JP4698233B2 - 履物の本底及び履物 - Google Patents

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本発明は、立ち仕事等で立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、また歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい履物の本底、及び該本底を備えた履物に関する。
立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、例えば高さ3cm以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴(以下、パンプス)のようなヒールの高い履物を着用すると、前足部よりも踵部が高いため、体重負荷が前足部に集中し、足骨格を保持する横アーチが消失して、特に圧力が集中する足裏の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部に胼胝、及びそれに伴う疼痛が発生し、また歩行時には歩きにくくなるという問題が生じている。
足裏の胼胝の発生を防止するために、例えば特許文献1には、足の横アーチの骨格を保持する凸形状により当該部位を除圧する靴の中敷きを使用する技術が開示されている。
また、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくするために、特許文献2に記載された履物の本底では、硬質材料と軟質材料を上下二層を成すように組み合わせて爪先が屈曲しやすいようにしている。
さらに、特許文献3に記載された履物では、底面に第2趾部の付け根部分から第5趾部の付け根部分に沿って略L字形の溝を延設し、さらに底面における土踏まずの前縁に対応する部位に安定区域を形成するための横方向に延びる溝を設けることにより、前足部の屈曲性の向上を図っている。
特開平04−181206号公報 実公平02−23126号公報 実登平05−4724号公報
例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないという問題が有る。従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかった。
また、歩行時における中足趾節関節部の運動は、踵接地時に軽度背屈、足底接地時に中間位、踏み切り時に最大背屈するのが生理的であるが、この底屈背屈運動をできる限り阻害しない靴が理想的である。
スポーツ用の靴では、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいように、本底の全体または一部に軟質材料を用いたものが存在するが、例えば高さ3cm以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴(以下、パンプスと記す)のようなヒールの高い履物では見当たらない。これは、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいという機能性よりも美的外観を優先していることによる。
従来、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、中足趾節関節を屈曲しやすくして歩行に適するように設計されておらず、ファッションの一部として見せるためのものありながら、実際には、様々な場面で使用され、中足趾節関節部が屈曲しづらいため、踵が脱け出たり、運動力伝達効率が悪くて疲れやすい等の問題が生じていた。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その目的は、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、特にヒールの高い履物に適した本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくく、特にヒールの高い履物に適した履物の本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、一の素材を用いて一体形成された履物の本底であって、
前記履物の本底の底面は、足の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部と第2基節骨底部と第3基節骨底部と第2中足骨の中央部と第3中足骨の中央部とを含む範囲に対応する領域に前後方向を卵形状に窪ませて地面に接しないように除圧部を設け、且つ、前記除圧部に接続して第1の屈曲誘導溝及び第2の屈曲誘導溝を前記足の中足趾節関節部に対応する領域に沿って設ており、
前記除圧部は、
足の第2基節骨底部付近と第3基節骨底部付近との間に対応する領域付近を前記卵形状の丸い方の上先端とし、該上先端から第2基節骨底部付近と第1基節骨底部付近部との第1の間付近及び第3基節骨底部付近と第4基節骨底部付近部との第2の間付近までの範囲を丸みをつけて上部を形成し、
且つ、第2中足骨の中央部付近と第3中足骨の中央部付近との間に対応する付近を前記卵形状の下先端とし、該下先端から第1中足頭部隅付近及び第4中足骨頭部隅付近までの範囲を丸みをつけて下部を形成し、
前記第1の屈曲誘導溝は、
前記中足趾節関節部の足の内側となる側端と前記上部の前記第1の間付近と前記下部の第1中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
前記第2の屈曲誘導溝は、
前記中足趾節関節部の足の外側となる側端と前記上部の前記第2の間付近と前記下部の第4中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
更に、前記一の素材は、硬度が75度〜85度程度の硬質材料を用いたことを特徴とする履物の本底である。
また、請求項2記載の発明は、上記した請求項1記載の履物の本底において、
前記履物の本底の底面は、
前記第1の屈曲誘導溝よりもつま先側となる前方で、且つ、前記第1中足骨よりも上の第1基節骨側の足の内側の側端から当該底面の前記除圧部の前記上部より上付近である中間部位に向かって設けられた近位母趾屈曲誘導溝と、
前記近位母趾屈曲誘導溝よりも前方で、且つ、前記第1の屈曲誘導溝側となる前記内側に設けられた遠位母趾屈曲誘導溝と、
前記第2の屈曲誘導溝よりも踵側となる後方で、且つ、前記除圧部の前記下部の外側に接した部位から前記第5中足骨側の前記足の外側端まで設けられた近位中足趾節関節屈曲誘導溝と、
前記第2の屈曲誘導溝よりも前方で、且つ、前記除圧部の前記上部の外側に接した部位から前記第5中足骨よりも上側の第5中節骨付近まで設けられた遠位中足趾節関節屈曲誘導溝と、
を有することを特徴とする本底である。
また、請求項3記載の発明は、一の素材を用いて一体形成された本底を備えた履物であって、
前記履物の本底の底面には、足の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部と第2基節骨底部と第3基節骨底部と第2中足骨の中央部と第3中足骨の中央部とを含む範囲に対応する領域に、前後方向を卵形状に窪ませて地面に接しないように除圧部を設け、且つ、前記除圧部に接続して第1の屈曲誘導溝及び第2の屈曲誘導溝を前記足の中足趾節関節部に対応する領域に沿って設けており、
前記除圧部は、
足の第2基節骨底部付近と第3基節骨底部付近との間に対応する領域付近を前記卵形状の丸い方の上先端とし、該上先端から第2基節骨底部付近と第1基節骨底部付近部との第1の間付近及び第3基節骨底部付近と第4基節骨底部付近部との第2の間付近までの範囲を丸みをつけて上部を形成し、
且つ、第2中足骨の中央部付近と第3中足骨の中央部付近との間に対応する付近を前記卵形状の下先端とし、該下先端から第1中足頭部隅付近及び第4中足骨頭部隅付近までの範囲を丸みをつけて下部を形成し、
前記第1の屈曲誘導溝は、
前記中足趾節関節部の足の内側となる側端と前記上部の前記第1の間付近と前記下部の第1中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
前記第2の屈曲誘導溝は、
前記中足趾節関節部の足の外側となる側端と前記上部の前記第2の間付近と前記下部の第4中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
更に、前記一の素材は、硬度が75度〜85度程度の硬質材料を用いたことを特徴とする履物である。
また、請求項4記載の発明は、上記した請求項3記載の履物において、
前記本底の踵側に設けたヒールの高さが3cm以上であることを特徴とする履物である。
請求項1記載の履物の本底によれば、履物の本底の底面は、除圧部と、第1,第2の屈曲誘導溝と、を有していることにより、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部に圧力が集中せず、第2中足骨頭部と第3中足骨頭部とに対応する領域に胼胝が発生しにくくなる。また、第1,第2の屈曲誘導溝により、歩行時に中足趾節関節部と対応する領域が生理的屈曲方向へ補助誘導されるために、歩きやすく且つ疲れにくくなる。
また、請求項2記載の履物の本底によれば、請求項1記載の履物の本底において、履物の本底の底面は、近位母趾屈曲誘導溝と、遠位母趾屈曲誘導溝と、近位中足趾節関節屈曲誘導溝と、遠位中足趾節関節屈曲誘導溝と、を有しているので、上記した請求項1記載の効果が得られる他に、踏み切り時に中足趾節関節部の領域がより屈曲しやすくなり、歩行推進力の伝達効率が向上するために、エネルギー効率が良くなり、歩行速度が上がっても、より歩きやすく且つ疲れにくくなる。
また、請求項3記載の履物によれば、上記した請求項1又は請求項2記載の発明の本底を備えているので、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部に胼胝が発生しにくくなり、また、歩行時における足の生理的な運動を阻害せず、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくなる。
また、請求項4記載の履物によれば、上記した請求項3記載の発明の履物において、ヒールの高さが3cm以上であるので、上記した請求項3記載の効果が顕著となる。
以下、本発明の第1の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明の第1の実施形態である靴の本底(左足用)の底面図、図2は左足の中足趾節関節部と図1の本底との位置関係を示す横断面図、図3は図1の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図、図4は図1の本底を使用したパンプスを斜め下方から見た斜視図である。
例えばパンプスのように前足部よりも踵部の方が高くなっていると、体重負荷は前足部に集中して足骨格を保持する横アーチが消失するため、本来体重を受ける骨形態になっていない第2中足骨頭部6(図3参照)と第3中足骨頭部7(図3参照)に圧力が集中するので、生体防御反応として当該部位に胼胝を生じ、疼痛の発生や歩きにくくなるといった問題がある。
このため第2中足骨頭部6と第3中足骨頭部7において、体重負荷に対する地面からの反作用としての圧力を集中させないため、本実施形態では、図2のように、本底の負荷支持部3で体重負荷を受け、本底の第2中足骨頭部6と第3中足骨頭部7に対応する部位に窪み状の除圧部1を設けて地面8に接しないようにして、当該部位を除圧するようにしている。
このようにすると、胼胝を生じにくくするだけでなく、他の履物を長期間使用することによって既に生じている胼胝を改善することができ、これに伴う疼痛を軽減させることができる。
なお、除圧部1が体重負荷によって変形すると第2中足骨頭部6と第3中足骨頭部7に直接的に圧力が付加されることになるので、これを防止するために本底は硬質材料を用いて変形を防止する。
歩行時の踏み切り時には中足趾節関節部9(図3参照)が屈曲して歩行推進力を地面に伝達するが、本底に硬質材料を用いていることによって屈曲しづらいと運動伝達効率が低下する。そこで、図1および図3のように、中足趾節関節部9に対応する部位に、除圧部1に連続する屈曲誘導溝2を設けることによって、エネルギー効率の良い歩行を得ることができる。
ところで、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないとされる。
従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第2中足骨頭部6と第3中足骨頭部7に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかったが、本発明の本底を使用することにより、当該部位を除圧できるため、中敷き表面の凹凸を無くしてフラットにすることができ、美的外観が良い履物を提供することができる。
以上の効果を得るために、図1乃至図3に示す例では、本底には硬度75°乃至85°程度の材料を用い、各部位が一体形成されることが、強度および外観上好ましい。また、表面には滑り止めのためにエンボス加工等をしても良い。
除圧部1は深さ1乃至3mm程度の窪み形状で、前縁は傾斜面で前部に連なっており、この除圧部1に連続する深さ1乃至2mm程度の屈曲誘導溝2を設けて、歩行時における中足趾節関節部9の屈曲を補助誘導する。
本底の素材は、ゴム、発泡ラテックスなど、靴の本底に通常用いられている素材で良い。
本実施形態の本底は板状で、前部4、負荷支持部3、及び後部5は一様の厚みを持ち、パンプス用には3乃至5mm程度、婦人用カジュアルシューズもしくは紳士靴用には5乃至15mm程度の厚さとするのが好ましい。
図4は本発明の本底を用いたパンプスの例であるが、図3のように、除圧部1は第2中
足骨頭部6と第3中足骨頭部7とに対応する部位に、また屈曲誘導溝2は中足趾節関節部9に対応する部位に設定するため、履物のサイズに応じて本底の大きさも適切に増減させることが必要である。
図3のように、除圧部1は、第2中足骨頭部6と第3中足骨頭部7が除圧される位置に設けられ、また屈曲誘導溝2は中足趾節関節部9をカバーして屈曲を補助誘導する位置に設けられているため、この履物を着用することにより、立位保持時および歩行時に胼胝の発生を防止し、これに伴う疼痛を軽減させると共に、歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい。
このような効果は、特に、ヒールの高さが3cm以上の履物において顕著となる。
次に、本発明の第2の実施形態を説明する。図5は本発明の第2の実施形態である靴の本底(左足用)の底面図である。
本実施形態では、深さ0.5乃至1mm程度の近位中足趾節関節屈曲誘導溝10及び遠位中足趾節関節屈曲誘導溝11を設けて、中足趾節関節部9の屈曲を補助誘導する。また、深さ0.5乃至1mm程度の近位母趾屈曲誘導溝12及び遠位母趾屈曲誘導溝13を設けて、母趾部の屈曲を補助誘導する。
このようにすると、踏み切り時に中足趾節関節部9がより屈曲しやすくなり、歩行推進力の伝達効率が向上するため、エネルギー効率が良くなり、歩行速度が上がっても、より歩きやすく且つ疲れにくくなる。
なお、上記実施形態では、先端部に丸みを持たせた形状の本底及び履物を例に挙げて説明したが、先端部が尖った形状のもの等、いかなる形状のものにも本発明を適用することができる。その他にも、本発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に種々の改変を施すことができる。
本発明の第1の実施形態である靴の本底(左足用)の底面図である。 左足の中足趾節関節部と図1の本底との位置関係を示す横断面図である。 図1の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図である。 図1の本底を使用したパンプスの斜め下方から見た斜視図である。 本発明の第2の実施形態である靴の本底(左足用)の底面図である。
符号の説明
1 除圧部
2 屈曲誘導溝
3 負荷支持部
4 前部
5 後部
6 第2中足骨頭部
7 第3中足骨頭部
9 中足趾節関節部
10 近位中足趾節関節屈曲誘導溝
11 遠位中足趾節関節屈曲誘導溝
12 近位母趾屈曲誘導溝
13 遠位母趾屈曲誘導溝

Claims (4)

  1. 一の素材を用いて一体形成された履物の本底であって、
    前記履物の本底の底面は、足の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部と第2基節骨底部と第3基節骨底部と第2中足骨の中央部と第3中足骨の中央部とを含む範囲に対応する領域に前後方向を卵形状に窪ませて地面に接しないように除圧部を設け、且つ、前記除圧部に接続して第1の屈曲誘導溝及び第2の屈曲誘導溝を前記足の中足趾節関節部に対応する領域に沿って設ており、
    前記除圧部は、
    足の第2基節骨底部付近と第3基節骨底部付近との間に対応する領域付近を前記卵形状の丸い方の上先端とし、該上先端から第2基節骨底部付近と第1基節骨底部付近部との第1の間付近及び第3基節骨底部付近と第4基節骨底部付近部との第2の間付近までの範囲を丸みをつけて上部を形成し、
    且つ、第2中足骨の中央部付近と第3中足骨の中央部付近との間に対応する付近を前記卵形状の下先端とし、該下先端から第1中足頭部隅付近及び第4中足骨頭部隅付近までの範囲を丸みをつけて下部を形成し、
    前記第1の屈曲誘導溝は、
    前記中足趾節関節部の足の内側となる側端と前記上部の前記第1の間付近と前記下部の第1中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
    前記第2の屈曲誘導溝は、
    前記中足趾節関節部の足の外側となる側端と前記上部の前記第2の間付近と前記下部の第4中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
    更に、前記一の素材は、硬度が75度〜85度程度の硬質材料を用いたことを特徴とする履物の本底。
  2. 前記履物の本底の底面は、
    前記第1の屈曲誘導溝よりもつま先側となる前方で、且つ、前記第1中足骨よりも上の第1基節骨側の足の内側の側端から当該底面の前記除圧部の前記上部より上付近である中間部位に向かって設けられた近位母趾屈曲誘導溝と、
    前記近位母趾屈曲誘導溝よりも前方で、且つ、前記第1の屈曲誘導溝側となる前記内側に設けられた遠位母趾屈曲誘導溝と、
    前記第2の屈曲誘導溝よりも踵側となる後方で、且つ、前記除圧部の前記下部の外側に接した部位から前記第5中足骨側の前記足の外側端まで設けられた近位中足趾節関節屈曲誘導溝と、
    前記第2の屈曲誘導溝よりも前方で、且つ、前記除圧部の前記上部の外側に接した部位から前記第5中足骨よりも上側の第5中節骨付近まで設けられた遠位中足趾節関節屈曲誘導溝と、
    を有することを特徴とする請求項1記載の履物の本底。
  3. 一の素材を用いて一体形成された本底を備えた履物であって、
    前記履物の本底の底面には、足の第2中足骨頭部と第3中足骨頭部と第2基節骨底部と第3基節骨底部と第2中足骨の中央部と第3中足骨の中央部とを含む範囲に対応する領域に、前後方向を卵形状に窪ませて地面に接しないように除圧部を設け、且つ、前記除圧部に接続して第1の屈曲誘導溝及び第2の屈曲誘導溝を前記足の中足趾節関節部に対応する領域に沿って設けており、
    前記除圧部は、
    足の第2基節骨底部付近と第3基節骨底部付近との間に対応する領域付近を前記卵形状の丸い方の上先端とし、該上先端から第2基節骨底部付近と第1基節骨底部付近部との第1の間付近及び第3基節骨底部付近と第4基節骨底部付近部との第2の間付近までの範囲を丸みをつけて上部を形成し、
    且つ、第2中足骨の中央部付近と第3中足骨の中央部付近との間に対応する付近を前記卵形状の下先端とし、該下先端から第1中足頭部隅付近及び第4中足骨頭部隅付近までの範囲を丸みをつけて下部を形成し、
    前記第1の屈曲誘導溝は、
    前記中足趾節関節部の足の内側となる側端と前記上部の前記第1の間付近と前記下部の第1中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
    前記第2の屈曲誘導溝は、
    前記中足趾節関節部の足の外側となる側端と前記上部の前記第2の間付近と前記下部の第4中足頭部隅付近までの区間に対応する領域が溝にされ、
    更に、前記一の素材は、硬度が75度〜85度程度の硬質材料を用いたことを特徴とする履物。
  4. 前記本底の踵側に設けたヒールの高さが3cm以上であることを特徴とする請求項3記載の履物。
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