JP4687799B2 - 放射線画像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents
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Description
CsX:yA
〔式中、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。〕
11.上記1〜10のいずれか1項に記載の製造方法で製造されることを特徴とする放射線画像変換パネル。
xM3(PO4)2・NX2:yA
xM3(PO4)2:yA
で表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されている下記いずれかの一般式
nReX3・mAX′2:xEu
nReX3・mAX′2:xEu,ySm
で表される蛍光体、特開昭61−72087号に記載されている下記一般式
M(I)X・aM(II)X′2・bM(III)X″3:cA
で表されるアルカリハライド蛍光体、及び特開昭61−228400号に記載されている一般式M(I)X:xBiで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特に、アルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で柱状の輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。
M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
一般式(1)において、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X、X′及びX″は各々F、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、Aは、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
CsX:yA
一般式(2)において、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。
以下の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する蛍光体プレートを作製した。
500μm厚の透明結晶化ガラスの表面に、酸化チタン(フルウチ化学社製)と酸化ジルコニウム(フルウチ化学社製)を用い、400nmでの反射率が85%、660nmでの反射率が20%となるように、蒸着装置を用いて膜形成を行い、光反射層を有するガラス支持体を作製した。
図4は蒸着装置の概略図である。上記支持体を図4に示す蒸着装置の真空チャンバ中に設置し、加熱ランプ(図示せず)を用いて120℃に加熱した。その後、真空ポンプを用いて排気しながら、窒素ガスを調圧ガス流量調節装置(図示せず)を経てガス導入部から1000sccmの流量で導入して真空度を1.33Paとし、支持体の一方の面に、CsBr:0.0001Euからなるアルカリハライド蛍光体を支持体表面の法線方向から、アルミニウム製のスリットを用いて、支持体と蒸発源の距離を60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行い、400μm厚の柱状結晶構造を有する蛍光体層を形成し、蛍光体プレート11を作製した。
真空度及び調圧用の窒素ガス流量を表1のように変えた以外は蛍光体プレート11と同様にして蛍光体プレート12〜18を作製した。
上記作製した各蛍光体プレート11〜18の蛍光体層塗設面に接着テープを張り付け、テープをはがしたときに蛍光体層が支持体に付着した面積%を測定し、以下に示す基準により接着性の評価を行った。評価の結果を表1に示す。
4:蛍光体層が支持体に付着した面積が80%以上100%未満
3:蛍光体層が支持体に付着した面積が60%以上80%未満
2:蛍光体層が支持体に付着した面積が40%以上60%未満
1:蛍光体層が支持体に付着した面積が20%以上40%未満
0:蛍光体層が支持体に付着した面積が20%未満
以下の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する蛍光体プレート及び放射線画像変換パネルを作製した。
実施例1と同じガラス支持体を作製した。
上記支持体を図4に示す蒸着装置の真空チャンバ中に設置し、加熱ランプを用いて240℃に加熱した。その後、真空ポンプを用いて排気装置(図示せず)から排気しながら、窒素ガスを調圧ガス流量調節装置(図示せず)を経て調圧ガス導入装置(図示せず)から1sccmの流量で導入して真空度を0.133Paとし、支持体の一方の面に、CsBr:0.0001Euからなるアルカリハライド蛍光体を支持体表面の法線方向から、アルミニウム製のスリットを用いて、支持体と蒸発源の距離を60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行い、400μm厚の柱状構造を有する蛍光体層を形成し、蛍光体プレート21を作製した。
真空度調整用のガスの種類を表2のように変えた以外は蛍光体プレート21と同様にして蛍光体プレート22、23を作製した。
下記のようにして、上記作製した各蛍光体プレート21〜23を用い、それぞれ放射線画像変換パネル21〜23を作製した。
各放射線画像変換パネルについて、管電圧80kVpのX線を蛍光体プレート支持体の裏面側から照射した後、パネルをHe−Neレーザ光(633nm)で操作して励起し、蛍光体層から放射される発光を受光器(分光感度S−5の光電子像倍管)で受光して、その強度を測定して、これを感度と定義し、放射線画像変換パネル23の感度を1.00とした相対値で表示した。
11 輝尽性蛍光体層
12 柱状結晶間に形成された間隙
21 放射線発生装置
22 被写体
23 放射線画像変換パネル
24 輝尽励起光源
25 光電変換装置
26 画像再生装置
27 画像表示装置
28 フィルタ
Claims (11)
- 支持体上に膜厚50μm以上の蛍光体層を蒸着法により形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、該蛍光体層が母体と賦活剤を、体積が0.005〜1m 3 である蒸着装置を用いて、支持体と蒸着源の距離を10〜60cmとして蒸着することにより形成され、真空ポンプを用いて排気しながら、調圧ガスを調圧ガス流量調節装置を経てガス導入部から導入し、蒸着装置内の真空度が1.33×10−2〜1.33Paで、かつ調圧ガスの流量が0.001〜1000sccm(sccm:standard cc/min(1×10−6m3/min))であり、かつ蛍光体層に含まれる蛍光体が柱状結晶を含有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
- 調圧ガスが窒素またはアルゴンであることを特徴とする請求項1記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 蛍光体層が、下記一般式(1)で表される蛍光体を含有することを特徴とする請求項1または2記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
一般式(1)
M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X、X′及びX″は各々F、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、Aは、Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕 - 前記一般式(1)におけるM1がK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であることを特徴とする請求項3記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記一般式(1)におけるXがBr及びIから選ばれる少なくとも1種のハロゲンであることを特徴とする請求項3または4記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記一般式(1)におけるM2がBe、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも1種の2価金属であることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記一般式(1)におけるM3がY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であることを特徴とする請求項3〜6のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記一般式(1)におけるbが0≦b≦10−2であることを特徴とする請求項3〜7のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記一般式(1)におけるAが、Eu、Ce、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であることを特徴とする請求項3〜8のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 柱状結晶が下記一般式(2)で表される蛍光体を含有することを特徴とする請求項9記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
一般式(2)
CsX:yA
〔式中、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。〕 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法で製造されることを特徴とする放射線画像変換パネル。
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