JP4687756B2 - プローブアレイおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
関根光雄編,「新しいDNAチップの科学と応用」,株式会社講談社発行,株式会社講談社サイエンティフィク編集,2007年7月30日,p.008−009
上記第1の局面に係るプローブアレイにおいて、90度以下の角度側で測定したとき、すなわち角度を90度以下側で示した場合に、底面および立ち上がり壁面のいずれかは、基準面に対して、角度θ1をなす第1の面と、角度θ1より大きい角度θ2をなす第2の面とを少なくとも有し、cos θ1/cos θ2の値が5以上かつ50以下であることが好ましい。
2,2a,61 プローブ保持基板
3 台座部材
4 第1の主面
5 第2の主面
6,63 プローブ保持部
7,40 プローブ分子
8,45,62 基準面
10 台座面
11 窪み
12,64 掘り込みパターン
13,65 底面
14,66 突起パターン
15〜18,67〜70 内側面(立ち上がり壁面)
19〜22,71〜74 突起外側面(立ち上がり壁面)
31,77 レジストパターン
32 プローブ分子溶液
41〜43 プローブ分子保持面
44 蛍光受光面
75 シリコン基板
78 表側の面
79 裏側の面
80 補助基板
81 陽イオン
Claims (15)
- 蛍光観察法によってプローブ分子を検出する際に用いられる、プローブアレイであって、
相対向しかつ互いに平行に延びる第1および第2の主面を有し、かつ前記第1の主面に沿って複数のプローブ保持部が配列され、各前記プローブ保持部にプローブ分子を保持している、プローブ保持基板と、
蛍光観察法において前記プローブ保持部から発せられた蛍光を受光する受光面に対して平行に配置される基準面を有するとともに、前記プローブ保持基板を支持するために前記プローブ保持基板の前記第2の主面に接する台座面を有する、台座部材と
の組み合わせからなり、
前記プローブ保持基板において、各前記プローブ保持部は、前記主面に対して平行な底面と、前記底面から立ち上がる立ち上がり壁面とを有し、前記底面と前記立ち上がり壁面との双方にプローブ分子が保持されていて、
前記台座部材において、前記台座面は、前記基準面に対して平行とはならない方向に延びている、
プローブアレイ。 - 90度以下の角度側で測定したとき、前記底面および前記立ち上がり壁面のいずれかは、前記基準面に対して、角度θ1をなす第1の面と、前記角度θ1より大きい角度θ2をなす第2の面とを少なくとも有し、cos θ1/cos θ2の値が5以上かつ50以下である、請求項1に記載のプローブアレイ。
- 蛍光観察法によってプローブ分子を検出する際に用いられる、プローブアレイであって、
基準面を有し、かつ前記基準面に沿って複数のプローブ保持部が配列され、各前記プローブ保持部にプローブ分子が保持されている、プローブ保持基板を備え、
前記プローブ保持基板は、前記基準面が、蛍光観察法において前記プローブ保持部から発せられた蛍光を受光する受光面に対して平行に延びるように配置され、
各前記プローブ保持部は、底面と、前記底面から立ち上がる立ち上がり壁面とを有し、前記底面と前記立ち上がり壁面との双方にプローブ分子が保持されていて、前記立ち上がり壁面は、前記基準面に対して垂直とはならない方向に延びていて、
90度以下の角度側で測定したとき、前記底面および前記立ち上がり壁面のいずれかは、前記基準面に対して、角度θ1をなす第1の面と、前記角度θ1より大きい角度θ2をなす第2の面とを少なくとも有し、cos θ1/cos θ2の値が5以上かつ50以下である、
プローブアレイ。 - 前記cos θ1/cos θ2の値が5以上かつ20以下である、請求項2または3に記載のプローブアレイ。
- 90度以下の角度側で測定したとき、前記底面および前記立ち上がり壁面のいずれかは、前記基準面に対して、角度の小さい順に、角度θ1、θ2、…、θnをそれぞれなす第1、第2、…、第nの面を少なくとも有し、
kを2以上かつn以下の任意の自然数としたとき、第(k−1)および第kの面の、前記基準面に対してそれぞれなす角度θ(k−1)およびθkについて、cos θ(k−1)/cos θkの値が50以下であり、かつ、
cos θ1/cos θnの値が5以上である、
請求項2または3に記載のプローブアレイ。 - 前記cos θ(k−1)/cos θkの値が20以下である、請求項5に記載のプローブアレイ。
- 前記cos θ1/cos θnの値が50以上である、請求項5または6に記載のプローブアレイ。
- 角度θ1、θ2、…、θnにおいて、前記cos θ(k−1)/cos θkの値がほぼ一定である、請求項5ないし7のいずれかに記載のプローブアレイ。
- 請求項1に記載のプローブアレイを製造する方法であって、
前記プローブ保持基板および前記台座部材をそれぞれ用意する工程と、
前記プローブ保持基板の各前記プローブ保持部にプローブ分子を保持させる工程と、
前記プローブ保持基板の前記第2の主面を前記台座部材の前記台座面に向けた状態で、前記プローブ保持基板を前記台座面に貼り付ける工程と
を備える、プローブアレイの製造方法。 - 前記プローブ保持部にプローブ分子を保持させる工程は、前記プローブ保持基板を台座面に貼り付ける工程の前に実施される、請求項9に記載のプローブアレイの製造方法。
- 前記プローブ保持部にプローブ分子を保持させる工程は、前記プローブ保持基板を台座面に貼り付ける工程の後に実施される、請求項9に記載のプローブアレイの製造方法。
- 前記台座部材を用意する工程において、前記台座面には窪みが形成され、前記プローブ保持基板を台座面に貼り付ける工程は、接着剤を用いて前記プローブ保持基板を前記台座面に貼り付ける工程を含み、前記プローブ保持基板を台座面に貼り付ける工程において、前記窪みは前記接着剤の余分なものを受け入れるように機能する、請求項9ないし11のいずれかに記載のプローブアレイの製造方法。
- 請求項3に記載のプローブアレイを製造する方法であって、
前記プローブ保持基板を作製する工程と、
前記プローブ保持基板の各前記プローブ保持部にプローブ分子を保持させる工程と
を備え、
前記プローブ保持基板を作製する工程は、ドライエッチングを用いて前記底面および前記立ち上がり壁面を形成する工程を含み、
前記ドライエッチングにおいて、プラズマ中の陽イオンが、前記プローブ保持基板の前記基準面に対して垂直とはならない方向に入射するようにされる、
プローブアレイの製造方法。 - 前記プローブ保持基板を作製する工程は、前記プローブ保持基板となるべき板状の材料基板を用意する工程と、表側の面と裏側の面とが互いに平行でない補助基板を用意する工程と、前記材料基板を前記補助基板上に載置した状態で、前記ドライエッチングを実施する工程とを含む、請求項13に記載のプローブアレイの製造方法。
- 請求項3に記載のプローブアレイを製造する方法であって、
前記プローブ保持基板を作製する工程と、
前記プローブ保持基板の各前記プローブ保持部にプローブ分子を保持させる工程と
を備え、
前記プローブ保持基板を作製する工程は、前記プローブ保持基板となるべき単結晶シリコン基板を用意する工程と、前記単結晶シリコン基板の主面の結晶方位が(110)方向から傾いている状態で、アルカリ性の液体を用いた異方性ウェットエッチングを実施することによって、前記底面および前記立ち上がり壁面を形成する工程を含む、
プローブアレイの製造方法。
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