JP4704701B2 - フロロカーボン被膜の製造方法、それを用いた工業材料又は工業製品並びに、その工業材料を用いた装置 - Google Patents
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Description
前記有機物は、前記基材表面にフッ素を含有しない有機物モノマーをガス状および/又はミスト状で付着させ、付着させたフッ素を含有しない有機物モノマーをラジカル重合させて、フッ素を含有しない重合した有機物ポリマーからなることを特徴とする接流体材料が得られる。
吸着させる有機物として、シクロオクタン(C8H16)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン被膜を形成した。反応容器6としての配管には評価用としてステンレス板の基材7を配置した。
吸着させる有機物としてテトラデカン(C14H30)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン被膜を形成した。反応容器6には評価用の基材7としてステンレス板を配置した。
吸着させる有機物としてn−エイコサン(n−C20H42)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン皮膜を形成した。反応容器6には評使用の基材7としてステンレス板を配置した。
吸着させる有機物としてn−トリアコンタン(n−C30H62)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン皮膜を形成した。反応容器6には評価用の基材7としてステンレス板を配管した。
吸着させる有機物としてn−テトラデカン(n−C14H30)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン皮膜を形成した。反応容器6には評価用の基材7としてステンレス板を配置した。
吸着させる有機物としてn−テトラデカン(n−C14H30)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン皮膜を形成した。反応容器6には評価用の基材7としてニッケル板を配置した。
吸着させる有機物としてn−テトラデカン(n−C14H30)を用いて、図1に示す装置10を用いてフロロカーボン皮膜を形成した。反応容器6には評価用の基材7としてステンレス板を配置した。
付着させる有機物モノマーとしてエチルヘキシルメタクリレート(以下HEMAと略す)を、開始剤として2,2´−アゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBNと略す)を用いて、図22に示す装置20を用いてフロロカーボン被膜を形成した。ステンレス配管の反応容器6の中には、評価用サンプルであるステンレス板の基材7を配置した。
付着させる有機物モノマーとしてn一ブチルメタクリレート(以下、BMAと略す)を、開始剤としてAIBNを用いて、例8と同様の反応を行った。
付着させる有機物モノマーとしてスチレン(以下、Stと略す)を、開始剤としてAIBNを用いて、例8と同様の反応を行った。
付着させる有機物モノマーとしてHEMAを、開始剤としてAIBNを用いて、例8と同様の反応を行った。
付着させる有機物モノマーとしてHEMAを、開始剤としてA1BNを用いて、例8と同様の反応を行った。
2 充填容器
3 有機物
3a 有機モノマー
3b 開始剤
4 ガス排出配管
5 フッ化ガス導入配管又はパージガス供給配管
6 反応容器
7 基材(フッ化不動態処理を行なったステンレス板もしくはステンレス板)
8 排気配管
10 装置
11 フロロカーボン被膜{(−CF2−)n}
12、55 脱気HF(界面活性剤入り)水溶液
21 重合フロロカーボン被膜{(−CF2−)n}
51 多孔質膜
52 溶存ガス成分(O2,N2など)
53 HF溶液側
54 真空排気側の排気管
56 HF(成分)水溶液
Claims (25)
- 基材表面に第1の有機物を付着させた後、フッ化ガスを流して前記第1の有機物をフッ化することで、前記基材表面にフロロカーボン被膜を形成することを含み、前記第1の有機物が炭化水素であり、前記第1の有機物は、前記基材表面にフッ素を含有しない有機物モノマーをガス状および/又はミスト状で付着させ、付着させたフッ素を含有しない有機物モノマーをラジカル重合させて、フッ素を含有しない重合した有機物ポリマーからなり、前記フロロカーボン被膜は、重合フロロカーボン被膜からなることを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項1に記載のフロロカーボン被膜の製造方法において、前記フロロカーボン被膜の形成後に、形成されたフロロカーボン上に第2の有機物を吸着させてフッ化ガスを流すことを一回行うか、または2回以上繰り返すことにより基材表面にフロロカーボン被膜を形成することを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項2に記載のフロロカーボン被膜の製造方法において、前記第2の有機物が炭化水素であることを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項1乃至3の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法において、前記フッ化ガスが、フッ素ガスであることを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項1乃至4の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法において、前記モノマーとしてラジカル重合性の高い有機物モノマーを使用する場合は、開始剤を付着させること無しにラジカル重合を行うことを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項1乃至5の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法において、前記基材が中空状の物体であり、前記表面が中空内の壁面であって、中空の入口から目視して見えない部分を含むことを特徴とするフロロカーボン被膜の製造方法。
- 請求項1乃至6の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法によって作製された前記フロロカーボン被膜を薬液貯蔵用装置、薬液配送用装置、又は薬液反応用装置である薬液用装置の接液部の一部に備えていることを特徴とする薬液用装置。
- 請求項1乃至6の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン品の製造方法によって作製された前記フロロカーボン被膜をガス貯蔵用装置、ガス配送用装置、又はガス反応用装置であるガス用装置の接ガス部の一部に備えていることを特徴とするガス用装置。
- 請求項1乃至6の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法によって作製された前記フロロカーボン被膜を備えていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1乃至6の内のいずれか一項に記載のフロロカーボン被膜の製造方法によって製造された前記フロロカーボン被膜を備えていることを特徴とするガス透過膜。
- 請求項10に記載のガス透過膜を使用した脱気モジュールまたはガス添加モジュールからなることを特徴とする気体操作用モジュール。
- 気体及び液体の少なくとも一方を含む流体に接触して使用される接流体材料において、基材と、前記基材表面に形成された炭化水素からなる有機物層と、前記有機物層の少なくとも表面に設けられたフロロカーボン層とを備え、前記フロロカーボン層は前記有機物層の表面をフッ化することによって形成され、前記有機物層は、重合炭化水素層からなり、前記フロロカーボン層は、重合フロロカーボン層からなり、前記有機物層は分子量が120から430(C原子数が10−30)の脂肪族炭化水素を含むことを特徴とする接流体材料。
- 基材表面の接流体部の少なくとも一部にフロロカーボン被膜を形成してなり、前記フロロカーボン被膜は、前記基材表面にフッ素を含有しない有機物モノマー及び有機物ポリマーの少なくとも一方からなる有機物を吸着させた後、その表面にフッ化ガスを流して前記有機物をフッ化して形成され、前記有機物は、前記基材表面にフッ素を含有しない有機物モノマーをガス状および/又はミスト状で付着させ、付着させたフッ素を含有しない有機物モノマーをラジカル重合させて、フッ素を含有しない重合した有機物ポリマーからなることを特徴とする接流体材料。
- 請求項13に記載の接流体材料において、前記基材表面に形成された前記フロロカーボン被膜の膜厚が1nm以上であることを特徴とする接流体材料。
- 請求項13又は14に記載の接流体材料において、前記フロロカーボン被膜は、重合フロロカーボン被膜からなることを特徴とする接流体材料。
- 請求項12乃至15の内のいずれか一項に記載の接流体材料において、前記基材が中空状の物体であり、前記表面が中空内の壁面であって、中空の入口から目視して見えない部分を含むことを特徴とする接流体材料。
- 請求項12乃至16の内のいずれか一項に記載の接流体材料を用いたことを特徴とする接流体製品。
- 薬液貯蔵用装置、薬液配送用装置、又は薬液反応用装置である薬液用装置の接液部の少なくとも一部に請求項12乃至16の内のいずれか一項に記載の接流体材料を使用したことを特徴とする薬液用装置。
- ガス貯蔵用装置、ガス配送用装置、又はガス反応用装置であるガス用装置の接ガス部の少なくとも一部に請求項12乃至16の内のいずれか一項に記載の接流体材料を使用したことを特徴とするガス用装置。
- 請求項12乃至16の内のいずれか一項に記載の接流体材料を使用したことを特徴とする半導体装置。
- 請求項12乃至16の内のいずれか一項に記載の接流体材料を使用したことを特徴とするガス透過膜。
- 請求項21の記載のガス透過膜を備えた脱気モジュールまたはガス添加モジュールからなることを特徴とする気体操作用モジュール。
- 請求項22記載の気体操作用モジュールにおいて、脱気あるいはガスを添加する溶液に純水、水素を含有する純水、オゾンを含有する純水、酸、アルカリもしくは有機物のうち少なくとも一種類を使用することを特徴とする気体操作用モジュール。
- 請求項22又は23に記載の気体操作用モジュールにおいて、前記気体操作用モジュールは脱気モジュールであり、ガスを脱気する溶液がフッ酸系反応液であることを特徴とする気体操作用モジュール。
- 請求項22乃至24の内のいずれか一項に記載の気体操作用モジュールにおいて、脱気する溶液の表面張力が72mN/m以下であることを特徴とする気体操作用モジュール。
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