JP4707243B2 - 液晶表示素子用電極基板の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子用電極基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4707243B2 JP4707243B2 JP2001017158A JP2001017158A JP4707243B2 JP 4707243 B2 JP4707243 B2 JP 4707243B2 JP 2001017158 A JP2001017158 A JP 2001017158A JP 2001017158 A JP2001017158 A JP 2001017158A JP 4707243 B2 JP4707243 B2 JP 4707243B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- display element
- layer
- electrode substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子用電極基板の製造方法に関するものであり、特に対向配置された1対の電極基板の間に形成されるギャップを所定寸法に維持するためのスペーサを備えたシート状の電極基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、各種電子機器において液晶表示素子を用いた液晶表示装置が用いられている。液晶表示素子では、それぞれ片面に電極を形成した2枚の基板の間に液晶層を挟持しており、少なくとも一方の基板の電極をパターン状に形成し、また少なくとも一方の基板を電極を含めて透明なものとし、表示画素に対応する領域ごとに1対の基板上電極で液晶層の所要領域に所要の電圧を印加することで、表示を行っている。1対の基板の電極を互いに直交する方向のストライプ状に形成し、各基板上で多数のストライプ状電極を互いに並列に配置することで、所要の表示画素に対応する1対の電極を選択して表示を行うことも可能である。
【0003】
このような液晶表示素子において、近年、軽量化のため及びその際の基板薄型化に伴う破損の危険性の低減のために、ITOなどの金属酸化物からなる電極を担持する基材として従来のガラス板に代えてプラスチック材料からなるシート基材が利用されている。
【0004】
ところで、以上のようにプラスチックシート基材上に無機材料からなる電極を形成した基板は、シート基材上に直接ITOなどの透明導電膜をスパッタ法などで形成すると、成膜時の熱の影響を受けて、良好な性能のものが得られない。
【0005】
そこで、透明導電膜を形成する際には、ガラス基板などの剛性の高いものの表面に剥離層を介して形成し、その上に接着剤を塗布し、以上のようにしてガラス基板上に形成された転写体を所要のプラスチックシート基材の表面に上記転写体の接着剤により接合し、該接着剤を常温で硬化させ、然る後に転写体をシート基材と一体的にガラス基板から剥離することで、プラスチックシート基材上に接着剤層により固着された透明導電膜からなる電極薄膜を有するプラスチックシートを形成する。
【0006】
これによれば、プラスチックシート基材上に良好な性能(例えば低抵抗)の電極薄膜を形成することができる。
【0007】
また、カラー表示用の液晶表示素子の場合には、シート基材上に電極薄膜に加えてカラーフィルタも形成される。以上のような転写法で液晶表示素子用電極基板を製造する場合には、ガラス基板上に転写体を形成する際に該転写体中にカラーフィルタをも作り込む。
【0008】
以上のような電極基板の製造方法については、例えば、特開2000−47023号公報に記載がある。
【0009】
一方、液晶表示素子において、1対の基板により挟持される液晶層の厚さを所望値に維持し、且つ、液晶層の厚さを表示面全体にわたって均一に維持するために、1対の基板の間隔を所定値に維持するためのスペーサと呼ばれる手段が用いられている。このスペーサとしては、例えば、所望粒径の多数の粒子を適度の分布密度になるように分散配置したものが用いられている。
【0010】
しかし、この粒子は表示画素に対応する領域内にも配置されるため、粒子による光散乱が発生し表示画像の品質を劣化させることがあった。また、粒子の分散を均一にすることは難かしく、時として粒子凝集が生じたりして表示画像の品質を劣化させることがあった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、近年、液晶表示素子のスペーサとして、対をなす基板のうちの一方に、対向配置される他の基板の表面に当接させるための柱状突起を形成することが行われている。この柱状のスペーサは、表示画素に対応する領域以外の領域例えば隣接画素間の領域または隣接電極間の領域に配置されている。これによれば、表示画像の品質を向上させることが可能である。
【0012】
このような柱状スペーサを備えた電極基板の製法は、例えば、特開2000−258617号公報に記載されている。しかしながら、この公報に記載の製法では、基材としてガラスが用いられており、直接加熱下で電極の形成を行っている。従って、この方法は、上記プラスチックシート基材を用いる場合には適用することができない。
【0013】
一方、特開2000−56122号公報には、転写法を用いた電極基板の製法が記載されている。
【0014】
しかし、この製法では、転写工程終了後に電極を形成しており、このため、基材としてプラスチックを用いることは困難であり、更に、スペーサと電極との正確な位置関係の設定に難点がある。特に、画素寸法の高精細化が要求される場合には、スペーサと電極とに所要の位置関係からのずれが生じやすく、このため表示画像品質の一層の向上は困難である。
【0015】
そこで、本発明は、以上のような従来の液晶表示装置用電極基板の製造における難点を解消し、プラスチックシート基材の使用が可能であって、電極とスペーサとの高精度の位置決めが可能で、表示画素の微細化に際しても良好な表示性能を可能ならしめる液晶表示素子用電極基板の製造方法を提供することを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、以上の如き目的を達成するものとして、
液晶表示素子の対をなす電極基板の間に介在せしめられる液晶層の厚さを設定するためのスペーサを備えた液晶表示素子用電極基板を製造する方法であって、
支持基板上に第1剥離層を形成し、その上に無機材料層を形成し、該無機材料層をパターニングして無機材料パターンを形成し、その上に第2剥離層を形成し、その上に導電膜を形成し、該導電膜をパターニングして電極パターンを形成し、その上に接着剤層を形成することで、前記支持基板上に転写体を得、
該転写体の接着剤層にシート基材を貼合し、前記転写体から前記支持基板を剥離し、
前記第1剥離層を除去し、次いで前記無機材料パターンをマスクとして前記第2剥離層の前記無機材料パターン下の第1部分を除く第2部分を除去することで、前記無機材料パターンと前記第2剥離層の第1部分とを含んでなるスペーサを形成することを特徴とする、液晶表示素子用電極基板の製造方法、
が提供される。
【0017】
本発明の一態様においては、前記転写体の形成に際して、前記接着剤層の形成の前に保護層を形成し、該保護層上に前記接着剤層を形成する。本発明の一態様においては、前記第2剥離層は着色剤を含んでいる。本発明の一態様においては、前記転写体の形成に際して、前記保護層上に前記電極パターンに対応するようにカラーフィルタパターンを形成し、該カラーフィルタパターンを覆うように前記接着剤層を形成する。本発明の一態様においては、前記スペーサを形成した後に、ポリイミド系樹脂からなる表面保護膜を形成する。なお、表面保護膜は、配向膜としての機能と保護膜としての機能とを兼ねることができる。
【0018】
本発明の一態様においては、前記第1剥離層としてポリイミド系樹脂からなるものを形成する。本発明の一態様においては、前記第2剥離層としてアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂からなるものを形成する。本発明の一態様においては、前記無機材料層として酸化シリコンからなるものを形成する。本発明の一態様においては、前記導電膜としてITOからなるものを形成する。
【0019】
本発明の一態様においては、前記シート基材としてプラスチックシートを使用する。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
【0021】
図1〜図7は、本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【0022】
先ず、図1に示すように、耐熱性を有する転写のための支持基板2として、例えば一辺が300mm〜1000mmの四角形の、シリカコートされたガラス板を用意する。そして、転写のための第1剥離層4を形成するための塗布材料として、例えばピロメリット酸無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとを反応させて生成したポリイミド前駆体ワニス(ジメチルアセトアミド溶液、固形分比10%)にシランカップリング剤KBM−573(信越シリコン(株)製)を0.05wt%(固形分比)添加したものを準備する。その後、支持基板2上に上記の塗布材料をスピンコーターを用いて塗膜に形成する。この塗膜を、例えばホットプレートを用いて260℃、10分の条件で加熱、脱水閉環し、ポリイミドからなる第1剥離層4を形成する。第1剥離層4の厚さは、例えば0.1〜5μmである。
【0023】
その上に、色がついた無機材料層を形成し、これを所望のスペーサパターンと同等にパターニングして無機材料パターン6を形成する。無機材料層は、形成の際に着色されるものが好ましく、例えば蒸着法またはスパッタ法により形成されたSiO2 膜は多少黄色がかっており、望ましい。また、CVD法により形成されたSiO2 膜は、無色であるが、無機材料層として利用することができる。あるいは、無機材料層としては、例えばテトラアルコキシシランを主成分とする塗布剤OCD T−2(東京応化工業(株)製)またはNHC MT−201(日産化学工業(株)製)に着色剤を少量混合したものを用いてゾルゲル法により形成されたSiO2 膜も利用することができる。無機材料パターン6の厚さは、例えば0.01〜0.5μmである。尚、この無機材料パターン6の形成のためのパターニングの際に、後工程で検出しやすいアライメントのために、上述した色がついたSiO2 膜からなるアライメントマーク(図示されていない)を付しておくのが好ましい。
【0024】
次に、図2に示すように、以上のようにして得られた積層体の上に、第2剥離層8を形成する。第2剥離層8は、例えばSS−6917(JSR(株)製)などのアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂からなる塗布材料をスピンコーターを用いて塗膜に形成することで得られる。第2剥離層8の厚さは、例えば1〜10μmである。
【0025】
次に、図3に示すように、第2剥離層8の上に、例えばスパッタ法により230℃の基板温度でSiO2 を15nm、次いでITO(indium tin oxide)を150nmの膜厚で成膜して、導電膜を形成する。フォトリソグラフィー法により、レジスト膜を形成しパターニングして得られるレジストパターンをマスクとして用いて、エッチングにより導電膜を所望パターンにパターニングして、透明電極パターン10を形成する。この透明電極パターン10を形成するパターニングの際に、上記のアライメントマークを基準とすることができ、これにより無機材料パターン6と透明電極パターン10との位置関係を十分高い精度で設定することができる。位置関係の具体例については後述する。
【0026】
尚、透明導電膜としては、酸化スズ、酸化亜鉛なども例示されるが、特にITOが好ましい。透明導電膜の厚さは、例えば0.1〜0.4μmの範囲である。
【0027】
次に、図4に示すように、以上のようにして得られた積層体の上に、アクリル系樹脂またはポリイミド系樹脂(ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物と3,3’−ジアミノジフェニルスルホンとを用いて得られるもの)からなる塗布剤をスピンコートして保護層12を形成する。該保護層12の厚さは、例えば0.5〜5μmである。その上に、光硬化型接着剤例えばアクリル系紫外線硬化型接着剤やKR−400(旭電化(株)製)などのエポキシ系紫外線硬化型接着剤をロールコート、スピンコートまたはスプレーコートなどにより塗布して、未硬化接着剤層14を形成する。該接着剤層14の厚さは、例えば3〜10μmである。尚、場合によっては、保護層12の形成を省略してもよい。
【0028】
以上により、第1剥離層4、無機材料パターン6、第2剥離層8、透明電極パターン10、保護層12及び未硬化接着剤層14からなる転写体20が転写支持基板2上に完成する。
【0029】
次に、転写体20をプラスチックシート基材に転写する。即ち、図5に示すように、転写体20の接着剤層14に例えばポリカーボネート樹脂からなるシート基材22を貼合する。そして、基材22側から、例えば高圧水銀灯により波長365nmで3000mJ/cm2 のUV(紫外線)照射を行い、光硬化型樹脂である接着剤層14を硬化させることで、プラスチックシート基材22を転写体20に接合する。
【0030】
シート基材22としては、ポリカーボネートの他に、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリイミド等を用いることができる。シート基材22の厚さは、例えば100〜400μmの範囲である。このように、本発明でいうシート基材はフィルムをも含むものである。
【0031】
次に、プラスチックシート基材22の一端を例えば直径200mmのロールに固定し、このロールを回転させながらシート基材22を引っぱる。このとき、転写体20の第1剥離層4と支持基板2との界面で剥離が発生して、転写体20が、支持基板2からシート基材22の側に転写される。これにより、図6に示す積層体が得られる。
【0032】
次に、該積層体に対して、例えばO2 +CF4 を用いたドライエッチングを行って、第1剥離層4を除去し、更に無機材料パターン6をマスクとしてドライエッチングを継続して第2剥離層8の露出部分(即ち無機材料パターン6の下の部分を除く部分)を除去する。これにより、図7に示すように、無機材料パターン6とその下の第2剥離層8とからなる柱状のスペーサSPが形成される。更に、その上に、配向膜となる表面保護膜24を形成することができる。該表面保護膜24は、例えばポリイミド系樹脂からなり、その厚さは、スペーサの柱状を残すような厚さであり、例えば0.1μm以下である。
【0033】
図8は、以上のようにして得られたスペーサSPを備えた電極基板におけるスペーサSPのパターンと電極パターン10との位置関係を示す模式的平面図である。電極パターン10はストライプ状をなしており、互いに平行に配列されている。隣接する電極パターン10の間の線状領域において、その長手方向に沿って所定のピッチPでスペーサSPがとびとびに配列されている。隣接する2つの電極パターン間線状領域ではスペーサSPの配置が千鳥調とされており、これによりスペーサSPの均等な分布が得られる。スペーサSPの配列ピッチPに対する長さLの比は、例えば1/10〜1である。尚、スペーサSPは、隣接電極パターン間の領域に配置されるので、これに染料や顔料などの着色剤を添加しておくことで、いわゆるブラックマトリックスとしての機能を発揮させることができる。この機能は、配列ピッチPに対する長さLの比が大きくなるほど、顕著なものとなる。スペーサSPへの着色剤の添加は、第2剥離層8に着色剤を含ませることで実現することができる。着色剤としては、例えば耐熱性の高い油溶性のアゾ染料(ソルベントイエロー19,ソルベントイエロー21,ソルベントイエロー77,ソルベントイエロー83,ソルベントレッド122,ソルベントブラック123など)、アジン染料(ソルベントブルー49など)及びフタロシアニン染料(ソルベントブルー25など)などの単体もしくはこれらを混合したものが用いられる。
【0034】
以上のように、本実施形態では、転写体20を形成する際にスペーサSPとともに電極パターン10をも形成するので、スペーサSPと電極パターン10とのアライメントを高精度なものとすることができ、パターンの微細化にも十分に対応することができる。更に、転写体を形成する際に既にスペーサSPとともに電極パターン10をも形成してしまうので、転写体20が転写されるシート基材22には高い耐熱性が要求されず、プラスチックからなるシート基材22を使用することが可能となる。
【0035】
図9及び図10は、本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第2の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。本実施形態は、カラーフィルタパターンをも備えた電極基板を製造するものである。
【0036】
上記第1の実施形態と同様にして、図1〜図3に関し説明した工程を実行する。
【0037】
次に、図9に示すように、以上のようにして得られた積層体の上に、保護層12を形成する。該保護層12は、例えばアクリル系樹脂からなり、図4に関し説明したものと同様のものである。そして、保護層12上に、顔料分散タイプの感光性赤色レジストを塗布し、露光及び現像して、赤色画素部に赤色カラーフィルタRを形成する。次に、同様にして、顔料分散タイプの感光性緑色レジストを塗布し、露光及び現像して、緑色画素部に緑色カラーフィルタGを形成する。次に、同様にして、顔料分散タイプの感光性青色レジストを塗布し、露光及び現像して、青色画素部に青色カラーフィルタBを形成する。これにより、R,G,Bからなるカラーフィルタパターン18が形成される。カラーフィルタパターン18の厚さは、例えば0.2〜2.0μmである。このカラーフィルタパターン18を形成するパターニングの際に、上記のアライメントマークを基準とすることができ、これによりカラーフィルタパターン18を透明電極パターン10と正確に対応するように配置することができ、かくして無機材料パターン6と透明電極パターン10とカラーフィルタパターン18との位置関係を十分高い精度で設定することができる。
【0038】
その上に、第1の実施形態と同様にして、接着剤層14を形成する。
【0039】
以上により、第1剥離層4、無機材料パターン6、第2剥離層8、透明電極パターン10、保護層12、カラーフィルタパターン18及び未硬化接着剤層14からなる転写体20’が転写支持基板2上に完成する。
【0040】
次に、第1の実施形態と同様にして、図5〜図7に関し説明したと同様な工程を実行することにより、図10に示すように、無機材料パターン6とその下の第2剥離層とからなる柱状のスペーサSPが形成される。
【0041】
本実施形態においても、第1の実施形態と同等な作用効果を得ることができる。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、転写体を形成する際にスペーサとともに電極パターンをも形成してしまうので、スペーサと電極パターンとの高精度アライメントが可能で高精細パターンにも対応することができ、更に、転写体が転写されるシート基材としてプラスチックシート基材を使用することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図2】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図3】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図4】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図5】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図6】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図7】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図8】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第1の実施形態におけるスペーサパターンと電極パターンとの位置関係を示す模式的平面図である。
【図9】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第2の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【図10】本発明による液晶表示素子用電極基板の製造方法の第2の実施形態の製造工程を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
2 支持基板
4 第1剥離層
6 無機材料パターン
8 第2剥離層
10 透明電極パターン
12 保護層
14 接着剤層
18 カラーフィルタパターン
20,20’ 転写体
22 プラスチックシート基材
24 表面保護膜
SP スペーサ
Claims (10)
- 液晶表示素子の液晶層の厚さを設定するためのスペーサを備えた液晶表示素子用電極基板を製造する方法であって、
支持基板上に第1剥離層を形成し、その上に無機材料層を形成し、該無機材料層をパターニングして無機材料パターンを形成し、その上に第2剥離層を形成し、その上に導電膜を形成し、該導電膜をパターニングして電極パターンを形成し、その上に接着剤層を形成することで、前記支持基板上に転写体を得、
該転写体の接着剤層にシート基材を貼合し、前記転写体から前記支持基板を剥離し、
前記第1剥離層を除去し、次いで前記無機材料パターンをマスクとして前記第2剥離層の前記無機材料パターン下の第1部分を除く第2部分を除去することで、前記無機材料パターンと前記第2剥離層の第1部分とを含んでなるスペーサを形成することを特徴とする、液晶表示素子用電極基板の製造方法。 - 前記転写体の形成に際して、前記接着剤層の形成の前に保護層を形成し、該保護層上に前記接着剤層を形成することを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記第2剥離層は着色剤を含んでいることを特徴とする、請求項1〜2のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記転写体の形成に際して、前記保護層上に前記電極パターンに対応するようにカラーフィルタパターンを形成し、該カラーフィルタパターンを覆うように前記接着剤層を形成することを特徴とする、請求項2に記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記スペーサを形成した後に、表面保護膜を形成することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記第1剥離層としてポリイミド系樹脂からなるものを形成することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記第2剥離層としてアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂からなるものを形成することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記無機材料層として酸化シリコンからなるものを形成することを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記導電膜としてITOからなるものを形成することを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
- 前記シート基材としてプラスチックシートを使用することを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の液晶表示素子用電極基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001017158A JP4707243B2 (ja) | 2001-01-25 | 2001-01-25 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001017158A JP4707243B2 (ja) | 2001-01-25 | 2001-01-25 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002221731A JP2002221731A (ja) | 2002-08-09 |
JP4707243B2 true JP4707243B2 (ja) | 2011-06-22 |
Family
ID=18883403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001017158A Expired - Fee Related JP4707243B2 (ja) | 2001-01-25 | 2001-01-25 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4707243B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4606767B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2011-01-05 | 共同印刷株式会社 | 表示装置用素子基板の製造方法 |
JP4606824B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2011-01-05 | 共同印刷株式会社 | 有機elディスプレイの製造方法 |
JP4846265B2 (ja) * | 2005-05-13 | 2011-12-28 | 共同印刷株式会社 | 表示装置用素子基板及びその製造方法 |
JP4647434B2 (ja) * | 2005-08-25 | 2011-03-09 | 共同印刷株式会社 | 液晶表示装置用電極基板とその製造方法及び液晶表示装置 |
US8455872B2 (en) * | 2008-12-05 | 2013-06-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electronic devices having plastic substrates |
KR20120073267A (ko) * | 2009-09-04 | 2012-07-04 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 기판의 제조 방법 및 그것에 이용되는 조성물 |
JP2017013247A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 凸版印刷株式会社 | 電極剥離フィルム、電極付きカラーフィルタ基板、およびこれらの製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61235814A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Canon Inc | 液晶素子の製法 |
JPH08106099A (ja) * | 1994-10-06 | 1996-04-23 | Sony Corp | 液晶素子及びその製造方法 |
JPH08220330A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JPH1124081A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-29 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 光学要素および積層体転写シート |
JP2000056122A (ja) * | 1998-08-04 | 2000-02-25 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2000193983A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Toray Ind Inc | スペ―サ―用樹脂組成物、液晶表示装置用基板および液晶表示装置 |
JP3909791B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2007-04-25 | 共同印刷株式会社 | 透明導電膜の転写方法 |
JP2001235754A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
-
2001
- 2001-01-25 JP JP2001017158A patent/JP4707243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002221731A (ja) | 2002-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6275280B1 (en) | LCD with spacers having particular characteristics including compression stress | |
US7929081B2 (en) | Method for fabricating color filter substrate for a liquid crystal display device with color filter having polarizing function | |
JPH11248921A (ja) | カラーフィルター及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP2009104182A (ja) | 薄膜パターニング装置、及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法 | |
JP2007233059A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2000147234A (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JP4707243B2 (ja) | 液晶表示素子用電極基板の製造方法 | |
JP2002341332A (ja) | カラーフィルター及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP2007206352A (ja) | 液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP4889209B2 (ja) | カラーフィルタ基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置 | |
JPH10123315A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JP2002006132A (ja) | カラーフィルター、その製造方法、および、液晶表示装置 | |
CN110275332A (zh) | 显示面板 | |
JP2002350833A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2002350886A (ja) | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 | |
CN110908198A (zh) | 薄膜晶体管液晶显示器 | |
JP4810713B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP2002333630A (ja) | カラーフィルターおよびカラー液晶表示素子 | |
JPH06130218A (ja) | カラ−フィルタおよび液晶表示装置 | |
JP3188288B2 (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示パネル | |
KR100494606B1 (ko) | 칼라 필터 및 액정 표시 장치 | |
JP2018128669A (ja) | 偏光板、偏光板の作製方法及び表示装置 | |
JPH11311795A (ja) | 液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP3248734B2 (ja) | カラーフィルターおよびその製造方法 | |
JP4253892B2 (ja) | 液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080109 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110222 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110315 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |