JP4714998B2 - 固体撮像素子 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は固体撮像素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図2は従来の固体撮像素子の一例を示す平面図、図3は図2における直線Aに沿った断面を示す部分断面側面図である。
図2に示した固体撮像素子102は、インターライン型の固体撮像素子であり、シリコンから成る半導体基板104上に多数の光電変換素子106を相互に間隔をおきマトリクス状に近接配置して構成されている。そして光電変換素子106の各列ごとにCCD(Charge Coupled Device)構造の垂直電荷転送レジスター108が、光電変換素子106の列方向(矢印V)に延設され、垂直電荷転送レジスター108の一端部側に同じくCCD構造の水平電荷転送レジスター110が、光電変換素子106の行方向(矢印H)に延設されている。水平電荷転送レジスター110の一方の端部にはアンプ部112が形成されている。
【0003】
このような構成において、各列の各光電変換素子106が光を受けて生成した信号電荷は、光電変換素子106と垂直電荷転送レジスター108との間に介在する読み出し領域を経て、対応する垂直電荷転送レジスター108に出力され、垂直電荷転送レジスター108はこの信号電荷を順次、水平電荷転送レジスター110に向けて転送する。水平電荷転送レジスター110は各垂直電荷転送レジスター108から信号電荷を受け取ってアンプ部112に転送し、アンプ部112は転送されてきた信号電荷にもとづき出力端子113を通じて映像信号を出力する。
【0004】
断面図を参照して光電変換素子106周辺を詳しく説明すると、図3に示したように、光電変換素子106はp型の半導体基板104の表面部に局所的に積層されたp型領域(図示せず)およびn型領域(図示せず)から成り、図3ではその左側の半導体基板表面部に、対応する垂直電荷転送レジスター108が形成されている。
垂直電荷転送レジスター108は、その延在方向(図3では紙面に垂直な方向)に延在する垂直転送路118と、垂直転送路118の上に絶縁膜120を介して、垂直転送路118の延在方向に配列された複数の転送電極122とを含んで構成されている。
【0005】
また、光電変換素子106と、光電変換素子106に隣接して同光電変換素子が生成した信号電荷を転送する垂直転送路118とは、それらの間に介在する、高濃度のp型不純物を含む読み出しゲート124により分離され、一方、光電変換素子106と、光電変換素子106に隣接する他の垂直転送路118とは、それらの間に介在する、高濃度のp型不純物を含むチャンネルストップ領域126により分離されている。
【0006】
そして、半導体基板104の表面は、光電変換素子106の上部の箇所を除いて遮光膜128で覆われ、その上に、透明な絶縁層130を介して、下に凸で上面が平坦な層内レンズ132が各光電変換素子106ごとに形成されている。層内レンズ132上には、各光電変換素子106ごとに赤、青、緑のいずれかの色の光を選択的に透過させるカラーフィルター134が配置され、その上に、各光電変換素子106ごとにオンチップレンズ136が配置されている。
【0007】
このような構成において、オンチップレンズ136に入射した光138は、オンチップレンズ136および層内レンズ132により集光されて光電変換素子106に入射し、光電変換素子106は入射光により信号電荷を生成する。光電変換素子106で生成された信号電荷は、対応する垂直電荷転送レジスター108に供給され、垂直転送路118を水平電荷転送レジスター110(図2)に向けて転送される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の固体撮像素子102では、オンチップレンズ136の中央部に入射した光138はオンチップレンズ136および層内レンズ132の作用により効果的に集光されて光電変換素子106に入射するものの、周辺部に入射した光140は、図3に示したように、レンズの作用により光電変換素子106方向に屈折しても、遮光膜128のエッジ部142で遮られてしまい、光電変換素子106に到達することができない。
【0009】
このような現象は、近年の画素サイズの縮小傾向とともに顕著となってきている。すなわち、光電変換素子106の幅Wが小さくなるほど、転送電極122上の遮光膜128の高さHの影響が大きくなり、光電変換素子106に斜めから入射する光は遮光膜128によっていそう遮られ易くなる。そのため、集光率が低下し、固体撮像素子102の感度が低下する結果となっている。
【0010】
また、オンチップレンズ136に対して最初から斜めに入射した光は、オンチップレンズ136に対して正面から入射した光、すなわち光電変換素子106に対し垂直に入射した光より、遮光膜128のエッジ部142で遮られる割合が多くなる。したがって、従来の固体撮像素子102では、固体撮像素子102に対し、光が正面から入射する場合と、斜めの方向から入射する場合とで、固体撮像素子102の感度に差が生じている。
【0011】
上記層内レンズ132はこれら問題を緩和すべく設けられているが、層内レンズ132だけでは不十分である。また、層内レンズ132の形成には熱処理などを含め多くの工程が必要であり、さらに層内レンズ132を設けることにより基板上層部の構造が複雑になっている。
【0012】
また、入射光が遮光膜128のエッジ部142で遮られる割合は、転送電極122の位置や高さにより変化する。そのため、製造時の誤差によって転送電極122の位置や高さにバラツキが生じた場合、固体撮像素子102の感度が固体撮像素子102上の位置により異なってしまい、製造歩留まりが低下する結果となっている。
【0013】
本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、その目的は、構造が簡素で、少ない工程数で作製でき、さらに光の入射方向による感度差が少なく、かつ感度ムラが生じにくい、集光率の高い固体撮像素子を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するため、第1導電型の半導体基板上に相互に近接してマトリクス状に配列された複数の光電変換素子と、前記光電変換素子の各列に沿って前記半導体基板上に形成されたCCD構造の電荷転送レジスターとを備え、前記電荷転送レジスターは、前記半導体基板の表面部に、前記光電変換素子の列方向に延設された第2導電型の電荷転送路と、同電荷転送路上に配列された複数の転送電極とを含んで前記光電変換素子が受光して生成した信号電荷を転送する固体撮像素子であって、前記電荷転送路の上に凹部が形成され、前記凹部の前記光電変換素子側の側壁は、前記凹部の幅が浅い位置ほど広くなるように傾斜して形成され、前記転送電極は、前記凹部内に配設され、前記凹部の内面に絶縁膜が被着され、前記凹部の内面と前記転送電極との間に前記絶縁膜が介在しており、前記転送電極の上面と、前記光電変換素子の上面とは、同一の高さに形成され、前記転送電極および前記光電変換素子の上面は同一の絶縁膜により覆われており、各光電変換素子ごとに入射光を前記光電変換素子に集めるオンチップレンズが各光電変換素子の上方に形成され、前記光電変換素子の上方で、かつ前記オンチップレンズの下に、カラーフィルターが設けられ、前記光電変換素子は、前記半導体基板の表面部に局所的に積層された第1導電型の領域と、前記第1導電型の領域の下の第2導電型の領域とを含むフォトダイオードにより構成され、前記光電変換素子の前記第2導電型の領域と第2導電型の前記電荷転送路との間に、深さ方向に延びて形成された、第1導電型のチャネルストップが設けられていることを特徴とする。
【0015】
すなわち、本発明の固体撮像素子では、転送電極が、電荷転送路の上に形成された凹部内に配設され、その上部は基板表面から突出していない。したがって、光電変換素子に斜めに入射する光は、転送電極あるいは転送電極上に形成された遮光膜によって遮られることがなく、その結果、層内レンズを設けなくとも集光率を充分に高めて固体撮像素子の感度を向上させることができる。
【0016】
そして、光電変換素子に斜めに入射する光が、転送電極や遮光膜などによって遮られないことから、固体撮像素子に対し正面から入射する光と、斜めから入射する光とに対して感度差が小さく、さらに、転送電極の位置や高さのバラツキが原因で生じる、固体撮像素子上の位置による感度変動も低減できる。
また、凹部の形成や、凹部内への転送電極形成は容易であって必要な工程数も少なく、一方、層内レンズは不要となることから、全体として工程数を削減することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態例について図面を参照して説明する。
図1は本発明による固体撮像素子の一例を示す部分断面側面図である。図中、図2、図3と同一の要素には同一の符号が付されている。
ここで説明する実施の形態例としての固体撮像素子は、インターライン型の固体撮像素子であり、光電変換素子、垂直電荷転送レジスター、水平電荷転送レジスターの配置などの基本的な構成は図2に示した固体撮像素子と同じである。すなわち、シリコンから成る半導体基板上に多数の光電変換素子を相互に間隔をおきマトリクス状に配列して構成され、光電変換素子の各列ごとにCCD構造の垂直電荷転送レジスターが、光電変換素子の列方向に延設され、垂直電荷転送レジスターの一端部側にCCD構造の水平電荷転送レジスターが配置されている。また水平電荷転送レジスターの一方の端部にはアンプ部が形成されている。
【0018】
図1は図3と同様、光電変換素子の行方向における光電変換素子周辺の詳しい断面を示し、図1に示したように、本実施の形態例の固体撮像素子2では、フォトダイオードである光電変換素子4は、p型(本発明に係わる第1導電型)の半導体基板6の表面部にp型領域8およびn型(本発明に係わる第2導電型)の領域(n型領域10)を局所的に積層して形成され、p型領域8はn型領域10より半導体基板6の表面側に形成されている。
【0019】
光電変換素子4の両側の基板表面部には、垂直電荷転送レジスター12を構成すべくn型不純物を含む垂直転送路118が形成され、本実施の形態例では、その上に凹部14が形成されている。凹部14の光電変換素子4側の側壁は、本実施の形態例では、図1に示したように傾斜しており、凹部14の幅は浅い位置ほど広くなっている。凹部14の内面には、たとえばシリコンの酸化物による絶縁膜16が被着され、そして、この絶縁膜16を介し凹部14の内側に、たとえばポリシリコンを充填して複数の転送電極18が、垂直転送路118の延在方向(図1の紙面に垂直な方向)に所定ピッチで形成されている。
【0020】
転送電極18の上面は、本実施の形態例では、半導体基板6の表面、すなわちp型領域8の上面と同じ高さとなっている。そして、半導体基板6の表面は絶縁膜16により覆われ、絶縁膜16の上には光電変換素子4の箇所を除いて、遮光膜20が形成されている。遮光膜20および絶縁膜16の上にはカラーフィルター130が配置され、その上にオンチップレンズ132が形成されている。
【0021】
また、光電変換素子4と、光電変換素子4に隣接して同光電変換素子4が生成した信号電荷を転送する垂直転送路118とは、それらの間に介在する、高濃度のp型不純物を含む読み出しゲート21により分離され、一方、光電変換素子4と、光電変換素子4に隣接する他の垂直転送路118とは、それらの間に介在する、高濃度のp型不純物を含むチャンネルストップ領域22により分離されている。
【0022】
上記凹部14は、たとえば、半導体基板6上にシリコンの窒化物による膜を形成して、凹部14の箇所で開口させるべくパターン化し、このシリコン窒化物の膜をマスクとして、たとえばドライエッチングを行って形成することができる。また、絶縁膜16は、シリコンの熱酸化などにより形成でき、転送電極18は、凹部14の内面に絶縁膜16を形成した後、凹部14内にポリシリコンを堆積させて形成することができる。
【0023】
このように構成された固体撮像素子2では、転送電極18が垂直転送路118の上に形成された凹部14の内側に配設され、その上部は基板表面から突出していないので、オンチップレンズ132により屈折して光電変換素子4に斜めに入射する光140は、従来のように遮光膜によって遮られることなく光電変換素子4に入射する。したがって、固体撮像素子2では、層内レンズは不要であり、しかも層内レンズを用いた従来の固体撮像素子より高い集光率が得られ、固体撮像素子2の感度が向上する。
【0024】
そして、光電変換素子4に斜めに入射する光が遮光膜20によって遮られないことから、固体撮像素子2に対し正面から入射する光と、斜めから入射する光とに対して感度差が小さくなる。さらに、転送電極の位置や高さのバラツキが原因で生じる、固体撮像素子2上の位置による感度変動も低減できる。
また、凹部14の形成や、凹部14内への転送電極の形成は容易であって必要な工程数も少なく、一方、層内レンズは不要となることから、全体として工程数を削減することができる。
【0025】
なお、本実施の形態例では、凹部14の側壁は上述のように傾斜させるとしたが、側壁を傾斜させない構成とすることも可能であり、その場合にも本発明は有効である。ただし、側壁が傾斜した構造とする方が、転送電極18の上部が光電変換素子4側に迫り出し、転送電極18と光電変換素子4との距離が短くなるため、光電変換素子4により生成された信号電荷を効率よく垂直転送路118に移行させることができる。したがって、この点では、凹部14の側壁を傾斜させる構造とすることが好ましい。
【0026】
また、本実施の形態例では、転送電極18の上面はp型領域8の上面と同じ高であるとしたが、転送電極18の上部は、半導体基板6の表面から若干突出していてもよく、その場合にも、斜めに入射した光が遮られないか、あるいは遮られてもその量を僅かなものとできる。さらに、転送電極18の上部が半導体基板6の表面より低い位置となる構造とすることも可能である。
【0027】
本実施の形態例では、転送電極18はポリシリコンにより形成するとしたが、転送電極18をアルミニウムやタングステンなどの金属材料により形成することも可能である。その場合には、入射光は転送電極18により遮られるため、斜光膜20は不要となり、入射角の大きい光も光電変換素子4に到達するので、集光率はいっそう向上する。また、斜光膜を形成するための工程が不要となるので、製造コストの削減にも有利である。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の固体撮像素子では、転送電極が、電荷転送路の上に形成された凹部内に配設され、その上部は基板表面から突出していない。したがって、光電変換素子に斜めに入射する光は、転送電極あるいは転送電極上に形成された遮光膜によって遮られることがなく、その結果、層内レンズを設けなくとも集光率を充分に高めて固体撮像素子の感度を向上させることができる。
【0029】
そして、光電変換素子に斜めに入射する光が、転送電極や遮光膜などによって遮られないことから、固体撮像素子に対し正面から入射する光と、斜めから入射する光とに対して感度差が小さく、さらに、転送電極の位置や高さのバラツキが原因で生じる、固体撮像素子上の位置による感度変動も低減できる。
また、凹部の形成や、凹部内への転送電極形成は容易であって必要な工程数も少なく、一方、層内レンズは不要となることから、全体として工程数を削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による固体撮像素子の一例を示す部分断面側面図である。
【図2】従来の固体撮像素子の一例を示す平面図である。
【図3】図2における直線Aに沿った断面を示す部分断面側面図である。
【符号の説明】
2……固体撮像素子、4……光電変換素子、6……半導体基板、8……p型領域、10……n型領域、12……垂直電荷転送レジスター、14……凹部、16……絶縁膜、18……転送電極、20……遮光膜、22……チャンネルストップ領域。
Claims (4)
- 第1導電型の半導体基板上に相互に近接してマトリクス状に配列された複数の光電変換素子と、前記光電変換素子の各列に沿って前記半導体基板上に形成されたCCD構造の電荷転送レジスターとを備え、前記電荷転送レジスターは、前記半導体基板の表面部に、前記光電変換素子の列方向に延設された第2導電型の電荷転送路と、同電荷転送路上に配列された複数の転送電極とを含んで前記光電変換素子が受光して生成した信号電荷を転送する固体撮像素子であって、
前記電荷転送路の上に凹部が形成され、
前記凹部の前記光電変換素子側の側壁は、前記凹部の幅が浅い位置ほど広くなるように傾斜して形成され、
前記転送電極は、前記凹部内に配設され、
前記凹部の内面に絶縁膜が被着され、前記凹部の内面と前記転送電極との間に前記絶縁膜が介在しており、
前記転送電極の上面と、前記光電変換素子の上面とは、同一の高さに形成され、前記転送電極および前記光電変換素子の上面は同一の絶縁膜により覆われており、
各光電変換素子ごとに入射光を前記光電変換素子に集めるオンチップレンズが各光電変換素子の上方に形成され、
前記光電変換素子の上方で、かつ前記オンチップレンズの下に、カラーフィルターが設けられ、
前記光電変換素子は、前記半導体基板の表面部に局所的に積層された第1導電型の領域と、前記第1導電型の領域の下の第2導電型の領域とを含むフォトダイオードにより構成され、
前記光電変換素子の前記第2導電型の領域と第2導電型の前記電荷転送路との間に、深さ方向に延びて形成された、第1導電型のチャネルストップが設けられている
固体撮像素子。 - 前記絶縁膜がシリコンの酸化物から成る請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記絶縁膜の上面が平坦であり、前記絶縁膜の前記転送電極の上方の部分上に遮光膜が形成されている請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記転送電極がアルミニウム又はタングステンにより形成されている請求項1記載の固体撮像素子。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0322479A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-30 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPH0322479A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-30 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
JPH053313A (ja) * | 1991-06-26 | 1993-01-08 | Hitachi Ltd | 固体撮像素子 |
JPH05315584A (ja) * | 1992-05-08 | 1993-11-26 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 電荷転送固体撮像素子 |
JP2000164839A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
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