JP4724571B2 - 半導体抵抗素子及び半導体抵抗素子を有するモジュール - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1である半導体抵抗素子が備える半導体チップ100であり、(a)は上面からみた平面図、(b)及び(c)はそれぞれ(a)に示した半導体チップ100のA―A’線及びB―B’線での断面図である。
図3は本発明の実施の形態2である半導体抵抗素子が備える半導体チップ101を示す。本実施の形態2による半導体抵抗素子が備える半導体チップ101は図1(a)に示した実施の形態1の平面図のように、凹部領域9が一箇所でなくてもよく、抵抗値が例えば実施の形態1の4分の1の値を得るためには、図3に示したように4箇所の凹部領域9を設け、図示していないが第1電極6を各凹部領域上部に形成されたp++型半導体領域4(図2の(d)を参照)に接続すればよい。
図4は本発明の実施の形態3である半導体抵抗素子が備える半導体チップ102を示す。本実施の形態3による半導体抵抗素子が備える半導体チップ102は図1(a)に示した実施の形態1の平面図のように、凹部領域9が第1主面から見て正方形でなくてもよく、抵抗値が例えば実施の形態1の2分の1の値を得るためには、図4に示したように一辺の長さが略々2倍となる凹部領域9aを設け、図示していないが第1電極6を凹部領域上部に形成されたp++型半導体領域4(図2の(d)を参照)に接続すればよい。
図5は本発明の実施の形態4である半導体抵抗素子が備える半導体チップ103を示す。本実施の形態4による半導体抵抗素子が備える半導体チップ103は図1(a)に示した実施の形態1の平面図のように、凹部領域9が表面から見て正方形でなくてもよく、抵抗値が例えば実施の形態1の4分の1の値を得るためには、図5に示したように凹部領域の周辺長の長さが略々4倍となる凹部領域9bを設け、図示していないが第1電極6を凹部領域上部に形成されたp++型半導体領域4(図2の(d)を参照)に接続すればよい。
図6は本発明の実施の形態5である半導体抵抗素子が備える半導体チップ104を示す。本実施の形態5による半導体抵抗素子が備える半導体チップ104は図1(a)に示した実施の形態1の平面図のように、凹部領域9が表面から見て正方形でなくてもよく、抵抗値が例えば実施の形態1の11分の2の値を得るためには、図6に示したように凹部領域の周辺長の長さが略々5.5倍となる凹部領域9cを設け、図示していないが第1電極6を凹部領域上部に形成されたp++型半導体領域4(図2の(d)を参照)に接続すればよい。このような構成とすることにより、図1(a)に示した実施の形態1の11分の2の抵抗を有する半導体チップ104を得ることができる。
図7は本発明の実施の形態6である半導体チップをモールド樹脂で封止した半導体抵抗素子110の概観図を示す。図7において、100、101、102、103、104は実施の形態1〜5で説明した半導体チップであり、半導体チップの第2主面の第2電極に半田11を介して第2リード電極10bに接続され、ワイヤボンディングによりワイヤ12が半導体チップの第1主面の第1電極と第1リード電極10aと接続している。さらに、第1リード電極10a、第2リード電極10bの一部を除いて、全体をモールド樹脂13aで封止し、面実装型の半導体抵抗素子110が完成する。
図8および図9は、本発明の実施の形態7であるダイオードモジュール200を示す。図8は図7で説明した面実装型の半導体抵抗素子110以外に、図7と同様のパッケージを有するキャパシタ120、インダクタ140等の受動部品とダイオード130を、1つのダイオードモジュール200として組み込んだ例を示す。図9は図8に示したモジュールの一断面を示す。図8において、14はモジュールとして使用する場合のリード電極であり、このリード電極14は例えば図7で示した面実装型の半導体抵抗素子110の第1リード電極10a,第2リード電極10bと半田11を介して接続されている。他の受動部品であるキャパシタ120及びインダクタ140、ダイオード130についても同様に、部品のリード電極とモジュールのリード電極14とを接続することによって、ダイオードモジュール200を完成させることができる。
2 n型半導体領域(第2半導体領域)
3 p+型半導体領域(第4半導体領域)
4 p++型半導体領域(第3半導体領域)
5 第2電極
6 第1電極
7 第1パッシベーション膜
7a,7b 酸化膜
8 第2パッシベーション膜
9、9a、9b、9c 凹部領域(凹部)
10a 第1リード電極
10b 第2リード電極
11 半田
12 ワイヤ
13a,13b,13c モールド樹脂
14 リード電極
100、101、102、103、104 半導体チップ
110 半導体抵抗素子
120 キャパシタ
130 ダイオード
140 インダクタ
200 ダイオードモジュール
Claims (8)
- 互いに反対側に位置する第1主面及び第2主面を有する半導体チップを備え、
前記半導体チップは、
前記第2主面を持ち第1不純物濃度で第1導電型の第1半導体領域と、
前記第1半導体領域上に形成され、前記第1主面を持ち前記第1不純物濃度よりも低い第2不純物濃度で第2導電型の第2半導体領域と、
前記第2半導体領域の前記第1主面から前記第2主面に向かって選択的に形成された前記第2不純物濃度よりも高い第3不純物濃度を有する前記第1導電型の第3半導体領域と、
前記第3半導体領域の前記第1主面に設けられた凹部と、
前記凹部の内面を含み、前記第3半導体領域の前記第1主面から前記第2主面に向かって前記第3半導体領域と前記第1半導体領域とを連結するよう選択的に形成され、前記第2不純物濃度より高い前記第1導電型の第4不純物濃度を有する第4半導体領域と、
前記第1主面において前記第3半導体領域にオーミック接続した状態で形成された第1電極と、
前記第2主面において前記第1半導体領域にオーミック接続した状態で形成された第2電極とを有することを特徴とする半導体抵抗素子。 - 請求項1に記載の半導体抵抗素子において、前記凹部の側面形状は前記第1主面から前記第2主面に向かって第1主面側から見た面積が小さくなる角錐の一部であることを特徴とする半導体抵抗素子。
- 請求項1に記載の半導体抵抗素子において、前記凹部は、前記第1主面に形成されたパターニングされた酸化膜をマスクとして、アルカリ水溶液を用いてエッチングされることを特徴とする半導体抵抗素子。
- 請求項2に記載の半導体抵抗素子において、前記凹部が複数個設けられていることを特徴とする半導体抵抗素子。
- 請求項1に記載の半導体抵抗素子において、前記第1主面から見た前記第2半導体領域の半導体結晶の面方位が(100)であることを特徴とする半導体抵抗素子。
- 請求項1に記載の半導体抵抗素子において、前記第1主面に露出する前記第1電極が前記第1主面から見て、前記半導体チップの中央部に位置することを特徴とする半導体抵抗素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体抵抗素子を有することを特徴とするモジュール。
- 請求項7に記載のモジュールにおいて、ダイオード、インダクタ、キャパシタの個別部品の内いずれか1つ以上と、
前記半導体抵抗素子を1つ以上とを、
一つのモジュールに有することを特徴とするモジュール。
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