, nickel, zinc, molybdenum, tin, or chromium, a metal compound, or the like is used. These are superior to the case of cadmium or the like in terms of adhesion and blackness.
Moreover, as a blackening layer, black chrome, black nickel, a nickel alloy, etc. are preferable, and as this nickel alloy, they are a nickel-zinc alloy, a nickel-tin alloy, and a nickel-tin-copper alloy. In particular, the nickel alloy has a good degree of blackness and conductivity, can also impart a rust prevention function to the blackened layer (becomes a blackened layer and a rustproof layer), and can omit the rustproof layer. In addition, since the particles of the blackened layer are usually needle-like, the appearance is likely to change due to external force, but the blackened layer made of nickel alloy is difficult to deform and the appearance is difficult to change in the post-processing step. Benefits.

該黒化層の好ましい黒濃度は0.6以上である。なお、黒濃度の測定方法は、COLOR CONTROL SYSTEMのGRETAG SPM100−11(キモト社製、商品名)を用いて、観察視野角10度、観察光源D50、照明タイプとして濃度標準ANSITに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定する。また、該黒化層の光線反射率としては5%以下が好ましい。光線反射率は、JIS−K7105に準拠して、ヘイズメーターHM150(村上色彩社製、商品名)を用いて測定する。また、反射率の測定に換えて、色差計により反射のY値で表わしてもよく、この際にはY値として10以下が好ましい。   A preferable black density of the blackened layer is 0.6 or more. In addition, the measurement method of black density was set to the density standard ANSIT as an observation viewing angle of 10 degrees, an observation light source D50, and an illumination type using GRETAG SPM100-11 (trade name, manufactured by Kimoto Co., Ltd.) of COLOR CONTROL SYSTEM. The specimen is measured after calibration. Further, the light reflectance of the blackened layer is preferably 5% or less. The light reflectance is measured using a haze meter HM150 (trade name, manufactured by Murakami Color Co., Ltd.) in accordance with JIS-K7105. In addition, instead of measuring the reflectance, the Y value of reflection may be expressed by a color difference meter. In this case, the Y value is preferably 10 or less.

(防錆層)
更に、金属層14の少なくとも片面を覆うように、また、黒化層を設けた場合には、黒化層15A及び/又は15Bの少なくとも片面を覆うように、防錆層16A及び/又は16Bを設けることができる。
該防錆層16A、16Bは、防錆機能と黒化層の脱落や変形を防止するために、少なくとも、黒化層上に設けることが好ましい。該防錆層16Bとしては、ニッケル、亜鉛、及び/又は銅の酸化物、又はクロメート処理層が適用できる。厚さとしては、0.001〜1μm程度、好ましくは0.001〜0.1μmである。
(Rust prevention layer)
Furthermore, when the blackened layer is provided so as to cover at least one side of the metal layer 14, the rust preventive layers 16A and / or 16B are provided so as to cover at least one side of the blackened layers 15A and / or 15B. Can be provided.
The rust prevention layers 16A and 16B are preferably provided at least on the blackening layer in order to prevent the rust prevention function and the blackening layer from dropping or deforming. As the rust prevention layer 16B, nickel, zinc, and / or copper oxide, or a chromate treatment layer can be applied. As thickness, it is about 0.001-1 micrometer, Preferably it is 0.001-0.1 micrometer.

黒化層15A、15B、及び防錆層16A、16Bは、少なくとも観察側に設ければよく、コントラストが向上してディスプレイの画像の視認性が良くなる。また、他方の面、即ちディスプレイ面側に設けてもよく、ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。   The blackening layers 15A and 15B and the rust prevention layers 16A and 16B may be provided at least on the observation side, and the contrast is improved and the visibility of the image on the display is improved. Further, it may be provided on the other surface, that is, on the display surface side, and stray light generated from the display can be suppressed, so that the visibility of the image is further improved.

[粘着剤層]
本発明に係る粘着剤層は励振周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)は
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されている。
用いられる粘着剤の貯蔵弾性率が上記範囲内の場合には、上記導電体メッシュ層のメッシュ状領域の開口部に気泡が混入することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタが得られる。該貯蔵弾性率が上記範囲を超える場合には、気泡が混入しやすくなり透明性が不十分となる恐れがある。
[Adhesive layer]
The adhesive layer according to the present invention has a storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at an excitation frequency of 1 Hz. E ′ ≦ 9.5 × 10 5
It is formed with the adhesive which is.
When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive used is within the above range, it is possible to prevent bubbles from entering the openings of the mesh-like region of the conductor mesh layer. The inconvenience that the value (haze) increases can be avoided, and a highly transparent composite filter can be obtained. When the storage elastic modulus exceeds the above range, bubbles are likely to be mixed and transparency may be insufficient.

ここで、貯蔵弾性率E’は、一般の動的粘弾性測定により求めることができる、試料の外部応力による変形歪のし難さ、或いは歪変形時の復元力の大きさ表す指標である。貯蔵弾性率E’は、例えば以下のような方法で求めることができる。粘着剤を丸めて直径5mmの球状にした後、約3mmの厚みにカットしたものを、動的粘弾性測定装置(レオメトリック・サイエンティフィック社製、商品名「固体粘弾性アナライザーRSA−II」、測定アタッチメント;パラレルプレートフィクスチャー RSA−SL−PP4.75HT)を用いて、測定周波数1Hz、測定温度10〜30℃、昇温速度5℃/minの制御下で、動的粘弾性測定を行い、20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)を求めることができる。   Here, the storage elastic modulus E 'is an index that can be obtained by a general dynamic viscoelasticity measurement and that indicates the difficulty of deformation strain due to external stress of the sample or the magnitude of the restoring force at the time of strain deformation. The storage elastic modulus E ′ can be obtained by the following method, for example. After rolling the pressure-sensitive adhesive into a spherical shape having a diameter of 5 mm, a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by Rheometric Scientific, trade name “Solid Viscoelasticity Analyzer RSA-II”) , Measurement attachment; using a parallel plate fixture (RSA-SL-PP4.75HT), a dynamic viscoelasticity measurement is performed under the control of a measurement frequency of 1 Hz, a measurement temperature of 10 to 30 ° C., and a heating rate of 5 ° C./min. The storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. can be determined.

(粘着剤)
本発明に用いられる粘着剤とは、接着剤の1種をいい、接着剤のうち、接着の際には単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線(紫外線や電子線等)照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。又、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。このような粘着剤としては、特に制限は無く、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、上記特定の貯蔵弾性率と共に、適度な粘着性(接着力)、透明性、塗工適性を有し、本発明において使用する光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択する。
(Adhesive)
The pressure-sensitive adhesive used in the present invention refers to one type of adhesive. Among the adhesives, the adhesiveness of the surface can be obtained only by pressing moderately, usually lightly by hand, at the time of bonding. It can only be bonded. In order to develop the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive, usually, physical energy or action such as heating, humidification, radiation (ultraviolet ray, electron beam, etc.) irradiation is unnecessary, and chemical reaction such as polymerization reaction is also unnecessary. In addition, the pressure-sensitive adhesive can maintain the adhesive strength to the extent that it can be re-peeled after bonding. There are no particular limitations on such an adhesive, and among those commonly used as known adhesives, appropriate adhesiveness (adhesive force), transparency, and coating suitability as well as the above specific storage elastic modulus. And those that do not substantially change the transmission spectrum of the optical filter used in the present invention.

本発明に係る粘着剤は、20℃における貯蔵弾性率が上記範囲を満たしていれば良く、それ自体20℃で上記貯蔵弾性率を有する天然ゴムや合成樹脂、或いは重合反応性モノマー中にその重合体が溶解しているようなシロップ型の粘着剤であってもよい。20℃で上記貯蔵弾性率を有する重合反応性モノマーを含有する粘着剤であって、積層後に光及び/又は熱により硬化させる形態をとる粘着剤であっても良い。   The pressure-sensitive adhesive according to the present invention is sufficient if the storage elastic modulus at 20 ° C. satisfies the above range, and the weight of the pressure-sensitive adhesive itself in a natural rubber or a synthetic resin or a polymerization reactive monomer having the above storage elastic modulus at 20 ° C. A syrup-type pressure-sensitive adhesive in which the coalescence is dissolved may be used. It may be a pressure-sensitive adhesive containing a polymerization reactive monomer having the above storage elastic modulus at 20 ° C. and may be cured by light and / or heat after lamination.

好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸をいう。   An acrylic adhesive is mentioned as an adhesive suitably used. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. Generally, it is a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group. In the present invention, (meth) acrylic acid refers to acrylic acid and / or methacrylic acid.

ここで使用される(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸sec-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル及び(メタ)アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、通常はアクリル系粘着剤中に30〜99.5重量部の量で共重合されている。
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers used here include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, sec-propyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate.
Moreover, the said (meth) acrylic-acid alkylester is copolymerized in the quantity of 30-99.5 weight part normally in an acrylic adhesive.
Moreover, as a monomer which has a carboxyl group which forms an acrylic adhesive, monomers containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, monobutyl maleate and β-carboxyethyl acrylate are used. Can be mentioned.

更に、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー;(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド及びN-エチル(メタ)アクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー;N-メチロール(メタ)アクリルアミド及びジメチロール(メタ)アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー;アミノメチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー;アリルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。   Furthermore, in addition to the above, the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention may be copolymerized with a monomer having another functional group within a range that does not impair the characteristics of the acrylic pressure-sensitive adhesive. Examples of monomers having other functional groups include monomers containing hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and allyl alcohol; (meth) acrylamide, N-methyl Monomers containing amide groups such as (meth) acrylamide and N-ethyl (meth) acrylamide; Monomers containing amide groups and methylol groups such as N-methylol (meth) acrylamide and dimethylol (meth) acrylamide; Monomers having functional groups such as monomers containing amino groups such as (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and vinylpyridine; epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether Can be mentioned. In addition to these, fluorine-substituted (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylonitrile, and the like, vinyl group-containing aromatic compounds such as styrene and methylstyrene, vinyl acetate, and vinyl halide compounds can be used.

さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα,β-不飽和二塩基酸のジエステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;ビニルエーテル;スチレン、α-メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物;(メタ)アクリロニトリル等を挙げることができる。   Furthermore, in the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention, in addition to the monomer having other functional groups as described above, another monomer having an ethylenic double bond can be used. Examples of monomers having an ethylenic double bond include diesters of α, β-unsaturated dibasic acids such as dibutyl maleate, dioctyl maleate and dibutyl fumarate; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate. Vinyl ether; vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene and vinyl toluene; (meth) acrylonitrile and the like.

また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を2個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ-ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。   In addition to the monomer having an ethylenic double bond as described above, a compound having two or more ethylenic double bonds may be used in combination. Examples of such compounds include divinylbenzene, diallyl malate, diallyl phthalate, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, methylene bis (meth) acrylamide, and the like.

さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2-メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-メトキシブチル、(メタ)アクリル酸4-メトキシブチル、(メタ)アクリル酸2-エトキシエチル、(メタ)アクリル酸3-エトキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-エトキシブチルなどを挙げることができる。   Furthermore, in addition to the above-described monomers, monomers having an alkoxyalkyl chain can be used. Examples of alkoxyalkyl esters of (meth) acrylic acid include 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate , 2-Methoxybutyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate And so on.

また、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体であっても良い。例えば、(メタ)アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸プロピル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)アクリル酸オクチル等が挙げられる。
アクリル酸エステル単位2種以上を含む共重合体としては、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシ3フェニルオキシプロピル共重合体等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−エチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
Moreover, the homopolymer of a (meth) acrylic-acid alkylester monomer may be sufficient. For example, (meth) acrylic acid ester homopolymers include poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) ethyl acrylate, poly (meth) acrylate propyl, poly (meth) acrylate butyl, poly (meth) Examples include octyl acrylate.
As a copolymer containing 2 or more types of acrylate units, methyl (meth) acrylate- (meth) ethyl acrylate copolymer, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer, ( Examples include methyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, methyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl copolymer, and the like.
As a copolymer of (meth) acrylic acid ester and other functional monomers, (meth) methyl acrylate-styrene copolymer, (meth) methyl acrylate-ethylene copolymer, (meth) acrylic An acid methyl- (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl-styrene copolymer may be mentioned.

又、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などの中から選ばれた少なくとも1種を含有するものが用いられる。
本発明の粘着剤の市販品としては、例えば、商品名:TU−41A改(巴川製紙所製)、商品名:PD−S1(パナック製)等が好適に用いられる。
As the rubber-based adhesive, the main component is, for example, natural rubber, polyisoprene rubber, polyisobutylene, polybutadiene rubber, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, etc. Those containing at least one selected are used.
As a commercial item of the pressure-sensitive adhesive of the present invention, for example, trade name: TU-41A modified (manufactured by Yodogawa Paper Mill), trade name: PD-S1 (manufactured by Panac), etc. are preferably used.

また、粘着剤層には、酸化防止剤を配合することが好ましい。得られる複合フィルタの粘着剤層と導電体メッシュ層との界面で、接着剤に含まれる酸成分によって導電体層が酸化され、色変化が起きるのを防ぐことができる。
更に、粘着剤層には、所望に応じて、粘着付与剤、シランカップリング剤、充填剤等を配合することができる。
Moreover, it is preferable to mix | blend antioxidant with an adhesive layer. It is possible to prevent the color change from occurring due to oxidation of the conductor layer by the acid component contained in the adhesive at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the conductor mesh layer of the obtained composite filter.
Furthermore, a tackifier, a silane coupling agent, a filler, etc. can be mix | blended with an adhesive layer as needed.

また、当該粘着剤層中には、後述のような近赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、及び/又は、ネオン光吸収色素を1種以上含有させてもよい。このようにすることにより、複数のフィルタ(層)の機能を1層で兼務し、且つこれを粘着剤層とも統合することができるため、複合フィルタの総厚み、工程数、原価を低減することが可能となり、好ましい。その場合、近赤外線吸収フィルタ機能を付与する為には、800nm〜1100nmの波長域における光線透過率が20%以下、中でも10%以下、ネオン光吸収フィルタ機能を付与する為には、560〜630nmの波長域における光線透過率が30%以下、中でも25%以下となるようにすることが好ましい。又、紫外線吸収フィルタ機能を付与する為には、380nm以下の波長域における光線透過率が10%以下とすることが好ましい。   Further, the pressure-sensitive adhesive layer may contain one or more near-infrared absorbing dyes, ultraviolet absorbers, and / or neon light absorbing dyes as described below. By doing in this way, the function of a plurality of filters (layers) can be combined with one layer, and this can also be integrated with the adhesive layer, thereby reducing the total thickness, the number of processes, and the cost of the composite filter. Is possible and preferable. In that case, in order to provide the near-infrared absorption filter function, the light transmittance in the wavelength region of 800 nm to 1100 nm is 20% or less, especially 10% or less. In order to provide the neon light absorption filter function, 560 to 630 nm. The light transmittance in the wavelength region is preferably 30% or less, more preferably 25% or less. Moreover, in order to provide an ultraviolet absorption filter function, the light transmittance in a wavelength region of 380 nm or less is preferably 10% or less.

本発明において、このような粘着剤層の膜厚は、5〜40μmの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、特に、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとを積層及び接着する際に電磁波遮蔽シートにおけるメッシュの凹凸を良好に平坦化することが可能となるからである。更に好ましくは、10〜30μmである。   In this invention, it is preferable that the film thickness of such an adhesive layer exists in the range of 5-40 micrometers. This is because, by setting this range, it is possible to satisfactorily flatten the unevenness of the mesh in the electromagnetic wave shielding sheet, particularly when the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter are laminated and bonded. More preferably, it is 10-30 micrometers.

[光学フィルタ]
本発明のディスプレイ用複合フィルタを構成する光学フィルタは、例えば、シートや板状或いは塗膜状の、反射(含む防眩)防止フィルタ、近赤外吸収フィルタ等の各種フィルタ機能を有する層から成る。
光学フィルタとしては、特に限定されないが例えば、近赤外線吸収フィルタ、ネオン光吸収フィルタ、紫外線吸収フィルタ、反射防止フィルタ、更に防眩フィルタ等が挙げられる。光学フィルタは1層でも2層以上でもよく、各層が複数の異なるフィルタ機能を兼ね備えていても良い。
[Optical filter]
The optical filter constituting the composite filter for display according to the present invention is composed of layers having various filter functions such as a sheet, plate, or coating film, such as a reflection (including antiglare) prevention filter and a near infrared absorption filter. .
The optical filter is not particularly limited, and examples thereof include a near infrared absorption filter, a neon light absorption filter, an ultraviolet absorption filter, an antireflection filter, and an antiglare filter. The optical filter may be one layer or two or more layers, and each layer may have a plurality of different filter functions.

ディスプレイ用複合フィルタの製造方法によっては、光学フィルタの層構成は単一層であっても良いし、透明基材を支持基材として、その上にフィルタ機能を有する層を積層した形態でも良いし、フィルタ機能を有する層と透明基材とが相互に積層された構成もあり得る。
また、各フィルタの層間に、それぞれ粘着剤層が設けられていても良い。透明基材、粘着剤層の各々も単層の場合もあるし多層の場合もある。
Depending on the manufacturing method of the composite filter for display, the layer configuration of the optical filter may be a single layer, or a transparent substrate may be used as a support substrate, and a layer having a filter function may be laminated thereon, There may be a configuration in which a layer having a filter function and a transparent substrate are laminated to each other.
An adhesive layer may be provided between the filters. Each of the transparent substrate and the pressure-sensitive adhesive layer may be a single layer or a multilayer.

近赤外線吸収フィルタとしては、近赤外線吸収剤を有する市販フィルム(例えば、東洋紡績社製、商品名No2832)を用いたり、近赤外線吸収色素をバインダへ含有させた組成物を製膜したり、或いは組成物を透明基材上に塗布して積層してもよい。近赤外線吸収色素としては、光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に適用する場合、プラズマディスプレイパネルが放出するキセノンガス放電に起因して生じる近赤外線領域、即ち、800nm〜1100nmの波長域を吸収するものを用いる。該帯域の近赤外線の透過率が20%以下、更に10%以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収フィルタは、可視光領域、即ち、380nm〜780nmの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。   As the near-infrared absorbing filter, a commercially available film having a near-infrared absorber (for example, Toyobo Co., Ltd., trade name No. 2832) is used, or a composition containing a near-infrared absorbing dye in a binder is formed, or The composition may be applied and laminated on a transparent substrate. As a near-infrared absorbing dye, when an optical filter is applied to the front surface of a plasma display panel, it absorbs a near-infrared region caused by a xenon gas discharge emitted by the plasma display panel, that is, a wavelength region of 800 nm to 1100 nm. Is used. The near-infrared transmittance of the band is preferably 20% or less, more preferably 10% or less. At the same time, it is desirable that the near-infrared absorbing filter has a sufficient light transmittance in the visible light region, that is, in the wavelength region of 380 nm to 780 nm.

近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を1種、又は2種以上を併用することができる。また、バインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が用いられる。又バインダ樹脂の乾燥、硬化方式としては、溶液(又はエマルジョン)からの溶媒(又は分散媒)の乾燥による乾燥固化方式、熱、紫外線、電子線などのエネルギーによる重合、架橋反応を利用した硬化方式、或いは樹脂中の水酸基、エポキシ基等の官能基と硬化剤中のイソシアネート基などとの架橋、重合等の反応を利用した硬化方式などが適用できる。   Specific examples of near-infrared absorbing dyes include polymethine compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, imonium compounds, diimonium compounds, and aminium. Compounds, pyrylium compounds, cerium compounds, squarylium compounds, copper complexes, nickel complexes, dithiol metal complexes organic near infrared absorbing dyes, tin oxide, indium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, chromium oxide Zirconium oxide, nickel oxide, aluminum oxide, zinc oxide, iron oxide, ammonium oxide, lead oxide, bismuth oxide, inorganic near-infrared absorbing dyes such as lanthanum oxide, etc. can be used alone or in combination of two or more. . As the binder resin, a resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, or an epoxy resin is used. Binder resin drying and curing methods include a drying and solidification method by drying a solvent (or dispersion medium) from a solution (or emulsion), a polymerization method using heat, ultraviolet light, electron beam energy, and a crosslinking reaction. Alternatively, a curing method utilizing a reaction such as crosslinking or polymerization between a functional group such as a hydroxyl group or an epoxy group in a resin and an isocyanate group in a curing agent can be applied.

ネオン光吸収フィルタは、光学フィルタがプラズマディスプレイ用として用いられる際に、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光、即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく設置される。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmの為、ネオン光吸収フィルタの分光透過率は波長550〜640nmにおいて50%以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収フィルタは、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素として従来から利用されてきた色素を近赤外線吸収フィルタのところに挙げたようなバインダ樹脂に分散させて形成することができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。   The neon light absorption filter is installed to absorb neon light emitted from the plasma display panel, that is, an emission spectrum of neon atoms when the optical filter is used for a plasma display. Since the emission spectrum band of neon light has a wavelength of 550 to 640 nm, it is preferable to design the neon light absorption filter so that the spectral transmittance is 50% or less at the wavelength of 550 to 640 nm. The neon light absorption filter may be formed by dispersing a dye conventionally used as a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm in a binder resin as mentioned in the near infrared absorption filter. it can. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin.

また、紫外線吸収フィルタとしては、例えば、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させて形成することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。当該バインダ樹脂としては、上記近赤外線吸収フィルタのところに挙げたような樹脂を用いることができる。   Moreover, as an ultraviolet absorption filter, it can form by disperse | distributing an ultraviolet absorber to binder resin, for example. Examples of the ultraviolet absorber include organic compounds such as benzotriazole and benzophenone, and inorganic compounds composed of particulate zinc oxide, cerium oxide, and the like. As the binder resin, resins such as those listed above for the near infrared absorption filter can be used.

また、反射防止(AR)フィルタとしては、例えば、低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式法で、或いは塗工等の湿式法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。
また、防眩(AG)フィルタとしては、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形シートや賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、下記ハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適には使用される。
Moreover, as an antireflection (AR) filter, for example, a multi-layer structure in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated is generally used, and a dry method such as vapor deposition or sputtering, or coating is used. The wet method can also be used. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer.
In addition, anti-glare (AG) filters can be applied to the surface of the layer by forming a coating using an inorganic filler such as silica in a resin binder, or by shaping using a shaping sheet or shaping plate. It can be formed as a layer provided with fine irregularities that diffusely reflect. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the hard coat layer described below because surface strength is desired as the surface layer.

尚、必要に応じて、導電体メッシュ層、及び光学フィルタ層の表面に、これら層を、擦り傷、汚染から保護する為の、保護フィルムを積層しても良い。保護フィルムとしては、ハードコート層(HC層)、防汚層等が挙げられる。
保護フィルムのうち、ハードコート層としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から2種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成するとことができる。なおここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。
In addition, you may laminate | stack the protective film for protecting these layers from an abrasion and contamination on the surface of a conductor mesh layer and an optical filter layer as needed. Examples of the protective film include a hard coat layer (HC layer) and an antifouling layer.
Among the protective films, as the hard coat layer, for example, a polyfunctional (meth) acrylate prepolymer such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) Ionization in which trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomers such as acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are used alone or in combination of two or more selected from these It can be formed as a coating film using a radiation curable resin. Here, (meth) acrylate is a composite notation meaning acrylate or methacrylate.

また、保護フィルムのうち、防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止フィルタの低屈折率層をSiO2により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
尚、光学フィルタを構成する透明基材及び粘着剤層は、上述した電磁波遮蔽シートで用いられる材料を適宜用いることができる。
Of the protective films, the antifouling layer is generally a water-repellent or oil-repellent coat, and a siloxane-based or fluorinated alkylsilyl compound can be applied. A fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be preferably used. For example, when the low refractive index layer of the antireflection filter is formed of SiO 2 , a fluorosilicate water-repellent paint is preferably used.
In addition, the material used with the electromagnetic wave shielding sheet mentioned above can be used suitably for the transparent base material and adhesive layer which comprise an optical filter.

次に、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法について説明する。
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法は、(A)透明基材の一方の面に、ライン部の高さが3μm以下、開口部の間口幅が150μm以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、(B)光学フィルタの一方の面に、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、(C)上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成ることを特徴とする。
Next, the manufacturing method of the composite filter for displays which concerns on this invention is demonstrated.
In the method for producing a composite filter for display according to the present invention, (A) a conductor having a mesh-like region having a line portion height of 3 μm or less and an opening width of 150 μm or more on one surface of a transparent substrate. A step of preparing an electromagnetic wave shielding sheet in which at least a mesh layer is laminated; and (B) a storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz on one surface of the optical filter. ≦ 9.5 × 10 5
A step of preparing a pressure-sensitive adhesive filter formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive, and (C) the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive optical filter, the conductor mesh of the electromagnetic wave shielding sheet It is characterized by comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter having a step of laminating toward the layer side.

<(A)電磁波遮蔽シートを準備する工程>
まず、透明基材の一方の面に、ライン部の高さが3μm以下、開口部の間口幅が150μm以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する。
<(A) Step of preparing an electromagnetic wave shielding sheet>
First, an electromagnetic wave shielding sheet is prepared in which a conductive mesh layer having a mesh-like region having a line portion height of 3 μm or less and an opening width of 150 μm or more is laminated on one surface of a transparent substrate. .

はじめに、透明基材を準備する。透明基材として、上述した基材の中から選択して用いることができる。
電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材が樹脂基材である場合、メッシュ層形成等の少なくとも製造初期の段階においては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。
なお、透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
First, a transparent substrate is prepared. As a transparent base material, it can select and use from the base material mentioned above.
When the transparent base material is a resin base material, it can be handled in the form of a continuous belt-like sheet at least at the initial stage of production, such as mesh layer formation, in that the electromagnetic shielding filter can be continuously manufactured to improve productivity. Is preferred.
The transparent substrate is appropriately subjected to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, etc. May be.

次に、透明基材上に導電体メッシュ層を形成する。本発明において、導電体メッシュ層の形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の複合フィルタにおける各種形成方法を適宜採用できる。本発明においては特に、本発明における所望の薄いメッシュの厚みにすることが可能であって、短い工程で歩留まりが良く安価に製造できる点から、透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属層として金属層を形成した透明基材を準備し、該金属メッキした透明基材の金属層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特許第3502979号公報、特開2004−241761号公報)を用いることが特に好ましい。この方法によれば、透明性及びメッシュ精度に優れる複合フィルタが得られる。そこで、上記方法によりメッシュ状領域を有する電磁波遮蔽用シートを準備する方法を、詳細に説明する。   Next, a conductor mesh layer is formed on the transparent substrate. In the present invention, the formation method of the conductor mesh layer is not particularly limited, and various formation methods in a conventionally known light-transmitting composite filter can be appropriately employed. In the present invention, in particular, it is possible to obtain a desired thin mesh thickness in the present invention, and it is possible to manufacture a thin metal film on one surface of a transparent substrate because it can be manufactured in a short process with good yield and low cost. A transparent substrate on which a metal layer is formed as a metal layer by electrolytic plating is prepared, and the metal layer and the conductive layer on the metal-plated transparent substrate are photo-coated. It is particularly preferable to use a method of forming a mesh by lithography (for example, Japanese Patent No. 3502979, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-241761). According to this method, a composite filter having excellent transparency and mesh accuracy can be obtained. Therefore, a method for preparing an electromagnetic wave shielding sheet having a mesh region by the above method will be described in detail.

上記のような透明基材に、後述する金属の電解メッキに先立ち導電処理を行い、導電処理層を形成する。該導電処理の方法としては、上述した公知の導電性を持つ材料の薄膜を形成すればよい。該導電処理は単層あるいは多層であってもよく、これらの材料を公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッキ法などの方法で形成し導電処理層とする。   Conductive treatment is performed on the transparent substrate as described above prior to metal electroplating, which will be described later, to form a conductive treatment layer. As a method for the conductive treatment, a thin film of the above-described known conductive material may be formed. The conductive treatment may be a single layer or multiple layers, and these materials are formed by a known method such as vacuum deposition, sputtering, or electroless plating to form a conductive treatment layer.

次に、該導電処理層の面へ電解メッキ法により金属層を形成する。該金属層の材料としては、上述の通り充分に電磁波を遮蔽できる程度の導電性を持つ金属、或いはこれら金属を含む合金が適用できる。金属層は単体でなくても、多層であってもよく、電解メッキのしやすさと導電性から銅又は銅合金が好ましい。また、導電性の黒化層及び/又はクロメート(処理)層を設ける場合には、金属層と黒化層又はクロメート層との接着力などからも銅又は銅合金が好ましい。   Next, a metal layer is formed on the surface of the conductive treatment layer by electrolytic plating. As the material for the metal layer, a metal having conductivity sufficient to shield electromagnetic waves as described above, or an alloy containing these metals can be used. The metal layer may be a single layer or a multilayer, and copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of ease of electrolytic plating and conductivity. Moreover, when providing an electroconductive blackening layer and / or a chromate (treatment) layer, copper or a copper alloy is preferable also from the adhesive force of a metal layer, a blackening layer, or a chromate layer.

また、図4(A)に示されるように、金属層14の表面、裏面、或いは表裏両面に必要に応じて、黒化層15A及び/又は15Bを設ける。該黒化層は金属層14面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する(黒化する)か、或いは両者を併用するか、何れかにより行なう。また、透明基材11面に黒化層15Aを設ける場合には、該透明基材へ導電処理を行い、黒色メッキ層を設けた後に、金属層14を設ければよい。   Further, as shown in FIG. 4A, blackening layers 15A and / or 15B are provided on the front surface, back surface, or both front and back surfaces of the metal layer 14 as necessary. The blackening layer is performed by either roughening the surface of the metal layer 14, providing light absorption over the entire visible light spectrum (blackening), or using both in combination. Further, when the blackened layer 15A is provided on the surface of the transparent substrate 11, the metal layer 14 may be provided after conducting the conductive treatment on the transparent substrate and providing the black plating layer.

黒化層15A、15Bとしては、金属酸化物、金属硫化物の形成や種々の手法が適用できる。鉄の場合には、通常スチーム中、450〜470℃程度の温度で、10〜20分間さらして、1〜2μm程度の酸化膜(黒化膜)を形成するが、濃硝酸などの薬品処理による酸化膜(黒化膜)でもよい。また、銅の場合には、銅を硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、陰極電解処理を行って、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好ましい。該カチオン性粒子を設けることでより粗化し、同時に黒色が得られる。記カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、好ましくは銅‐コバルト合金の粒子である。該カチオン性粒子の粒径は、黒濃度の点から、平均粒径0.1〜1μm程度が好ましい。カソーディック電着法では、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径0.1〜1μmに揃えられる点でも好ましい。
なお、黒化層の材料として、ニッケル合金を用いる場合、該黒化層の形成方法は公知の電解または無電解メッキ法でよく、ニッケルメッキを行った後に、ニッケル合金を形成してもよい。
As the blackening layers 15A and 15B, formation of metal oxides and metal sulfides and various methods can be applied. In the case of iron, it is usually exposed to steam at a temperature of about 450 to 470 ° C. for 10 to 20 minutes to form an oxide film (blackened film) of about 1 to 2 μm. An oxide film (blackened film) may be used. Further, in the case of copper, cathodic electrodeposition in which the cathode particles are attached by performing cathodic electrolysis in an electrolytic solution composed of sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate, and the like is preferable. By providing the cationic particles, the surface becomes more rough, and at the same time, black is obtained. As the cationic particles, copper particles and alloy particles of copper and other metals can be used, but copper-cobalt alloy particles are preferred. The average particle diameter of the cationic particles is preferably about 0.1 to 1 μm from the viewpoint of black density. The cathodic electrodeposition method is also preferable in that the average particle size of the cationic particles to be adhered is adjusted to 0.1 to 1 μm.
When a nickel alloy is used as the material for the blackened layer, the blackened layer may be formed by a known electrolytic or electroless plating method, and the nickel alloy may be formed after nickel plating.

さらに、防錆層16Bを黒化層15B上に設ける場合には、防錆層16Bの材料として適用されるニッケル、亜鉛、及び/又は銅の酸化物の形成は、公知のメッキ法を用いる。また、防錆層16Aを、透明基材11面の黒化層15A面に設ける場合には、透明基材へ導電処理を行い、上記の16Bと同様の材料及び方法で防錆層16Aを設ければよい。この場合には、該防錆層16A面へ、黒色メッキ層(黒化層15Aに相当する)、金属層14、さらに必要に応じて、黒化層15B、防錆層16Bを順次設ける。
以上より、図4(A)に示すように、透明基材上に導電処理層13、金属層14、黒化層15及び防錆層16が設けられてなる積層体2を得る。
Furthermore, when the rust prevention layer 16B is provided on the blackening layer 15B, a known plating method is used to form an oxide of nickel, zinc and / or copper applied as a material of the rust prevention layer 16B. Further, when the rust preventive layer 16A is provided on the blackened layer 15A surface of the transparent substrate 11, the conductive treatment is performed on the transparent substrate, and the rust preventive layer 16A is provided by the same material and method as the above 16B. Just do it. In this case, a black plating layer (corresponding to the blackening layer 15A), the metal layer 14, and, if necessary, a blackening layer 15B and a rust prevention layer 16B are sequentially provided on the surface of the rust prevention layer 16A.
From the above, as shown in FIG. 4A, a laminate 2 is obtained in which the conductive treatment layer 13, the metal layer 14, the blackening layer 15, and the rust prevention layer 16 are provided on the transparent substrate.

次に、上述のように設けられた透明基材上の導電体層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする工程について説明する。
まず、上記のように準備した透明基材上の導電体層、例えば透明基材上の金属層14面へ、レジスト層をメッシュパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分の金属層14をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去する所謂フォトリソグラフィー法で、メッシュ状の金属層とする。なお、その際、導電体層以外に、その他の導電性を有しない層も積層されている場合は、開口部に対応する領域においては、その他の層も導電体層と共にエッチング除去する。
Next, the process of making the conductor layer on the transparent substrate provided as described above into a mesh by a photolithography method will be described.
First, a resist layer is provided in a mesh pattern on the conductive layer on the transparent substrate prepared as described above, for example, the surface of the metal layer 14 on the transparent substrate, and the portion of the metal layer 14 that is not covered with the resist layer. After the etching is removed by etching, a mesh-like metal layer is formed by a so-called photolithography method in which the resist layer is removed. Note that, in that case, in addition to the conductor layer, when other layers having no conductivity are stacked, the other layers are also etched away together with the conductor layer in a region corresponding to the opening.

この工程も、帯状で連続して巻き取られたロール状の積層体を加工していく(巻取り加工、ロールツーロール加工という)ことが好ましい。該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、緩みなく伸張した状態で、マスキング、エッチング、レジスト剥離する。透明基材11としてガラスを用いる場合には、1枚毎に加工する(枚葉加工、枚葉工程という)。既存の設備を使用し、これらの製造工程の多くを連続的に行うことで、品質がよく、かつ、生産効率が高く歩留りがよく、安価に生産できる。   Also in this step, it is preferable to process a roll-shaped laminate that is continuously wound in a band shape (referred to as winding processing or roll-to-roll processing). While the laminate is conveyed continuously or intermittently, masking, etching, and resist peeling are performed in a stretched state without looseness. When glass is used as the transparent substrate 11, it is processed one by one (referred to as single wafer processing or single wafer processing). By using existing equipment and performing many of these manufacturing processes continuously, quality can be improved, production efficiency is high, yield is high, and production can be performed at low cost.

以下、フォトリソグラフィー法について説明する。
まず、マスキングは、例えば、金属層側の最表面へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクにて密着露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングする。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可である。感光性レジストがネガ型の場合は、フォトマスクのメッシュパターンはライン部が透明なものを用いる。又感光性レジストがポジ型の場合は、フォトマスクのメッシュパターンは開口部が透明ものを用いる。又、露光パターンとしては、電磁波遮蔽用シートとして所望のパターンであり、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。
Hereinafter, the photolithography method will be described.
First, masking is performed by, for example, applying a photosensitive resist to the outermost surface on the metal layer side, drying, and then performing close contact exposure with a photomask having a predetermined pattern, developing with water, performing a film hardening process, and baking. To do. Note that either a negative type or a positive type of photosensitive resist can be used. When the photosensitive resist is a negative type, a mesh pattern of the photomask having a transparent line part is used. When the photosensitive resist is a positive type, a photomask mesh pattern having a transparent opening is used. Further, the exposure pattern is a desired pattern as an electromagnetic wave shielding sheet, and is composed of a pattern of a mesh area at a minimum.

上記感光性レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体2を連続又は間歇で搬送させながら、金属層面へ、カゼイン、PVA、ゼラチンなどのレジストをディッピング(浸漬)、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。ベーキングはカゼインレジストの場合、200〜300℃で行うが、積層体の反りを防止するために、できるだけ低温度が好ましい。   In the winding process, the photosensitive resist is coated by dipping (immersing) resist such as casein, PVA, and gelatin onto the surface of the metal layer while transporting the belt-shaped laminate 2 continuously or intermittently, curtain coating, and pouring. Etc. Moreover, a dry film resist may be used instead of application | coating, and workability | operativity can be improved. In the case of a casein resist, baking is performed at 200 to 300 ° C., but the lowest possible temperature is preferable in order to prevent warping of the laminate.

マスキング後にエッチングを行う。該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ20〜80μmの薄板をエッチングするカラーTVのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備、工程と基本的に同様である。透明基材11としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。このようにして、メッシュ開口部に透明基材が露出する。
以上より、図4(B)に示すような電磁波遮蔽シート3を得る。
Etching is performed after masking. As the etching solution used for the etching, an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride that can be easily circulated is preferable in the present invention in which etching is continuously performed. The etching is basically the same as the equipment and process for manufacturing a shadow mask for a color TV cathode ray tube that etches a strip-like continuous steel material, particularly a thin plate having a thickness of 20 to 80 μm. Single-wafer processing in the case of using glass as the transparent substrate 11 has also been performed for a long time. After etching, the substrate may be dried after washing with water, stripping the resist with an alkaline solution, and washing. In this way, the transparent substrate is exposed at the mesh opening.
As described above, the electromagnetic wave shielding sheet 3 as shown in FIG.

<(B)粘着性光学フィルタを準備する工程>
次に、光学フィルタの一方の面に、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する。図5に本発明で用いられる粘着性光学フィルタ4の一例の断面図を示す。
<(B) Step of preparing an adhesive optical filter>
Next, on one surface of the optical filter, the storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz is E ′ ≦ 9.5 × 10 5.
An adhesive optical filter in which an adhesive layer formed of an adhesive is laminated is prepared. FIG. 5 shows a cross-sectional view of an example of the adhesive optical filter 4 used in the present invention.

本発明に係る光学フィルタ21は、上述の通り反射防止フィルタや近赤外線吸収フィルタ等の機能を1以上有するフィルタであって1層以上からなるものである。これらは従来公知の方法によって準備することができる。光学フィルタの形状は、電磁波遮蔽シートと積層する方法に応じて、連続帯状としても枚葉形状としてもよい。   The optical filter 21 according to the present invention is a filter having one or more functions such as an antireflection filter and a near-infrared absorption filter as described above, and is composed of one or more layers. These can be prepared by a conventionally known method. The shape of the optical filter may be a continuous belt shape or a single wafer shape depending on the method of laminating with the electromagnetic wave shielding sheet.

上記粘着剤層22は、上記特定の貯蔵弾性率E’を有する粘着剤に必要に応じて添加剤や色素、更に必要に応じて溶剤を加えた粘着剤層形成用塗工液を上記光学フィルタ21の少なくとも一方の表面に、公知の層形成法、例えばロールコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコート等の塗工法、或いは、任意形状での部分形成が容易なスクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用して形成するか、或いは、シート状の粘着剤を準備して光学フィルタとラミネートする等して形成することができる。粘着加工後の光学フィルタは、必要に応じて、その粘着面を公知のセパレータ等で保護しておくと良い。セパレータとしては、シリコーン等で表面を離型処理した2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂シート等を使用すれば良い。   The pressure-sensitive adhesive layer 22 is obtained by applying a coating solution for forming a pressure-sensitive adhesive layer obtained by adding an additive or a pigment as necessary to the pressure-sensitive adhesive having the specific storage elastic modulus E ′, and further adding a solvent as necessary. A known layer forming method, for example, a coating method such as roll coating, comma coating, die coating, or gravure coating, or a printing method such as screen printing or gravure printing that allows easy partial formation of an arbitrary shape on at least one surface of 21 Can be formed as appropriate, or can be formed by preparing a sheet-like pressure-sensitive adhesive and laminating it with an optical filter. The optical filter after the adhesive processing is preferably protected with a known separator or the like if necessary. As the separator, a resin sheet such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film whose surface is release-treated with silicone or the like may be used.

<(C)電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタを積層する工程>
最後に、上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させ、本発明のディスプレイ用複合フィルタを得る。
図6は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタを積層することにより、ディスプレイ用複合フィルタを得る模式図である。
上記電磁波遮蔽シート3と粘着性光学フィルタ4を、図6(A)に示すように、粘着性光学フィルタ4の上記特定の貯蔵弾性率E’を有する粘着剤層22側を電磁波遮蔽シート3のメッシュ状領域101側に向かい合うように配置し、積層することにより、図6(B)に示すような複合フィルタ1を得ることができる。
<(C) Step of Laminating Electromagnetic Wave Shielding Sheet and Adhesive Optical Filter>
Finally, the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive optical filter is laminated toward the conductor mesh layer side of the electromagnetic wave shielding sheet to obtain the composite filter for display of the present invention.
FIG. 6 is a schematic view for obtaining a composite filter for display by laminating an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter used in the present invention.
6A, the adhesive layer 22 side having the specific storage elastic modulus E ′ of the adhesive optical filter 4 is placed on the electromagnetic wave shielding sheet 3 as shown in FIG. The composite filter 1 as shown in FIG. 6B can be obtained by arranging the layers so as to face the mesh region 101 and laminating them.

光学フィルタ21上に積層された粘着剤層22と電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域を接着及び積層し、複合フィルタを製造する方法としては、特に限定されないが、加圧ロール等の加圧部分を備えるラミネーターを用いて、透明基材11側及び光学フィルタ21側から同時に加圧することにより、接着及び積層させる方法が挙げられる。本発明においては、上述のような特定の寸法を有するメッシュ状領域と、上述のような特定の粘着剤により形成されている粘着剤層を積層させるため、大気圧雰囲気下で、加圧部分を特に加熱することなく室温下で積層しても気泡の混入を防ぐことが可能である。本発明によれば、加熱する場合であっても、60℃程度にロール等を加熱する程度で十分であり、特に粘着剤層側からの真空吸引、或いは80℃以上の高温加熱は不要である。いずれにしても本発明によれば、例えばオートクレーブ処理の様な特殊な設備を用いる必要が無く、短い工程で設備負担を少なくすることができ、また、混入した気泡を消失させる処理も不要である。勿論、透明化処理等の余分な材料を用いる工程を追加する必要も無い。   A method for producing a composite filter by adhering and laminating the pressure-sensitive adhesive layer 22 laminated on the optical filter 21 and the mesh-like region of the electromagnetic wave shielding sheet to produce a composite filter is not particularly limited, but includes a pressure part such as a pressure roll. The method of making it adhere | attach and laminate | stack by pressing simultaneously from the transparent base material 11 side and the optical filter 21 side using a laminator is mentioned. In the present invention, in order to laminate the mesh region having the specific dimensions as described above and the pressure-sensitive adhesive layer formed of the specific pressure-sensitive adhesive as described above, the pressurizing portion is placed under an atmospheric pressure atmosphere. In particular, it is possible to prevent bubbles from being mixed even if the layers are stacked at room temperature without heating. According to the present invention, even when heating, it is sufficient to heat a roll or the like to about 60 ° C., and particularly vacuum suction from the pressure-sensitive adhesive layer side or high-temperature heating at 80 ° C. or higher is unnecessary. . In any case, according to the present invention, there is no need to use special equipment such as autoclave treatment, the equipment burden can be reduced in a short process, and treatment for eliminating mixed bubbles is also unnecessary. . Of course, there is no need to add a process using an extra material such as a transparent treatment.

しかしながら、場合によっては、更に加熱も併用した方が、より高速で、より確実に気泡混入を防止して積層が可能になる場合も多いため、本発明は例えば80℃以上の高温加熱、オートクレーブ処理や平坦化工程の適用を阻害しているものではない。   However, depending on the case, it is often the case that the heating is also used at a higher speed, more reliably preventing air bubbles from being mixed, so that lamination is possible. It does not hinder the application of the flattening process.

また、その積層する例を更に示せば、連続帯状の光学フィルタ用の樹脂シートの粘着剤層側と、メッシュ状領域を形成してある連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電体層側を、ロールツーロール方式でロール式ラミネーターを用いて積層する方法が挙げられる。
ロールツーロール方式を用いる積層方法は生産効率が良く、低コストであるため好ましいが、電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタのいずれか一方、又は両方を枚葉形状として、各種ラミネーターを用いて積層しても良い。
Further, an example in which the layers are laminated further shows that the adhesive layer side of the resin sheet for the continuous band-shaped optical filter and the conductor layer side of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet in which the mesh-shaped region is formed are The method of laminating using a roll type laminator by a roll method is mentioned.
Lamination method using roll-to-roll method is preferable because of its high production efficiency and low cost. However, either one or both of the electromagnetic wave shielding sheet and the adhesive optical filter are made into a single wafer shape and laminated using various laminators. May be.

ラミネーターは、ロール式、平板式等、電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタに対して加圧することができるものであればかまわないが、ロールツーロール方式に対応すること及び気泡の混入を防ぐことが容易である点や、連続生産が可能な点からロール式ラミネーターを用いることが好ましい。
積層時の加圧は特に限定されないが、例えばロール式ラミネーターを用いる場合、線圧で1〜20kgf/cmが好ましい。積層時の加圧部分の温度も特に限定されないが、設備負担の点からは低温であるほうが好ましく、特別加熱無しで通常の室温領域20〜40℃程度であるほうが好ましい。尚、室温とは日本国を始めとする温帯地方の通常の室内温度であり、前記温度範囲である。但し、冬季にこの温度範囲を下回る場合、或いは、更に高速で積層しても確実に気泡混入を防止したい場合には、必要に応じて40℃を超える温度に加熱しても良い。加熱する場合は、光熱費及び設備投資の節減、作業時の安全性確保、熱による光学フィルタの劣化防止等の観点から、通常、40〜60℃程度とする。
The laminator may be a roll type, a flat plate type, etc., as long as it can pressurize the electromagnetic wave shielding sheet and the adhesive optical filter, but corresponds to the roll-to-roll method and prevents air bubbles from being mixed. It is preferable to use a roll laminator because it is easy and continuous production is possible.
Although the pressurization at the time of lamination is not particularly limited, for example, when a roll laminator is used, the linear pressure is preferably 1 to 20 kgf / cm. Although the temperature of the pressurizing part at the time of lamination | stacking is not specifically limited, either the low temperature is preferable from the point of an equipment burden, and it is more preferable that it is the normal room temperature range 20-40 degreeC without special heating. The room temperature is a normal room temperature in a temperate region including Japan, and is in the above temperature range. However, if it is below this temperature range in winter, or if it is desired to reliably prevent bubbles from being mixed even if the layers are laminated at a higher speed, the temperature may be increased to over 40 ° C. as necessary. In the case of heating, the temperature is usually set to about 40 to 60 ° C. from the viewpoints of saving of utility costs and capital investment, ensuring safety during work, preventing deterioration of the optical filter due to heat, and the like.

図7は、ラミネーターを用いた電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層工程の一例である。ラミネーターの第1給紙部31に電磁波遮蔽シートを巻き取ったものを配置し、且つ第2給紙部32に離型フィルム/粘着剤層/光学フィルタからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで第1給紙部31から、電磁波遮蔽シートを繰り出しながら、一方、第2給紙部32から離型フィルム/粘着剤層/光学フィルタからなる積層シートを繰り出すと同時に離型フィルムを巻取りロール34に巻取り、電磁波遮蔽シートと粘着剤層付光学フィルタを第1ラミネートユニット35で、1対の加圧ローラ間に挟んで線圧約10kgf/cmのラミネート圧でラミネートし、次いで、第2ラミネートユニット36で約10kgf/cmのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール37に巻き取って、電磁波遮蔽シート/粘着剤層/光学フィルタの積層シートからなる複合フィルタを得ることができる。   FIG. 7 shows an example of a lamination process of an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter using a laminator. The first sheet feeding unit 31 of the laminator is arranged with the electromagnetic shielding sheet wound up, and the second sheet feeding unit 32 is arranged with the laminated sheet composed of the release film / adhesive layer / optical filter. To do. Next, the electromagnetic wave shielding sheet is fed out from the first paper feed unit 31, while the laminated sheet composed of the release film / adhesive layer / optical filter is fed out from the second paper feed unit 32 and simultaneously the release film is taken up. 34, the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter with the adhesive layer are sandwiched between the pair of pressure rollers by the first laminating unit 35 and laminated at a laminating pressure of about 10 kgf / cm, and then the second laminating. A unit 36 can be laminated at a laminating pressure of about 10 kgf / cm and wound on a take-up roll 37 to obtain a composite filter comprising an electromagnetic wave shielding sheet / adhesive layer / optical filter laminated sheet.

なお、本発明の複合フィルタの製造方法は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   In addition, the manufacturing method of the composite filter of this invention is not limited to the said embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention. In the examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.

<実施例1>
図1(C)に示す層構成の複合フィルタを次の様にして作製した。
(1)電磁波遮蔽シートの製造
まず、透明基材11として厚さ100μmで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
この透明基材のプライマー層上に、スパッタ法で、順次、厚さが0.1μmのニッケル−クロム合金層及び厚さが0.2μmの銅層(導電体層の一部)を設けて導電処理層13とした。
<Example 1>
A composite filter having a layer structure shown in FIG. 1C was manufactured as follows.
(1) Production of Electromagnetic Wave Shielding Sheet First, as a transparent base material 11, a continuous belt-shaped uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and a polyester resin primer layer formed on one side was prepared.
On the primer layer of the transparent substrate, a nickel-chromium alloy layer having a thickness of 0.1 μm and a copper layer having a thickness of 0.2 μm (a part of the conductor layer) are sequentially provided by sputtering. Treatment layer 13 was obtained.

該導電処理層面に、硫酸銅浴を用いた電解メッキ法で厚さが2.0μmの銅の金属層14(導電体層の残りの部分)を設け、これら導電処理層13及び金属層14の両層を導電体層12として形成して、透明基材上に導電体層が接着剤層を間に介さずに、直接形成された銅貼り積層シートを作製した。   A copper metal layer 14 (remaining portion of the conductor layer) having a thickness of 2.0 μm is provided on the surface of the conductive treatment layer by an electrolytic plating method using a copper sulfate bath. Both layers were formed as the conductor layer 12, and the copper-clad laminate sheet was produced in which the conductor layer was directly formed on the transparent substrate without interposing the adhesive layer therebetween.

次いで、該導電体層上に黒化層15を形成した。具体的には、アノードにニッケル板を使用し、硫酸ニッケルアンモニウム水溶液と硫酸亜鉛水溶液とチオシアン酸ナトリウム水溶液との混合水溶液からなる黒化処理メッキ浴に、上記メッシュ状の導電体層が透明基材上に形成された積層シートを、浸漬して電解メッキを行って黒化処理して、ニッケル−亜鉛合金からなる黒化層15を、露出している導電体層全面に被覆形成して、導電体層12(導電処理層13、金属層14、及び黒化層15)が積層されたシートを得た。
次いで、上記積層シートに対して、その導電体層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部103及びライン部104とから成るメッシュ状領域101を形成した。
Next, a blackening layer 15 was formed on the conductor layer. Specifically, a nickel plate is used for the anode, and the mesh-like conductor layer is formed on a transparent base material in a blackening plating bath made of a mixed aqueous solution of a nickel ammonium sulfate aqueous solution, a zinc sulfate aqueous solution and a sodium thiocyanate aqueous solution. The laminated sheet formed above is immersed and electroplated to perform blackening treatment, and a blackened layer 15 made of a nickel-zinc alloy is formed on the entire surface of the exposed conductor layer so as to be conductive. A sheet on which the body layer 12 (the conductive treatment layer 13, the metal layer 14, and the blackening layer 15) was laminated was obtained.
Next, a mesh region 101 including an opening 103 and a line portion 104 was formed on the laminated sheet by etching the conductor layer using a photolithography method.

エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対してマスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの導電体層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、黒化層を含む導電体層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。   Specifically, using a production line for a color TV shadow mask, the etching was performed consistently from masking to etching on the continuous belt-like laminated sheet. That is, after applying a photosensitive etching resist to the entire surface of the conductor layer of the laminated sheet, a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked on the area corresponding to the line portion of the mesh. After processing the resist layer into a pattern in which the resist layer remains and there is no resist layer on the area corresponding to the opening, the conductor layer including the blackened layer is etched away with an aqueous ferric chloride solution. Then, a mesh-shaped opening was formed, and then water washing, resist peeling, washing, and drying were sequentially performed.

メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は10μm、そのライン間隔(ピッチ)は300μm、ライン部の高さは2.3μm、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該長方形の長辺に対する劣角として定義されるバイアス角度は49度であった。また、メッシュ状領域101は、完成された複合フィルタを画像表示装置(ディスプレイ)前面に装着した際に、該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分が存在し、又該メッシュ状領域の周縁部には、電磁波遮蔽シートを四角形の枚葉シートに切断した時に、その四辺外周に接地用領域として開口部が無い幅15mmの額縁部を残す様なパターンに設計した。このようにして、平坦化層の無い、実施例1の電磁波遮蔽用シートを得た。   The mesh shape of the mesh region is such that the line width of the linear portion where the opening is a square and a non-opening is 10 μm, the line interval (pitch) is 300 μm, the height of the line is 2.3 μm, rectangular When cut into single sheets, the bias angle defined as the minor angle with respect to the long side of the rectangle was 49 degrees. In addition, when the completed composite filter is mounted on the front surface of the image display device (display), the mesh region 101 has a portion facing the image display region of the display, and the mesh region 101 is located at the periphery of the mesh region. Is designed in such a pattern that when the electromagnetic wave shielding sheet is cut into a rectangular sheet, a frame portion having a width of 15 mm without an opening is left as a grounding region on the outer periphery of the four sides. Thus, the electromagnetic wave shielding sheet of Example 1 having no planarization layer was obtained.

(2)枚葉化粘着性光学フィルタ(粘着性光学フィルタ)の製造
次いで、上記電磁波遮蔽用シート上に積層すべき枚葉化粘着性光学フィルタ(粘着性光学フィルタ)を用意した。光学フィルタの層構成としては、反射防止フィルタ/紫外線吸収フィルタ/粘着剤層22(粘着剤層22は近赤外線吸収フィルタ、ネオン光吸収フィルタを兼用)の構成のものを準備した。
該紫外線吸収フィルタとしては、紫外線吸収剤を練込んで成る透明な、厚さ50μmの2軸延伸PETフィルムであるテトロンフィルム(帝人(株)製、商品名「HBタイプ」)を用いた。又該紫外線吸収フィルタは、反射防止フィルタを塗工形成する為の基材としても利用する。
(2) Manufacture of sheet-fed adhesive optical filter (adhesive optical filter) Next, a sheet-fed adhesive optical filter (adhesive optical filter) to be laminated on the electromagnetic wave shielding sheet was prepared. As the layer configuration of the optical filter, an anti-reflection filter / ultraviolet absorption filter / adhesive layer 22 (adhesive layer 22 also serves as a near infrared absorption filter and a neon light absorption filter) was prepared.
As the ultraviolet absorbing filter, a Tetron film (trade name “HB type” manufactured by Teijin Ltd.), which is a transparent biaxially stretched PET film having a thickness of 50 μm and kneaded with an ultraviolet absorber, was used. The ultraviolet absorbing filter is also used as a base material for coating and forming an antireflection filter.

該反射防止フィルタは、該紫外線吸収フィルタの上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した物から構成した。
ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物(JSR(株)製、商品名「KZ7973」)の厚さ3μm、屈折率1.69の硬化物層から成る。
又、低屈折率樹脂層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂(製造元;JSR(株)、商品名「TM086」)の厚さ100nm、屈折率1.41の硬化物から成る。
The antireflection filter was formed by sequentially forming a high refractive index layer and a low refractive index layer on the ultraviolet absorption filter.
Here, the high refractive index layer is a cured product having a thickness of 3 μm and a refractive index of 1.69 of a composition (trade name “KZ7973” manufactured by JSR Corporation) in which ultrafine zirconia particles are dispersed in an ultraviolet curable resin. Consists of layers.
The low refractive index resin layer is made of a cured product having a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.41 of a fluororesin-based ultraviolet curable resin (manufacturer; JSR Corporation, trade name “TM086”).

又該紫外線吸収剤層の反射防止フィルタとは反対側に粘着剤層22を形成した。粘着剤としては、剥離紙/粘着剤層25μm/剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤(製造元:巴川製紙所、商品名:「TU−41A改」、20℃における貯蔵弾性率:4.72×10Pa)を用いた。このシート状の粘着剤の剥離紙のうち一方を剥がし、露出された粘着剤層と、上記光学フィルタの紫外線吸収フィルタとを互いに接着積層した。この際の積層条件としては、室温20℃にて、ゴムローラで最大10kg/cmの線圧で加圧して積層した。
上記のような構成の粘着性光学フィルタを、電磁波遮蔽シートのメッシュ上領域の画像表示領域と対峙する部分(長方形)と同形状で、且つ寸法は縦横共に4mmずつ大きく裁断し、1枚の枚葉化粘着性光学フィルタとした。
An adhesive layer 22 was formed on the opposite side of the ultraviolet absorber layer from the antireflection filter. As the pressure-sensitive adhesive, a sheet-like acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive having a release paper / pressure-sensitive adhesive layer 25 μm / release paper layer structure (manufacturer: Yodogawa Paper Mill, trade name: “TU-41A Kai”, storage at 20 ° C. Elastic modulus: 4.72 × 10 5 Pa) was used. One of the sheet-like adhesive release papers was peeled off, and the exposed adhesive layer and the ultraviolet absorption filter of the optical filter were adhered and laminated together. As lamination conditions at this time, lamination was carried out by applying a maximum pressure of 10 kg / cm with a rubber roller at a room temperature of 20 ° C.
The adhesive optical filter having the above configuration is cut in the same shape as the part (rectangular) facing the image display area on the mesh area of the electromagnetic wave shielding sheet, and the dimensions are cut large by 4 mm in both the vertical and horizontal directions. A foliated adhesive optical filter was obtained.

(3)複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用フィルタと該枚葉化粘着性光学フィルタとを、該粘着剤層が導電体メッシュ層の該メッシュ状領域と対向する向きで、且つ該枚葉化粘着性光学フィルタが、該メッシュ状領域の画像表示領域と対峙する部分を全部被覆する様に位置合わせした上で、互いに接着積層した。この際の積層条件としては、室温20℃にて、ゴムローラで最大10kg/cmの線圧で加圧して積層した。斯くして、実施例1のディスプレイ用複合フィルタを製造した。
(3) Manufacture of composite filter Then, the obtained electromagnetic wave shielding filter and the single-wafer adhesive optical filter are arranged in a direction in which the adhesive layer faces the mesh-like region of the conductor mesh layer, and The single-wafer adhesive optical filters were aligned so as to cover the entire portion of the mesh-like region facing the image display region, and then laminated to each other. As lamination conditions at this time, lamination was carried out by applying a maximum pressure of 10 kg / cm with a rubber roller at a room temperature of 20 ° C. Thus, the composite filter for display of Example 1 was manufactured.

<実施例2>
実施例1の複合フィルタにおいて、粘着剤を、剥離紙/粘着剤層25μm/剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤(製造元;パナック、商品名;「PD−S1」、20℃における貯蔵弾性率:9.29×10Pa)に換えた。その他は実施例1と同様にして、実施例2の複合フィルタを製造した。
<Example 2>
In the composite filter of Example 1, the pressure-sensitive adhesive was a release paper / pressure-sensitive adhesive layer 25 μm / sheet-shaped acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive having a layer configuration of release paper (manufacturer; Panac, trade name; “PD-S1”, Storage modulus at 20 ° C .: 9.29 × 10 5 Pa). Otherwise, the composite filter of Example 2 was manufactured in the same manner as Example 1.

<比較例1>
実施例1の複合フィルタにおいて、粘着剤を、剥離紙/粘着剤層25μm/剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤(製造元;巴川製紙所、商品名;「TD−06A」、20℃における貯蔵弾性率:9.87×10Pa)に換えた。その他は実施例1と同様にして、比較例1の複合フィルタを製造した。
<Comparative Example 1>
In the composite filter of Example 1, the pressure-sensitive adhesive was a sheet-shaped acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive having a release paper / pressure-sensitive adhesive layer of 25 μm / release paper (manufacturer; Yodogawa Paper Mill, trade name; “TD-06A”). ”, Storage elastic modulus at 20 ° C .: 9.87 × 10 5 Pa). Otherwise, the composite filter of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1.

<比較例2>
実施例1の複合フィルタにおいて以下のように、導電体層の厚みを10μmに換えた。その他は実施例1と同様にして、比較例2の複合フィルタを製造した。
(1)電磁波遮蔽シートの製造
図1に示す電磁波遮蔽シートを次のようにして作製した。先ず、導電体層12とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層15Aが形成された厚さ10μmの連続帯状の電解銅箔を用意した。
また、透明基材11として厚さ100μmで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層16A、16Bを形成した。
<Comparative example 2>
In the composite filter of Example 1, the thickness of the conductor layer was changed to 10 μm as follows. Otherwise, the composite filter of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1.
(1) Production of electromagnetic wave shielding sheet The electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. 1 was produced as follows. First, as a metal foil used as the conductor layer 12, a continuous strip-shaped electrolytic copper foil having a thickness of 10 μm and having a blackened layer 15A made of copper-cobalt alloy particles formed on one surface was prepared.
In addition, a continuous strip-shaped uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and a polyester resin primer layer formed on one surface was prepared as the transparent substrate 11.
And after carrying out galvanization with respect to both surfaces of the said copper foil, the well-known chromate process was performed by the dipping method, and the antirust layers 16A and 16B were formed in both front and back surfaces.

次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材プライマー層上に、主剤が平均分子量3万のポリエステルポリウレタンポリオール12質量部から、又硬化剤がキシレンジイソシアネート系プレポリマー1質量部とから成る透明な2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、50℃、3日間養生して、銅箔(防錆層)と透明基材間に厚さ10μmの透明接着剤層を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。
次いで、上記銅貼積層シートに対して、その導電体層及び黒化層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部103及びライン部104とから成るメッシュ状領域101を形成した。
エッチング工程は実施例1と同様である。メッシュ状領域のライン部の高さは10μmであるが、その他のメッシュ状領域の形状、寸法は、実施例1と同様である。
このようにして、比較例2の電磁波遮蔽用シートを得た。
Next, the copper foil is composed of 12 parts by mass of a polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 and a curing agent of 1 part by mass of a xylene diisocyanate-based prepolymer on the transparent substrate primer layer on the blackened layer surface side. After dry laminating with a transparent two-component curable urethane resin adhesive, it is cured at 50 ° C. for 3 days to have a transparent adhesive layer having a thickness of 10 μm between the copper foil (rust preventive layer) and the transparent substrate. A continuous belt-like copper-clad laminate sheet was obtained.
Next, a mesh-like region 101 composed of the opening 103 and the line portion 104 was formed on the copper-clad laminate sheet by etching the conductor layer and the blackened layer using a photolithography method.
The etching process is the same as in Example 1. The height of the line portion of the mesh region is 10 μm, but the shape and dimensions of the other mesh regions are the same as those in the first embodiment.
Thus, the electromagnetic wave shielding sheet of Comparative Example 2 was obtained.

(2)枚葉化粘着性光学フィルタの製造
実施例1と同様にして、枚葉化粘着性光学フィルタ(粘着性光学フィルタ)を得た。
(3)複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用シートの該メッシュ上領域上に、実施例1と同様にして、枚葉化粘着性光学フィルタを、接着、積層した。
このようにして、比較例2の複合フィルタを得た。
(2) Manufacture of sheet-fed adhesive optical filter In the same manner as in Example 1, a sheet-fed adhesive optical filter (adhesive optical filter) was obtained.
(3) Manufacture of composite filter And in the same manner as in Example 1, a single-wafer adhesive optical filter was bonded and laminated on the mesh area of the obtained electromagnetic shielding sheet.
In this way, a composite filter of Comparative Example 2 was obtained.

〔性能評価方法〕
上記、各実施例、及び比較例に対して、以下の点を評価した。評価結果を表1に示す。
(1)粘着剤の動的粘弾性
剥離紙/粘着剤層25μm/剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル系粘着剤の粘着剤層を丸めて直径5mmの球状にした後、約3mmの厚みにカットしたものを、動的粘弾性測定装置(レオメトリック・サイエンティフィック社製、商品名「固体粘弾性アナライザーRSA−II」、測定アタッチメント;パラレルプレートフィクスチャー RSA−SL−PP4.75HT)を用いて、測定周波数1Hz、測定温度10〜30℃、昇温速度5℃/minの昇温制御下で、動的粘弾性測定を行い、20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)を求めた。
[Performance evaluation method]
The following points were evaluated with respect to the above examples and comparative examples. The evaluation results are shown in Table 1.
(1) Dynamic viscoelasticity of pressure-sensitive adhesive After a sheet-like acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a layer structure of release paper / pressure-sensitive adhesive layer 25 μm / release paper is rolled into a spherical shape having a diameter of 5 mm, about 3 mm What was cut into thickness is a dynamic viscoelasticity measuring device (Rheometric Scientific, trade name “Solid Viscoelasticity Analyzer RSA-II”, Measurement Attachment; Parallel Plate Fixture RSA-SL-PP4.75HT) Is used to perform dynamic viscoelasticity measurement under temperature rise control at a measurement frequency of 1 Hz, a measurement temperature of 10 to 30 ° C., and a temperature rise rate of 5 ° C./min, and a storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. is obtained. It was.

(2)複合フィルタの透明性
複合フィルタを目視にて透視して比較した。
白濁(曇り)、或いは気泡の存在が認められ無いもの;○
白濁(曇り)、或いは気泡の存在が認められるもの;×
(2) Transparency of composite filter The composite filter was visually seen through and compared.
Cloudy (cloudy), or the presence of bubbles is not recognized; ○
Those that are cloudy or have the presence of bubbles; x

Figure 2007096111
Figure 2007096111

<結果のまとめ>
以上の実施例及び比較例から以下のことがわかる。
実施例1及び2で得られた本発明の複合フィルタはオートクレーブ等の真空引きを行うことなく、室温(20℃)で加圧ラミネートしたにもかかわらず、メッシュ状領域に気泡の混入がなく、透明性に優れていた。
<Summary of results>
The following can be seen from the above examples and comparative examples.
Although the composite filter of the present invention obtained in Examples 1 and 2 was pressure-laminated at room temperature (20 ° C.) without vacuuming such as an autoclave, there was no mixing of bubbles in the mesh region, Excellent transparency.

一方、粘着剤の貯蔵弾性率が本発明の範囲を超える比較例1で得られた複合フィルタには気泡の存在が認められ、透明性が不十分だった。
また、メッシュ状領域のライン部の高さが本発明の範囲を超える比較例2で得られた複合フィルタにも気泡の存在が認められ、透明性が不十分だった。
On the other hand, in the composite filter obtained in Comparative Example 1 in which the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive exceeded the range of the present invention, the presence of bubbles was recognized and the transparency was insufficient.
In addition, the presence of bubbles was observed in the composite filter obtained in Comparative Example 2 in which the height of the line portion of the mesh region exceeded the range of the present invention, and the transparency was insufficient.

本発明のディスプレイ用複合フィルタの一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the composite filter for displays of this invention. 本発明の電磁波遮蔽シートの一例の斜視図である。It is a perspective view of an example of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention. 本発明の電磁波遮蔽シートの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the electromagnetic wave shielding sheet of this invention. 本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの工程の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the process of the electromagnetic wave shielding sheet used for this invention. 本発明に用いられる粘着性光学フィルタの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the adhesive optical filter used for this invention. 本発明のディスプレイ用複合フィルタの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the composite filter for a display of this invention. 本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法のうち、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層工程の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the lamination | stacking process of an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter among the manufacturing methods of the composite filter for displays of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスプレイ用複合フィルタ
2 積層体
3 電磁波遮蔽シート
4 粘着性光学フィルタ
11 透明基材
12 導電体メッシュ層(導電体層)
13 導電処理層
14 金属層
15 黒化層
16 防錆層
21 光学フィルタ
22 粘着剤層
31 第1給紙部
32 第2給紙部
34 離型フィルム巻取りロール
35 第1ラミネートユニット
36 第2ラミネートユニット
37 巻取りロール
101 メッシュ状領域
103 開口部
104 ライン部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Composite filter for displays 2 Laminated body 3 Electromagnetic wave shielding sheet 4 Adhesive optical filter 11 Transparent base material 12 Conductor mesh layer (conductor layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Conductive treatment layer 14 Metal layer 15 Blackening layer 16 Rust prevention layer 21 Optical filter 22 Adhesive layer 31 1st paper feed part 32 2nd paper feed part 34 Release film winding roll 35 1st laminating unit 36 2nd lamination Unit 37 Winding roll 101 Mesh area 103 Opening 104 Line

Claims (2)

透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが3μm以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が150μm以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されているディスプレイ用複合フィルタ。
A composite filter for display in which a conductive mesh layer having a mesh region, an adhesive layer, and an optical filter are provided at least in this order on one surface of a transparent substrate, and the mesh shape in the conductive mesh layer The height of the line portion of the region is 3 μm or less, the opening width of the opening of the mesh region is 150 μm or more, and the adhesive layer has a storage elastic modulus E ′ at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz. (Pa) is E ′ ≦ 9.5 × 10 5
A composite filter for a display formed by an adhesive.
(A)透明基材の一方の面に、ライン部の高さが3μm以下、開口部の間口幅が150μm以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
(B)光学フィルタの一方の面に、周波数1Hzにおける動的粘弾性の20℃における貯蔵弾性率E’(Pa)が
E’≦9.5×10
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、
(C)上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
(A) An electromagnetic wave shielding sheet prepared by laminating at least a conductor mesh layer having a mesh-like region having a line portion height of 3 μm or less and an opening width of 150 μm or more on one surface of a transparent substrate is prepared. And a process of
(B) On one surface of the optical filter, the storage elastic modulus E ′ (Pa) at 20 ° C. of dynamic viscoelasticity at a frequency of 1 Hz is E ′ ≦ 9.5 × 10 5.
A step of preparing an adhesive optical filter formed by laminating an adhesive layer formed of an adhesive that is:
(C) For a display comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an adhesive optical filter, wherein the adhesive layer side of the adhesive optical filter is laminated toward the conductor mesh layer side of the electromagnetic wave shielding sheet. A method for manufacturing a composite filter.
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