JP4712015B2 - 食器洗浄機 - Google Patents

Description

本発明は、食器洗浄機に関する。特に、スチーム発生装置を備える食器洗浄機に関する。

食器洗浄機において、スチーム発生装置を備えるものが普及している。この種の食器洗浄機では、食器の洗浄を開始する前に、洗浄槽の内部に水蒸気を充満させ、食器にこびりついた汚れを浮き上がらせる。その後に洗浄を行うことによって、食器に強固に付着した汚れをも取り除くことができる。

食器洗浄機に用いられるスチーム発生装置では、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることが要求される。特許文献１には、スチーム発生装置のヒータに通電しつつ、スチーム発生装置内の水が全て蒸発する度に給水を行い、必要な量の水蒸気を速やかに発生させる技術が開示されている。この技術では、スチーム発生装置の底部に設けられたサーミスタの検出温度が所定のしきい値に達した場合に、スチーム発生装置内の水が全て蒸発したものと判断し、所定量の給水を行う。そのしきい値は、スチーム発生装置内の水が沸騰している間は検出されず、スチーム発生装置内の水が全て蒸発して、いわゆる空だきの状態となったときに検出される温度（１１０℃）に設定されている。

特開２００７−１３０１４３号公報

特許文献１の技術では、サーミスタの検出温度がしきい値に達したときに、スチーム発生装置内の水が全て蒸発したと判断して、スチーム発生装置への給水を行う。このような制御を行う場合、制御の遅延によるオーバーシュートによって、スチーム発生装置が過熱されるおそれがある。すなわち、スチーム発生装置内の全ての水が蒸発してから、コントローラがサーミスタの温度を検出し、検出温度がしきい値に達していることが判明し、コントローラが給水弁を開く指示を出力し、給水弁が開いて、スチーム発生装置に水が流れ込むまでの間、スチーム発生装置は空だきの状態で加熱を続けることになる。制御の遅延によってこの一連の動作に遅れが生じると、上記のしきい値を１１０℃に設定していた場合でも、スチーム発生装置に実際に水が供給されるまでには、スチーム発生装置が１５０℃〜２００℃程度まで過熱されてしまうおそれがある。スチーム発生装置がこれだけの高温となってしまうと、スチーム発生装置の内部に施された耐食性のコーティングや、スチーム発生装置の周囲に存在する樹脂製の部品に損傷を与えてしまう。

スチーム発生装置の過熱を回避するために、上記のしきい値をより低い値（例えば１０５℃）に設定すると、水が沸騰している間にサーミスタで検出される温度としきい値が近くなってしまい、誤検知を生じやすくなってしまう。最悪の場合には、水が沸騰し始めた時点で、水が全て蒸発したものと誤検知してしまうおそれがある。このような誤検知が生じると、スチーム発生装置への不要な給水が行われたり、ヒータへの通電が停止されたりして、それだけ水蒸気の発生を遅らせてしまう。必要な量の水蒸気を発生させるまでの時間を長期化させてしまう。

以上のように、スチーム発生装置を備える食器洗浄機において、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることと、スチーム発生装置の過熱を防ぐことを両立させることは難しい。スチーム発生装置の過熱を防止しつつ、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることが可能な技術が必要とされる。

本発明は、上記の問題を解決するために創作されたものであり、スチーム発生装置の過熱を防止しつつ、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることが可能な食器洗浄機を提供することを目的とする。

本発明は食器を収容する洗浄槽に水蒸気を供給するスチーム発生装置を備える食器洗浄機として具現化される。その食器洗浄機では、スチーム発生装置が、内部に水を貯める本体部と、本体部内に貯められた水を加熱するヒータと、本体部の底部に配置されたサーミスタを備えている。その食器洗浄機では、スチーム発生装置が、ヒータの加熱によって本体部内に貯められた水を蒸発させて水蒸気を発生させる。その食器洗浄機では、スチーム発生装置のサーミスタの温度検知部が、本体部の内側底面より高い位置にある。その食器洗浄機では、スチーム発生装置が、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が低下すると、ヒータの加熱を停止する。

上記の食器洗浄機では、スチーム発生装置の本体部内に貯められた水をヒータの加熱によって蒸発させ、水蒸気を発生させる。そして、サーミスタの検出温度が低下すると、ヒータによる加熱を停止する。

図５は上記の食器洗浄機において、スチーム発生装置の本体部内に貯められた水をヒータで加熱していった場合の、サーミスタの検出温度の履歴を例示している。ヒータでの加熱を開始すると、本体部内に貯められた水が加熱されて、サーミスタの検出温度は上昇していく。その後、図５のＷ１に示すように、本体部内に貯められた水が沸騰し始めると、サーミスタの検出温度は安定して、一定の温度が検出されるようになる。しかしながら、図５のＷ２に示すように、本体部内の水が全て蒸発しきる直前には、サーミスタの検出温度がわずかに低下する期間が存在する。この検出温度の低下は、サーミスタの温度検知部が本体部の内側底面より高い位置にあることにより、本体部内の水位が温度検知部よりも低くなり、本体部内の水が蒸発する際の気化熱を始めとする温度検知部近傍での熱収支に変化が生じるためと考えられる。なお、図５のＷ３は本体部内の水が全て蒸発しきった後もヒータでの加熱を継続して空だきを行った場合のサーミスタの検出温度を示しており、空だきを行わなければＷ３に示すような検出温度の履歴を示すことはない。

上記の食器洗浄機では、スチーム発生装置において、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が低下すると、ヒータの加熱を停止する。このような検出温度の低下は、スチーム発生装置の本体部内の水が全て蒸発しきる直前に見られるものであり、本体部内の水が全て蒸発した後に生じるものではない。従って、制御の遅延が生じた場合であっても、早い段階でヒータの加熱を停止することができ、スチーム発生装置が長期間にわたって空だきの状態となってしまうことがない。スチーム発生装置が過熱されることによる内部のコーティングの損傷を防ぐことができる。また、スチーム発生装置が過熱されて周囲の樹脂製部品に損傷を与えることを防ぐことができる。

また、上記の食器洗浄機では、スチーム発生装置の本体部内の水が全て蒸発しきる直前までは、ヒータによる加熱を継続している。従って、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることができる。

上記の食器洗浄機においては、ヒータで加熱している際の、安定しているときのサーミスタの検出温度を基準温度として設定し、スチーム発生装置が、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が基準温度を下回ると、ヒータの加熱を停止することが好ましい。

スチーム発生装置において、ヒータでの加熱によって、本体部内に貯められた水が沸騰し始めると、サーミスタの検出温度は安定して、一定の温度が検出されるようになる。このように安定しているときのサーミスタの検出温度は、スチーム発生装置から洗浄槽へ水蒸気を送り出すノズルの閉塞状況など、種々の要因に応じて異なる温度で安定する場合がある。上記の食器洗浄機によれば、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度がどのような温度で安定した場合でも、サーミスタの検出温度の低下を確実に検出し、スチーム発生装置の空だきを防止することができる。

本発明の食器洗浄機によれば、スチーム発生装置の過熱を防止しつつ、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることができる。

以下、本発明の好適な実施形態を説明する。
（形態１） スチーム発生装置は、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が所定時間継続して基準温度を下回ると、ヒータの加熱を停止する。

本発明を具現化した実施例の食器洗浄機を図面を参照しながら説明する。図１は、食器洗浄機１０の縦断面図である。食器洗浄機１０は、引き出し式の食器洗浄機である。食器洗浄機１０は、本体１２と洗浄槽１４と扉１５を備えている。
洗浄槽１４は、本体１２と扉１５で形成される空間に収容されている。洗浄槽１４は、本体１２にスライド可能に支持されている。洗浄槽１４は、本体１２に対して前後方向（図１の左右方向）にスライド可能である。洗浄槽１４は、扉１５に連結されている。扉１５を前方（図１の左方向）へ引き出すと、扉１５とともに洗浄槽１４が引き出される。洗浄槽１４は、上部が開放された箱状に形成されている。洗浄槽１４には、洗浄ノズル２１、食器カゴ６１等が収容されている。洗浄ノズル２１には、複数の噴射口２１ａが形成されている。食器カゴ６１は、種々の食器１９を保持するために、食器１９に対応した形状に形成されている。

洗浄槽１４の上方には、シール蓋５６が配置されている。シール蓋５６は、図示しない昇降機構によって本体１２と連結されている。扉１５が閉じられた状態（洗浄槽１４が本体１２に収容されている状態）では、シール蓋５６は降下して洗浄槽１４の上側開口部に蓋をする。洗浄槽１４が本体１２から引き出されるときには、シール蓋５６は上昇して洗浄槽１４の上側開口部を開放する。

洗浄槽１４の底面３９には、吸込凹部３１が形成されている。吸込凹部３１の上側開口部は、残菜フィルタ１７によって覆われている。残菜フィルタ１７はメッシュ状に形成されている。残菜フィルタ１７は、洗浄槽１４から取り外すことができる。底面３９の下方には、ポンプ２７が設けられている。ポンプ２７は、内蔵する電気モータによってインペラ２８を回転する。ポンプ２７は、インペラ２８を一方向（順方向）に回転することもできるし、その逆の方向（逆方向）に回転することもできる。インペラ２８が配置されている空間と吸込凹部３１は、吸込流路３２によって連通されている。ポンプ２７が配置されている底面３９の上方には、電気式のヒータ３０が装着されている。ヒータ３０の下方には、サーミスタ５５が配置されている。サーミスタ５５は、洗浄槽１４に洗浄水やすすぎ水が入れられているときには水の温度を検出し、洗浄水やすすぎ水が入れられていないときには洗浄槽１４内の空気の温度を検出する。

洗浄槽１４の底面３９には、洗浄ノズル２１が回転可能に取付けられている。洗浄ノズル２１は、ポンプ２７の第１吐出口１１と連通している。ポンプ２７が駆動し、インペラ２８が順方向に回転すると、洗浄槽１４内の洗浄水が洗浄ノズル２１に送出される。洗浄ノズル２１に送出された洗浄水は、複数の噴射口２１ａから洗浄槽１４内に噴射される。複数の噴射口２１ａの一部の噴射口は、水を噴射したときに洗浄ノズル２１に回転モーメントを発生させる。

扉１５には、操作パネル１６と排気経路１８が配置されている。操作パネル１６には、各種のボタンやランプ等が設けられている。排気経路１８は、洗浄槽１４の内側と外側を連通している。

本体１２の後方壁３３（図１の右側の壁）には、排水ホース３４が接続されている。排水ホース３４とポンプ２７の第２吐出口３５は、排水流路３６によって連通されている。排水流路３６の排水ホース３４と接続されている側の端部には、排水逆止弁３８が装着されている。排水逆止弁３８は、排水ホース３４から排水流路３６に排水が逆流するのを防止する。ポンプ２７が駆動し、インペラ２８が逆方向に回転すると、洗浄槽１４内の洗浄は、排水流路３６を介して、洗浄槽１４から排水される。

また、本体１２の後方壁３３には、給水ホース４０の一端が接続されている。給水ホース４０の他端は、図示しない給水源に接続される。給水ホース４０には、水道水（冷水）が直接供給されることもあるし、給湯器によって加熱された温水が供給されることもある。給水ホース４０の一端は、第１給水流路４２を介して本体１２内部の給水弁４１に接続されている。給水弁４１は、内蔵するソレノイドに駆動されて開閉する。給水弁４１は、第２給水流路４３を介してスチーム発生装置６５に連通している。

スチーム発生装置６５は、必要に応じて、供給された水を加熱して蒸発させる。スチーム発生装置６５に供給された水は、蒸発して水蒸気となって送り出されることもあるし、加熱されることなくスチーム発生装置６５を単に通過することもある。スチーム発生装置６５は、第３給水流路６６を経由して、洗浄槽１４に設けられたノズル６７に連通している。スチーム発生装置６５で発生した水蒸気は、第３給水流路６６を経由してノズル６７から洗浄槽１４内に噴霧される。また、スチーム発生装置６５を単に通過した水も、第３給水流路６６を経由してノズル６７から洗浄槽１４内に流れ込む。

本体１２の後方壁３３と洗浄槽１４の後方壁５１の間には、乾燥ファン５２が配置されている。乾燥ファン５２は、内蔵するモータでファン５３を回転駆動する。洗浄槽１４は、吸気経路６３を介して乾燥ファン５２と接続されている。
本体１２の底面５７には、凹部５８が形成されている。凹部５８には、水漏れ検知センサ５９の２本の電極が差し込まれている。洗浄槽１４から外部に水が漏れ、その漏れた水が凹部５８に流れ込むと、電極間が導通して水漏れ検知センサ５９がオンになる。

洗浄槽１４の前方には、水位検知器４５が配置されている。水位検知器４５は、水位室４６とフロート４７とバー４８と水位スイッチ４９を備えている。水位室４６は、水位経路５０によって吸込凹部３１と連通されている。フロート４７は、水位室４６内に配置されている。バー４８は、フロート４７の上部に固定されており、水位室４６から上方に突出している。水位スイッチ４９は、バー４８の上方に配置されている。洗浄槽１４内に水が供給されると、水位経路５０を介して水位室４６にも水が導入される。水位室４６内の水位は、洗浄槽１４内の水位と同一である。即ち、洗浄槽１４内に給水されて、洗浄槽１４内の水位が上昇すると、水位室４６内の水位も上昇する。フロート４７は、水位室４６に導入された水によって浮上する。水位室４６内の水位の上昇に伴って、フロート４７が浮上されると、バー４８の上端が水位スイッチ４９に接触する。これにより、水位スイッチ４９がオンになる。

図２はスチーム発生装置６５の構成を模式的に示している。スチーム発生装置６５は、内部に水を貯めることができる箱型容器状の本体部７０と、本体部７０の上部開口を閉塞する蓋部７２を備えている。本体部７０と蓋部７２はアルミ合金製であり、それぞれの内面には耐食性を確保するためのフッ素コーティングが施されている。蓋部７２は本体部７０に対して着脱可能に取り付けられている。本体部７０の蓋部７２と当接する部位にはシールパッキン７４が装着されており、蓋部７２と本体部７０の当接部位は気密に封止される。

本体部７０の底部には図１の第２給水流路４３に連通する給水口７６が設けられている。給水口７６は本体部７０の内側底面で開口しており、第２給水流路４３から供給される水は本体部７０の内部に貯められていく。

本体部７０の内部には、本体部７０の内側底面から上方向に伸びて上向きに開口する出水管７７が設けられている。出水管７７の上端の開口部７９は、本体部７０の内部における規定水位と同じ高さに位置合わせされている。この規定水位は、本体部７０内の水を全て蒸発させたときに、後述するスチーム工程で必要とされる水蒸気量を発生させることが可能な水位に設定される。開口部７９は出水管７７の下端の出水口７８を介して図１の第３給水流路６６に連通している。スチーム発生装置６５に第２給水流路４３から給水がされると、本体部７０の内部の水位が上昇していき、その水位が規定水位を超えると、本体部７０の内部の水が開口部７９から出水口７８へ溢れ出る。出水口７８から溢れ出た水は、第３給水流路６６へ流れ込み、ノズル６７を介して洗浄槽１４へ供給される。

本体部７０の底部には、スチームヒータ８０が設けられている。スチームヒータ８０は略Ｕ字状の形状をしており、本体部７０の底部を加熱する。スチームヒータ８０に通電すると、本体部７０が加熱されて高温となり、本体部７０の内部の水が加熱される。加熱によって本体部７０の内部の水は蒸発して水蒸気となり、開口部７９から出水口７８を経て第３給水流路６６へと流入する。第３給水流路６６へ流入した水蒸気は、ノズル６７を介して洗浄槽１４の内部へ噴霧される。

本体部７０の底部にはスチームサーミスタ８２が設けられている。スチームサーミスタ８２は、その温度検知部８３が本体部７０の内側底面より高い位置となるように配置されている。スチームサーミスタ８２は温度検知部８３における温度を検出する。

本体部７０の底部にはバイメタルスイッチ８４が内蔵されている。バイメタルスイッチ８４は、通常時にはオンとなっているが、本体部７０の底部が異常な高温となったときにオフに切換わる。

図１の水位検知器４５の上方には、コントローラ６０が装着されている。コントローラ６０には、操作パネル１６、ポンプ２７、ヒータ３０、給水弁４１、水位スイッチ４９、乾燥ファン５２、サーミスタ５５、水漏れ検知センサ５９、スチームヒータ８０、スチームサーミスタ８２、バイメタルスイッチ８４が接続されている。コントローラ６０は、内蔵するＣＰＵ６０ａ、メモリ６０ｂ等によって、接続されている各装置の動作を制御する。メモリ６０ｂは、各装置の制御するための情報を記憶している。

図３はコントローラ６０が行う処理手順を示すフローチャートである。図３に示すように、本実施例の食器洗浄機１０は、洗浄槽１４内に食器１９を収容した後に、スチーム工程Ｓ２、洗浄工程Ｓ４、すすぎ工程Ｓ６、乾燥工程Ｓ８を順に実施して、洗浄槽１４内の食器１９を洗浄する。スチーム工程Ｓ２については、後に詳述する。洗浄工程Ｓ４では、洗浄槽１４内の洗浄水をポンプ２７によって吸引し、吸引した洗浄水を洗浄ノズル２１から食器１９に噴射し、食器１９を洗浄する。すすぎ工程Ｓ６では、洗浄槽１４の排水と給水を繰り返しながら、洗浄槽１４内の水をポンプ２７によって吸引し、吸引した水を洗浄ノズル２１から食器１９に噴射し、食器１９をすすぐ。乾燥工程Ｓ８では、乾燥ファン５２を駆動しつつヒータ３０による加熱を行い、洗浄槽１４内に温風を送り込んで食器１９を乾燥させる。

図４はスチーム工程Ｓ２におけるコントローラ６０の処理の詳細を示すフローチャートである。

ステップＳ１２では、給水弁４１を開いて、給水源からの給水を開始する。スチーム発生装置６５の本体部７０の内部へ水が流れ込み、本体部７０内の水位が上昇していく。本体部７０内の水位が規定水位を超えると、第３給水流路６６へ水が溢れ出て、洗浄槽１４にも水が供給される。洗浄槽１４へ供給された水は、水位検知器４５の水位室４６にも流入する。

ステップＳ１４では、水位スイッチ４９がオンになるまで待機する。給水によって、洗浄槽１４の水位とともに水位室４６の水位が上昇し、水位スイッチ４９がオンになると、ステップＳ１６で給水弁４１を閉じる。水位スイッチ４９がオンに切換った時点では、洗浄槽１４内の水位は水位スイッチ４９に対応する水位にまで達しており、スチーム発生装置６５の本体部７０内の水位は規定水位にまで達している。

ステップＳ１８では、スチームヒータ８０への通電を開始する。これによって、スチーム発生装置６５の本体部７０の内部の水が加熱されて、本体部７０内の水温が上昇していく。

ステップＳ２０では、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達したか否かを判断する。図５はスチーム発生装置６５において、規定水位まで貯められた水をスチームヒータ８０で加熱した場合の、スチームサーミスタ８２の検出温度の履歴を示している。本実施例のスチーム発生装置６５では、本体部７０内で発生した水蒸気は小口径のノズル６７を介して洗浄槽１４へ導入されるため、高温の水蒸気の発生によって本体部７０内の気圧が上昇し、本体部７０の内部の水の沸点は１００℃よりも高温となる。従って、本体部７０内の水が沸騰するよりも早くスチームサーミスタ８２の検出温度は１００℃を超えることになる。

ステップＳ２０でスチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に満たない場合（ＮＯの場合）、処理はステップＳ２２へ進む。ステップＳ２２では、スチームヒータ８０への通電を開始してからの経過時間が５分に達したか否かを判断する。

ステップＳ２２で経過時間が５分に満たない場合（ＮＯの場合）には、処理はステップＳ２０へ戻り、再びスチームサーミスタ８２の検出温度の判定を行う。

ステップＳ２２で経過時間が５分を超えた場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ２６で操作パネル１６を通じて利用者に異常を報知し、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程を終了する。

スチーム発生装置６５は、本体部７０内に規定水位まで貯められた水を５分以内に全て蒸発させるように設計されているので、本来であれば、スチームヒータ８０への通電を開始してから、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達することなく、５分が経過してしまうことはない。しかしながら、スチームヒータ８０の故障によって、加熱能力が不足し、本体部７０も内部に蓄えられた水も十分に加熱されないまま、５分が経過してしまう場合がある。また、スチームヒータ８０が正常に動作し、本体部７０もその内部に蓄えられた水も十分に加熱されているにも関わらず、スチームサーミスタ８２の故障によって、温度が低く検出されて、検出温度が１００℃に達しない場合もある。本実施例の食器洗浄機１０では、いずれの場合についても、スチームヒータ８０への通電開始から５分が経過した時点で、利用者に異常を報知して、強制的に洗浄工程Ｓ４へと移行する。その後、洗浄工程Ｓ４、すすぎ工程Ｓ６、乾燥工程Ｓ８を順に実施して、食器洗浄機１０は運転を終了する。

ステップＳ２０でスチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃を超える（ＹＥＳとなる）と、ステップＳ２４で１分間待機した後、ステップＳ２８へ進む。図５に示すように、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達すると、１分も経たずに本体部７０の内部の水が沸騰し始め、スチームサーミスタ８２の検出温度は安定する（図中のＷ１参照）。従って、ステップＳ２４で１分間待機することで、これ以降のスチームサーミスタ８２の検出温度が安定する。

ステップＳ２８では、スチームサーミスタ８２の検出温度を基準温度としてメモリ６０ｂに記憶する。

ステップＳ３０では、スチームサーミスタ８２の検出温度が、５秒間継続して基準温度を下回るか否かを判断する。図５のＷ１に示すように、本体部７０内に十分な量の水がまだ残っており、水が沸騰を続けている間は、スチームサーミスタ８２の検出温度は下がることなく安定している。この場合、スチームサーミスタ８２の検出温度が５秒間継続して基準温度を下回ることがない。しかしながら、図５のＷ２に示すように、本体部７０内の水が全て蒸発しきる直前には、サーミスタの検出温度がわずかに低下する期間が存在する。この期間は３０秒程度の長さにわたっており、最大で５℃程度の検出温度の低下をもたらす。この検出温度の低下は、スチームサーミスタ８２の温度検知部８３が本体部７０の内側底面より高い位置にあることにより、本体部７０内の水位が温度検知部８３よりも低くなり、本体部７０内の水が蒸発する際の気化熱を始めとする温度検知部８３近傍での熱収支に変化が生じるためと考えられる。この場合、スチームサーミスタ８２の検出温度は５秒間継続して基準温度を下回ることになる。なお、図５のＷ３は本体部７０内の水が全て蒸発しきった後もスチームヒータ８０への通電を継続した場合（いわゆる空だきを行った場合）のスチームサーミスタ８２の検出温度を示している。本実施例の食器洗浄機１０では、本体部７０内の水が全て蒸発しきってからもスチームヒータ８０への通電を継続することはないので、実際にはＷ３に示すような検出温度の履歴を示すことはない。

ステップＳ３０でスチームサーミスタ８２の検出温度が５秒間継続して基準温度を下回った場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程Ｓ２を終了する。そうでない場合（ＮＯの場合）には、ステップＳ３２へ進む。

ステップＳ３２では、スチームヒータ８０への通電を開始してからの経過時間が５分に達したか否かを判断する。経過時間が５分に達していない場合（ＮＯの場合）には、ステップＳ３０へ戻り、再びスチームサーミスタ８２の検出温度の判定を行う。経過時間が５分に達した場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程Ｓ２を終了する。

なお上述の一連の処理の間に、スチーム発生装置６５のバイメタルスイッチ８４がオフに切換わると、割り込み処理によって、コントローラ６０が行う処理はステップＳ２６へと強制的に移行し、ステップＳ２６で利用者に異常を報知して、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了した後、スチーム工程Ｓ２を終了する。

スチーム工程Ｓ２が終了した時点においては、洗浄槽１４内にはすでに水位スイッチ４９に対応する水位の給水がなされている。図２の洗浄工程Ｓ４では、この水を利用して食器の洗浄を行う。

本実施例の食器洗浄機１０では、スチームサーミスタ８２の検出温度が基準温度を５秒間下回った場合に、スチームヒータ８０への通電を終了する。このような検出温度の低下は、本体部７０内の水が全て蒸発しきる直前に見られるものであり、本体部７０内の水が全て蒸発した後に生じるものではない。従って、コントローラ６０による制御に遅延が生じた場合であっても、早い段階でスチームヒータ８０への通電を終了することができ、本体部７０を空だきの状態で長期間加熱してしまうことがない。本体部７０や蓋部７２が過熱されることによるフッ素コーティングの損傷を防ぐことができる。また、スチーム発生装置６５が過熱されることによる周囲の樹脂製部品の損傷を防ぐことができる。

また、本実施例の食器洗浄機１０では、本体部７０内の水が全て蒸発しきる直前までは、スチームヒータ８０による加熱を継続している。従って、必要な量の水蒸気を速やかに発生させることができる。

本実施例の食器洗浄機１０では、スチームヒータ８０への通電を行っている際に、本体部７０内の水が沸騰していてスチームサーミスタ８２の検出温度が安定しているときの検出温度を、基準温度として設定している。本体部７０内の水が沸騰しているときのスチームサーミスタ８２の検出温度は、スチーム発生装置６５から洗浄槽１４へ水蒸気を送り出すノズル６７の閉塞状況など、種々の要因に応じて異なる温度で安定する場合がある。本実施例の食器洗浄機１０によれば、スチームヒータ８０への通電を行っている際に、スチームサーミスタ８２の検出温度がどのような温度で安定した場合でも、スチームサーミスタ８２の検出温度の低下を確実に検出し、スチーム発生装置６５の空だきを防止することができる。

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。

実施例の食器洗浄機の断面模式図。 実施例のスチーム発生装置の断面模式図。 実施例の食器洗浄機の全工程を示すフローチャート。 実施例のスチーム工程を示すフローチャート。 実施例のスチームサーミスタの検出温度の履歴を示す図。

符号の説明

１０ 食器洗浄機
１１ 第１吐出口
１２ 本体
１４ 洗浄槽
１５ 扉
１６ 操作パネル
１７ 残菜フィルタ
１８ 排気経路
１９ 食器
２１ 洗浄ノズル
２１ａ 噴射口
２７ ポンプ
２８ インペラ
３０ ヒータ
３１ 吸込凹部
３２ 吸込流路
３３ 後方壁
３４ 排水ホース
３５ 第２吐出口
３６ 排水流路
３８ 排水逆止弁
３９ 底面
４０ 給水ホース
４１ 給水弁
４２ 第１給水流路
４３ 第２給水流路
４５ 水位検知器
４６ 水位室
４７ フロート
４８ バー
４９ 水位スイッチ
５０ 水位経路
５１ 後方壁
５２ 乾燥ファン
５３ ファン
５５ サーミスタ
５６ シール蓋
５７ 底面
５８ 凹部
５９ 水漏れ検知センサ
６０ コントローラ
６０ｂ メモリ
６１ 食器カゴ
６３ 吸気経路
６５ スチーム発生装置
６６ 第３給水流路
６７ ノズル
７０ 本体部
７２ 蓋部
７４ シールパッキン
７６ 給水口
７７ 出水管
７８ 出水口
７９ 開口部
８０ スチームヒータ
８２ スチームサーミスタ
８３ 温度検知部
８４ バイメタルスイッチ

Claims (2)

1. 食器を収容する洗浄槽に水蒸気を供給するスチーム発生装置を備える食器洗浄機であって、
   そのスチーム発生装置が、
   内部に水を貯める本体部と、
   本体部内に貯められた水を加熱するヒータと、
   本体部の底部に配置されたサーミスタを備えており、
   そのスチーム発生装置が、ヒータの加熱によって本体部内に貯められた水を蒸発させて水蒸気を発生させるものであり、
   そのサーミスタの温度検知部が、本体部の内側底面より高い位置にあり、
   そのスチーム発生装置が、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が低下すると、ヒータの加熱を停止する食器洗浄機。
2. ヒータで加熱している際の、安定しているときのサーミスタの検出温度を基準温度として設定し、
   スチーム発生装置が、ヒータで加熱している際に、サーミスタの検出温度が基準温度を下回ると、ヒータの加熱を停止する請求項１の食器洗浄機。

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