JP2002350886A - 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置

Info

Publication number
JP2002350886A
JP2002350886A JP2001158440A JP2001158440A JP2002350886A JP 2002350886 A JP2002350886 A JP 2002350886A JP 2001158440 A JP2001158440 A JP 2001158440A JP 2001158440 A JP2001158440 A JP 2001158440A JP 2002350886 A JP2002350886 A JP 2002350886A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
active element
color filter
liquid crystal
film
switching active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001158440A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Doi
崇 土井
Hideki Matsukawa
秀樹 松川
Yoshio Taniguchi
由雄 谷口
Masanori Yoshida
正典 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001158440A priority Critical patent/JP2002350886A/ja
Publication of JP2002350886A publication Critical patent/JP2002350886A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーフィルタオンTFTアレイ型液晶パネ
ルのスイッチング能動素子と画素電極の導通を確保し、
高性能なカラーフィルタオンTFTアレイ基板を製造す
る。 【解決手段】 スイッチング能動素子5とスイッチング
能動素子保護膜7が形成されたTFTアレイ基板9上
に、コンタクト部位6’を形成しながらカラーフィルタ
膜11を形成する。その後、パターニングされたエッチ
ングレジスト10を用いてスイッチング能動素子保護膜
7をドライエッチングしコンタクト部位6を形成する。
その後、カラーフィルタ膜11上に画素電極1を形成し
スイッチング能動素子5との導通をとる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法および液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、大型モニター、テレビ用途等、従
来CRTが使用されていたデバイス分野への液晶の応用
展開に伴い、液晶表示装置には更なる性能向上が要求さ
れている。特に、レントゲン写真表示等の医療用途、イ
ンターネット商取引への液晶パネルの応用展開に際し、
高輝度、高精細液晶パネルが要求されている。このよう
な背景の元、画素電極を駆動するためのスイッチング能
動素子が形成されたTFTアレイ基板上にカラーフィル
タパターンを形成するカラーフィルタオンTFTアレイ
型液晶表示装置の開発が行なわれている。
【0003】このような画素電極を駆動するためのスイ
ッチング能動素子が形成されたTFTアレイ基板上にカ
ラーフィルタ膜を形成し、カラーフィルタ膜上に画素電
極を形成しコンタクト部位を介してスイッチング能動素
子と導通を取るカラーフィルタオンTFTアレイ型液晶
表示装置の従来の製造方法を図3に示す。
【0004】スイッチング能動素子5と画素電極1との
コンタクト部位6を形成する際、図3(a)に示すように
TFTアレイ基板9上に詳しくは説明しないがエッチン
グレジスト10を塗布工程を経て形成し、次に図3(b)
に示すように露光工程を経てパターニングしベーク工程
を経た後、図3(c)に示すようにエッチング工程を経て
スイッチング能動素子5のコンタクト部位6を形成す
る。その後図3(d)に示すように詳しくは説明しないが
カラーフィルタ膜赤2(R)をTFTアレイ基板9上に
コンタクト部位6と同部位になるようコンタクト部位
6’を露光工程、現像工程、ベーク工程を経てパターニ
ングし順に緑2(G)、青2(B)、黒3(BM:遮光
層のブラックマトリクス)及びオーバーコート膜4(O
C)を形成し、図3(e)に示すようにTFTアレイ基板
上にカラーフィルタ膜11を形成した。その後図3
(f)に示すようにカラーフィルタ膜11上に画素電極
1を形成しスイッチング能動素子5との導通を取りカラ
ーフィルタオンTFTアレイ基板16を得る。
【0005】次に図4に示すようにカラーフィルタオン
TFTアレイ基板16とあらかじめガラス基板8にIT
Oからなる透明電極1を形成してある対向基板17との
表面に液晶材料を配向させるための配向膜13を形成し
た後、所定の間隙を保って貼り合せ、液晶材料を封入し
て液晶層15を形成した。更にカラーフィルタオンTF
Tアレイ基板16及び対向基板17のガラス基板8側に
偏光板18を貼ってカラーフィルタオンTFTアレイ型
液晶表示装置を得る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のカラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置の
製造方法では、スイッチング能動素子5と画素電極1の
導通をとるためのスイッチング能動素子コンタクト部位
6上にカラーフィルタの膜成分がカラーフィルタコンタ
クト部位6’形成完了時に残渣として固着し、スイッチ
ング能動素子5と画素電極1の導通が困難になり、液晶
表示性能不良を起こし歩留りの低下を招くという課題が
あった。
【0007】本発明の目的は、スイッチング能動素子と
画素電極の導通を良好にし、歩留りを向上できる液晶表
示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の液晶表示
装置の製造方法は、画素電極を駆動するためのスイッチ
ング能動素子およびそれを覆うスイッチング能動素子保
護膜を形成したアレイ基板上にカラーフィルタ膜を設
け、カラーフィルタ膜上にカラーフィルタ膜およびスイ
ッチング能動素子保護膜のコンタクト部位を介してスイ
ッチング能動素子と接続される画素電極を設けたカラー
フィルタオンアレイ基板を備えた液晶表示装置の製造方
法であって、カラーフィルタ膜およびスイッチング能動
素子保護膜のコンタクト部位は、カラーフィルタ膜のコ
ンタクト部位を形成し、その後スイッチング能動素子保
護膜のコンタクト部位をエッチングにより形成すること
を特徴とする。
【0009】請求項2記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項1記載の液晶表示装置の製造方法において、
カラーフィルタ膜とスイッチング能動素子保護膜のコン
タクト部位を形成するために用いるエッチングレジスト
とは感光性樹脂を用いて形成する事を特徴とする。
【0010】請求項3記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項1または2記載の液晶表示装置の製造方法に
おいて、スイッチング能動素子保護膜のコンタクト部位
を形成するために用いるエッチングレジストの膜厚はス
イッチング能動素子保護膜のエッチングレイトに合わせ
た膜厚とする事を特徴とする。
【0011】請求項4記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項1,2または3記載の液晶表示装置の製造方
法において、スイッチング能動素子保護膜のコンタクト
部位を形成するためのエッチングはスイッチング能動素
子保護膜に対しエッチング可能なガスを用いてドライエ
ッチング処理を行う事を特徴とする。
【0012】請求項5記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項1,2,3または4記載の液晶表示装置の製
造方法において、カラーフィルタ膜はフィルム転写工程
を経て形成する事を特徴とする。
【0013】請求項6記載の液晶表示装置は、請求項1
から5のいずれかの液晶表示装置の製造方法により製造
されたカラーフィルタオンアレイ基板と、カラーフィル
タオンアレイ基板との間に液晶を挟持する対向電極基板
とを備えている。
【0014】本発明によれば、スイッチング能動素子と
画素電極とを接続するためのカラーフィルタ膜およびス
イッチング能動素子保護膜のコンタクト部位を、カラー
フィルタ膜のコンタクト部位を先に形成し、その後スイ
ッチング能動素子保護膜のコンタクト部位をエッチング
により形成することにより、スイッチング能動素子と画
素電極の導通が容易になり高性能なカラーフィルタオン
アレイ基板を得る事ができ、高歩留りのカラーフィルタ
オンアレイ型液晶表示装置を製造することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態によ
る液晶表示装置の製造方法を説明する。図1は本実施の
形態の製造工程断面図を示す。
【0016】まず、図1(a)に示すように画素電極1を
駆動するためのスイッチング能動素子5が形成されたT
FTアレイ基板9上に、フィルム転写方式によりラミネ
ート工程、露光工程、現像工程、ベーク工程を経てコン
タクト部位6’を形成しながらカラーフィルタ膜11を
形成する。その後図1(b)に示すようにカラーフィルタ
膜11上にスピンコート方式によりエッチングレジスト
10を塗布工程を経て形成し、図1(c)に示すように露
光工程を経てエッチングレジスト10をパターニングし
ベーク工程を経た後、図1(d)に示すようにスイッチン
グ能動素子保護膜7をドライエッチングしコンタクト部
位6を形成する。その後、エッチングレジスト10を除
去した後、図1(e)に示すようにカラーフィルタ膜11
上に画素電極1を形成しスイッチング能動素子5との導
通をとる。これは良好な導通を示した。
【0017】次に図2に示すようにカラーフィルタオン
TFTアレイ基板16とあらかじめガラス基板8にIT
Oからなる透明電極を形成してある対向基板17との表
面に液晶材料を配向させるための配向膜13を形成した
後、所定のスペーサー14を用い間隙を保って貼り合
せ、液晶材料を封入して液晶層15を形成した。更にカ
ラーフィルタオンTFTアレイ基板16及び対向基板1
7のガラス基板8側に偏光板18を貼ってカラーフィル
タオンTFTアレイ型液晶表示装置を製造したところ高
性能な液晶表示性能を示し高い歩留りが得られた。
【0018】以上のように本実施の形態によれば、スイ
ッチング能動素子5と画素電極1とを接続するためのコ
ンタクト部位6、6’を形成する際に、カラーフィルタ
膜11のコンタクト部位6’を先に形成し、その後スイ
ッチング能動素子保護膜7をエッチングしてコンタクト
部位6を形成することにより、スイッチング能動素子5
と画素電極1の導通が容易になり、コンタクト抵抗値が
低く良好な導通を持った高性能なカラーフィルタオンT
FTアレイ基板16を得る事ができ、高歩留りのカラー
フィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置を得る事がで
きる。
【0019】また、本実施の形態ではカラーフィルタ膜
11の材料としてアクリル樹脂系のネガ型感光性材料を
用い、エッチングレジスト膜10の材料としてノボラッ
ク樹脂系のポジ型感光性材料を用いたが、これに限定さ
れない。すなわち、ポジ型、ネガ型あるいはアクリル樹
脂系、ノボラック樹脂系に限らず、すくなくとも露光プ
ロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂であれば
使用可能である。
【0020】また、本実施の形態ではコンタクト部位6
の形成にCF4 +O2 ガスを用いドライエッチを行った
が、これに限定されない。すなわち、O2、N2、He2
ガス等のスイッチング能動素子保護膜7に対しドライエ
ッチ可能なガスを用いてコンタクト部位6を形成しても
可能である。更にドライエッチに限らずスイッチング能
動素子保護膜7に対しエッチング可能な薬品を使用しウ
エットエッチングを用いてコンタクト部位6を形成して
も可能である。
【0021】また、本実施の形態ではカラーフィルタ膜
11の形成にフィルム転写方式を用い、エッチングレジ
スト膜の形成にスピンコート方式を用いたが、これに限
定されない。すなわち、ロールコート方式、スリット塗
布方式、スリットアンドスピン方式、インクジェット方
式、印刷方式に限らず成膜可能な方法で形成しても可能
である。
【0022】また、本実施の形態では球状のスペーサー
14を用いたが、柱スペーサー等の間隙を保てるもので
構成しても可能である。
【0023】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、スイッチ
ング能動素子と画素電極とを接続するためのカラーフィ
ルタ膜およびスイッチング能動素子保護膜のコンタクト
部位を、カラーフィルタ膜のコンタクト部位を先に形成
し、その後スイッチング能動素子保護膜のコンタクト部
位をエッチングにより形成することにより、スイッチン
グ能動素子と画素電極の導通が容易になりスイッチング
能動素子と画素電極のコンタクト抵抗値が低く良好な導
通を持った高性能なカラーフィルタオンアレイ基板を得
る事ができ、高歩留りのカラーフィルタオンアレイ型液
晶表示装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態におけるカラーフィルタオ
ンTFTアレイ基板の製造方法を示す工程断面図
【図2】本発明の実施の形態におけるカラーフィルタオ
ンTFTアレイ型液晶表示装置の断面図
【図3】従来のカラーフィルタオンTFTアレイ基板の
製造方法を示す工程断面図
【図4】従来のカラーフィルタオンTFTアレイ型液晶
表示装置の断面図
【符号の説明】
1 画素電極(ITO) 2 R,G,B膜 3 遮光層(BM) 4 オーバーコート膜 5 スイッチング能動素子 6,6’ コンタクト部位 7 スイッチング能動素子保護膜 8 ガラス基板 9 TFTアレイ基板 10 レジスト 11 カラーフィルタ膜 12 マスク 13 配向膜 14 スペーサー 15 液晶層 16 カラーフィルタオンTFTアレイ基板 17 対向基板 18 偏光板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B 9/35 9/35 H01L 21/336 H01L 29/78 616K 29/786 (72)発明者 谷口 由雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 吉田 正典 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA43 BA48 BB02 BB07 BB08 BB44 2H091 FA01Y FA08X FA08Z FA34Y FC26 FD06 GA03 GA13 GA16 LA12 LA15 2H092 HA04 JA24 JA46 JB57 KB24 KB26 MA10 MA12 MA17 NA15 PA08 PA09 5C094 AA21 AA42 BA03 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 DB04 EA04 EA07 EB02 EC03 ED03 ED14 FB12 FB15 5F110 AA26 BB01 HL07 HM18 NN05 NN27 NN32 NN72 QQ10

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画素電極を駆動するためのスイッチング
    能動素子およびそれを覆うスイッチング能動素子保護膜
    を形成したアレイ基板上にカラーフィルタ膜を設け、前
    記カラーフィルタ膜上に前記カラーフィルタ膜およびス
    イッチング能動素子保護膜のコンタクト部位を介して前
    記スイッチング能動素子と接続される前記画素電極を設
    けたカラーフィルタオンアレイ基板を備えた液晶表示装
    置の製造方法であって、 前記カラーフィルタ膜およびスイッチング能動素子保護
    膜のコンタクト部位は、前記カラーフィルタ膜のコンタ
    クト部位を形成し、その後前記スイッチング能動素子保
    護膜のコンタクト部位をエッチングにより形成すること
    を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 カラーフィルタ膜とスイッチング能動素
    子のコンタクト部位を形成するために用いるエッチング
    レジストとは感光性樹脂を用いて形成する事を特徴とす
    る請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 スイッチング能動素子のコンタクト部位
    を形成するために用いるエッチングレジストの膜厚はス
    イッチング能動素子保護膜のエッチングレイトに合わせ
    た膜厚とする事を特徴とする請求項1または2記載の液
    晶表示装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 スイッチング能動素子のコンタクト部位
    を形成するためのエッチングはスイッチング能動素子保
    護膜に対しエッチング可能なガスを用いてドライエッチ
    ング処理を行う事を特徴とする請求項1,2または3記
    載の液晶表示装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 カラーフィルタ膜はフィルム転写工程を
    経て形成する事を特徴とする請求項1,2,3または4
    記載の液晶表示装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1から5のいずれかの液晶表示装
    置の製造方法により製造されたカラーフィルタオンアレ
    イ基板と、前記カラーフィルタオンアレイ基板との間に
    液晶を挟持する対向電極基板とを備えた液晶表示装置。
JP2001158440A 2001-05-28 2001-05-28 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 Pending JP2002350886A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001158440A JP2002350886A (ja) 2001-05-28 2001-05-28 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001158440A JP2002350886A (ja) 2001-05-28 2001-05-28 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002350886A true JP2002350886A (ja) 2002-12-04

Family

ID=19002168

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001158440A Pending JP2002350886A (ja) 2001-05-28 2001-05-28 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002350886A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100458516C (zh) * 2003-03-28 2009-02-04 夏普株式会社 液晶显示装置用基板和使用它的液晶显示装置
US8598581B2 (en) 2008-07-25 2013-12-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor substrate and method for manufacturing the same
US9076691B2 (en) 2012-12-27 2015-07-07 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor array panel and method of manufacturing the same
US9690131B2 (en) 2014-12-15 2017-06-27 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US10054832B2 (en) 2014-10-27 2018-08-21 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US10761364B2 (en) 2017-08-18 2020-09-01 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US10976626B2 (en) 2019-06-14 2021-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha Display device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100458516C (zh) * 2003-03-28 2009-02-04 夏普株式会社 液晶显示装置用基板和使用它的液晶显示装置
US8598581B2 (en) 2008-07-25 2013-12-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor substrate and method for manufacturing the same
US9076691B2 (en) 2012-12-27 2015-07-07 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor array panel and method of manufacturing the same
US10054832B2 (en) 2014-10-27 2018-08-21 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US9690131B2 (en) 2014-12-15 2017-06-27 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US10761364B2 (en) 2017-08-18 2020-09-01 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US10976626B2 (en) 2019-06-14 2021-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7800717B2 (en) Liquid crystal display and electronic apparatus
JP2007233059A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
WO2018137343A1 (zh) 垂直取向模式显示面板及显示装置
JP2002350886A (ja) 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置
JP3210791B2 (ja) カラー液晶表示装置の製造方法
JP2002350887A (ja) 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置
JP2007206352A (ja) 液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法
JP2002350833A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
JP2000148043A (ja) 電極基板およびその製造方法ならびに液晶表示素子
JP3384964B2 (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
JPH06222370A (ja) 液晶パネルの製造方法
JP4707243B2 (ja) 液晶表示素子用電極基板の製造方法
KR20060070873A (ko) 액정표시장치와 그 제조방법
JP4647434B2 (ja) 液晶表示装置用電極基板とその製造方法及び液晶表示装置
JPH10221712A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2000162643A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
JP5034164B2 (ja) カラーフィルタ基板の製造方法及びカラー液晶ディスプレイパネル
JP2006330545A (ja) 段差付フォトマスク及びカラーフィルタ基板並びにその製造法
JP2001125086A (ja) ポリマーネットワーク型液晶表示装置の製造方法
JP4202588B2 (ja) 液晶表示装置及び液晶表示装置の電極基材
JPH06230211A (ja) カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ及びその駆動方法
JP2004149868A (ja) 多面付け透明電極用蒸着メタルマスク
JPH03167525A (ja) 電極基板の製造方法
JPH07318716A (ja) 光感応性着色樹脂フィルム、液晶電気光学装置及びその製造方法
JP2002333613A (ja) 液晶表示装置の製造方法および製造装置