JP4687624B2

JP4687624B2 - Substrate support device

Info

Publication number: JP4687624B2
Application number: JP2006267127A
Authority: JP
Inventors: 茂樹伊藤; 勝也三田
Original assignee: Omron Corp
Current assignee: Omron Corp
Priority date: 2006-09-29
Filing date: 2006-09-29
Publication date: 2011-05-25
Anticipated expiration: 2026-09-29
Also published as: CN101155506A; CN101155506B; JP2008091372A

Description

この発明は、プリント基板の製造装置（はんだ印刷装置、マウンタなど）や検査装置などにおいて、処理対象の基板を固定状態で支持する（クランプする）ための基板の支持装置に関する。 The present invention relates to a substrate support device for supporting (clamping) a substrate to be processed in a fixed state in a printed circuit board manufacturing apparatus (solder printing apparatus, mounter, etc.), an inspection apparatus, or the like.

この種の基板支持装置は、一般に、基板ステージと、このステージ上のプリント基板（以下、単に「基板」という。）を端縁部で固定支持するクランプ機構とを具備する。クランプ機構は、手動で調整される場合もあるが、エアシリンダ、モータなどの駆動源によりクランプ機構を駆動するものが広く知られている（たとえば特許文献１参照）。 In general, this type of substrate support apparatus includes a substrate stage and a clamp mechanism that fixes and supports a printed circuit board (hereinafter simply referred to as “substrate”) on the stage at an edge. Although the clamp mechanism may be manually adjusted, one that drives the clamp mechanism with a drive source such as an air cylinder or a motor is widely known (see, for example, Patent Document 1).

特開２００５−２６２８０号公報JP 2005-26280 A

しかし、駆動源を用いるタイプの装置では、装置が大がかりになる上、駆動源の動作環境の設定（エア設備の準備やモータへの供給電圧の調整など）が必要になり、コストや手間がかかる。一方、クランプ機構を手動で動かすタイプの装置では、基板の位置決めに時間がかかり、作業効率が低下するおそれがある。 However, in a device using a drive source, the device becomes large, and it is necessary to set the operating environment of the drive source (preparation of air equipment, adjustment of the supply voltage to the motor, etc.), which is costly and troublesome. . On the other hand, in an apparatus of a type that manually moves the clamp mechanism, it takes time to position the substrate, which may reduce work efficiency.

この発明は上記の問題点に着目してなされたもので、クランプ用の駆動源を使用することなく、自動的にクランプ状態の設定やクランプ状態の解除を行えるようにすることを課題とする。 The present invention has been made paying attention to the above problems, and it is an object of the present invention to automatically set a clamp state and release a clamp state without using a clamp drive source.

上記の課題を解決する基板支持装置は、プリント基板を支持するための基板ステージが、所定広さの支持部上に、少なくとも特定の一軸に沿って往復動可能に設置され、基板ステージは、基板の端縁部を上下いずれかの方向から押圧して固定するクランプ機構と、自己の変位をクランプ機構に作用させて、クランプ機構により基板が固定される状態（クランプ状態）と固定が解除される状態（非クランプ状態）とを切り換えるスライド機構とを具備する。また支持部には、基板ステージが特定の一軸に沿って移動する間にスライド機構に接触して、この機構を変位させるガイド部が設けられる。 In the substrate support apparatus that solves the above-described problem, a substrate stage for supporting a printed circuit board is installed on a support portion having a predetermined width so as to be able to reciprocate along at least a specific axis. The clamp mechanism that presses and fixes the edge of the substrate from either the upper or lower direction, and the displacement of the self acting on the clamp mechanism, the substrate is fixed by the clamp mechanism (clamped state) and the fixation is released. A slide mechanism that switches between a state (unclamped state). The support portion is provided with a guide portion that contacts the slide mechanism while the substrate stage moves along a specific axis and displaces the mechanism.

上記において、クランプ機構には、たとえば、基板ステージに支持された状態の基板を上方から押さえて固定するクランプ爪が含まれる。また、たとえば、基板を下面側から押し上げる押圧部材を具備する構成としてもよい。 In the above, the clamp mechanism includes, for example, a clamp claw for pressing and fixing the substrate supported by the substrate stage from above. For example, it is good also as a structure which comprises the press member which pushes up a board | substrate from the lower surface side.

基板ステージは、支持対象の基板の直交する２辺のいずれか一方に沿う軸を「特定の一軸」とするのが望ましい。基板ステージは、特定の一軸にでのみ往復動すれば良いが、さらに特定の一軸に直交する軸に沿って往復動するものであってもよい。 In the substrate stage, it is desirable that an axis along one of two orthogonal sides of the substrate to be supported be a “specific axis”. The substrate stage only needs to reciprocate along a specific axis, but may further reciprocate along an axis orthogonal to the specific axis.

上記の構成によれば、基板ステージが特定の一軸に沿って移動し、スライド機構が支持部のガイド部に接触すると、このガイド部の作用によりスライド機構が変位し、さらにその変位によってクランプ機構の状態が切り換えられる。たとえば、非クランプ状態にある基板ステージに基板を設置し、特定の一軸に沿って基板ステージを移動させると、非クランプ状態からクランプ状態に切り換えられる。また、このクランプ状態の基板ステージの移動方向を逆転させて元の位置に戻すと、クランプ状態から非クランプ状態に切り換えられる。 According to the above configuration, when the substrate stage moves along a specific axis and the slide mechanism comes into contact with the guide portion of the support portion, the slide mechanism is displaced by the action of the guide portion. The state is switched. For example, when a substrate is placed on a substrate stage in an unclamped state and the substrate stage is moved along a specific axis, the unclamped state is switched to the clamped state. Further, when the moving direction of the substrate stage in the clamped state is reversed and returned to the original position, the clamped state is switched to the unclamped state.

このように、基板ステージの移動に伴って自動的にクランプ機構の状態を切り換えることができるから、クランプ機構用の駆動源を設ける必要がなくなる。よって、装置の小型化やコストの削減を実現できるとともに、基板の位置決め処理について、従来の駆動源を用いるタイプの装置と同様の効率を確保することができる。 As described above, since the state of the clamp mechanism can be automatically switched with the movement of the substrate stage, it is not necessary to provide a drive source for the clamp mechanism. Therefore, it is possible to reduce the size of the apparatus and reduce the cost, and it is possible to secure the same efficiency as that of a conventional apparatus using a drive source for the substrate positioning process.

上記の基板支持装置の好ましい一態様では、クランプ機構およびスライド機構は、スライド機構がクランプ機構より下方に位置し、かつ両機構が互いに一部を接触させた状態で設けられる。また、スライド機構は、ガイド部に接触することによって基板の一端縁に沿って移動するとともに、この移動中にクランプ機構に接する部分の高さが変化するように構成される。一方、クランプ機構は、スライド機構の接触部分の高さ変化に応じた変位により、クランプ状態と非クランプ状態とが切り換えられるように構成される。 In a preferable aspect of the substrate support apparatus, the clamp mechanism and the slide mechanism are provided in a state where the slide mechanism is positioned below the clamp mechanism and the mechanisms are partially in contact with each other. Further, the slide mechanism is configured to move along one edge of the substrate by contacting the guide portion, and to change the height of the portion in contact with the clamp mechanism during the movement. On the other hand, the clamp mechanism is configured to be switched between a clamped state and an unclamped state by displacement according to a change in height of the contact portion of the slide mechanism.

上記の態様では、基板ステージが特定の一軸に沿って移動すると、スライド機構が、基板の端縁に沿って移動する。この移動に伴ってクランプ機構に接する部分の高さが変化し、その動きによって、クランプ状態と非クランプ状態とが切り換えられる。 In the above aspect, when the substrate stage moves along a specific axis, the slide mechanism moves along the edge of the substrate. Along with this movement, the height of the portion in contact with the clamp mechanism changes, and the movement switches between the clamped state and the unclamped state.

上記の態様に係る基板支持装置は、たとえば、クランプ機構に、基板の一端縁に沿う軸を介して回転可能に支持されたクランプ爪支持部と、このクランプ爪支持部に支持された所定数のクランプ爪と、クランプ爪支持部とスライド機構との間に設けられた上下動機構とを設けた構成のものとなる。また、上下動機構は、スライド機構の移動により接触部分の高さが変化するのに伴って上下動する。さらに、クランプ爪支持部は、上下動機構が上昇したとき、基板に向かう方向に回転してクランプ爪により基板の上を固定し、上下動機構が下降したとき、基板から離れる方向に回転してクランプ爪による固定状態を解除する。 The substrate support apparatus according to the above aspect includes, for example, a clamp claw support portion that is rotatably supported by a clamp mechanism via an axis along one end edge of the substrate, and a predetermined number of supports supported by the clamp claw support portion. The clamp claw and a vertical movement mechanism provided between the clamp claw support portion and the slide mechanism are provided. The vertical movement mechanism moves up and down as the height of the contact portion changes due to the movement of the slide mechanism. Furthermore, when the vertical movement mechanism is raised, the clamp claw support portion rotates in a direction toward the substrate and fixes the top of the substrate with the clamp claw, and when the vertical movement mechanism is lowered, the clamp claw support portion rotates in a direction away from the substrate. Release the clamped claw.

上記構成によれば、非クランプ状態の基板ステージが移動して上下動機構が上昇すると、クランプ爪支持部が基板に向かう方向に回転し、クランプ爪により基板の上面が固定されて、クランプ状態が設定される。またこのクランプ状態下で基板ステージの移動方向が切り換えられて上下動機構が下降すると、クランプ爪支持部が基板から離れる方向に回転し、クランプ爪による固定状態が解除され、クランプ状態から非クランプ状態に切り換えられる。 According to the above configuration, when the substrate stage in the unclamped state moves and the vertical movement mechanism rises, the clamp claw support portion rotates in the direction toward the substrate, the upper surface of the substrate is fixed by the clamp claw, and the clamp state is Is set. Also, when the moving direction of the substrate stage is switched under this clamping condition and the vertical movement mechanism descends, the clamping claw support part rotates away from the substrate, the fixed state by the clamping claw is released, and the clamping state is changed to the non-clamping state Can be switched to.

上記の構成をとる場合には、さらに基板の下面を支持する支持部を、クランプ爪による押圧力に応じて下方に変位し、押圧力が解除されたときに、元の位置に復帰するように構成するのが望ましい。このようにすれば、クランプ爪は、可動範囲のリミット位置まで下がるので、クランプ状態下では、基板の上面の高さを一定にすることができる。 In the case of adopting the above configuration, the support portion that supports the lower surface of the substrate is further displaced downward according to the pressing force by the clamp claw so that when the pressing force is released, it returns to the original position. It is desirable to configure. In this way, the clamp claw is lowered to the limit position of the movable range, so that the height of the upper surface of the substrate can be made constant under the clamped state.

さらに、好ましい態様にかかる基板支持装置では、クランプ機構およびスライド機構は、基板の移動軸である特定の一軸に直交する端縁に対応する位置に設けられる。また、スライド機構には、基板の上記端縁に沿って往復動可能に設けられたスライドフレームと、このスライドフレームのガイド部に対応する部分に連結されたローラとが含まれる。ガイド部は、基板ステージが特定の一軸に沿って移動する間に、この移動方向に直交する方向に沿ってローラを変位させる。このときスライドフレームは、ローラの変位の方向と同じ方向に移動する。 Furthermore, in the substrate support apparatus according to a preferred aspect, the clamp mechanism and the slide mechanism are provided at positions corresponding to the edge perpendicular to a specific axis that is the movement axis of the substrate. The slide mechanism includes a slide frame provided so as to be able to reciprocate along the edge of the substrate, and a roller connected to a portion corresponding to the guide portion of the slide frame. The guide unit displaces the roller along a direction orthogonal to the moving direction while the substrate stage moves along a specific axis. At this time, the slide frame moves in the same direction as the direction of displacement of the roller.

上記構成の基板支持装置によれば、基板ステージが特定の一軸に沿って移動する間に、支持部に設けられたガイド部とスライド機構とが接触することによって、クランプ機構のクランプ状態と非クランプ状態とが切り換えられる。よって、駆動源がなくとも自動的かつ簡単にクランプ機構を動かすことができ、コストの削減や装置の小型化を実現することができる。しかも、駆動源があるタイプの装置と同様に、基板の位置決め処理を効率良く行うことができる。 According to the substrate support apparatus having the above-described configuration, the guide unit provided on the support unit and the slide mechanism come into contact with each other while the substrate stage moves along a specific axis, whereby the clamping state of the clamp mechanism and the non-clamping state. The state is switched. Therefore, the clamp mechanism can be moved automatically and easily without a drive source, and cost reduction and downsizing of the apparatus can be realized. In addition, the substrate positioning process can be performed efficiently, as in a type of apparatus having a drive source.

図１は、この発明が適用された基板検査装置１の構成を示す。
この基板検査装置１は、検査対象の基板を撮像し、生成された画像を処理することにより、部品の実装状態やはんだ付け状態などを自動的に検査するもので、基板支持装置１００、上部ケース体１０１、モニタ１０２、コントローラ１０３などにより構成される。 FIG. 1 shows a configuration of a substrate inspection apparatus 1 to which the present invention is applied.
The board inspection apparatus 1 automatically inspects a component mounting state, a soldering state, and the like by imaging a board to be inspected and processing a generated image. It comprises a body 101, a monitor 102, a controller 103, and the like.

基板支持装置１００は、上面開口の筐体１０４内に基板ステージ１０やその移動機構などが組み込まれた構成のもので、所定広さのテーブル１０６の天板１０７上に設置される。上部ケース体１０１は、下面が開口された長手状の箱状体であって、内部には図示しないカメラや光源が収容されており、基板支持装置１００の奥寄りの位置に、その横幅方向を横切るように設置される。 The substrate support apparatus 100 has a configuration in which the substrate stage 10 and its moving mechanism are incorporated in a housing 104 having an upper opening, and is installed on a top plate 107 of a table 106 having a predetermined width. The upper case body 101 is a long box-like body having an open bottom surface, and houses a camera and a light source (not shown) inside. It is installed so as to cross.

モニタ１０２は上部ケース体１０１の前面の適所に取り付けられる。またコントローラ１０３は、テーブル１０６の下部に設けられた支持板１０９上に設置される。また、テーブル１０６の天板１０７の下面には引出板１１０が取り付けられ、その上に、キーボードやマウスなど、コントローラ１０３への入力用機器が設置される。 The monitor 102 is attached to an appropriate position on the front surface of the upper case body 101. The controller 103 is installed on a support plate 109 provided at the lower part of the table 106. Further, a drawer plate 110 is attached to the lower surface of the top plate 107 of the table 106, and devices for inputting to the controller 103 such as a keyboard and a mouse are installed thereon.

このほか、基板支持装置１００の上面には、電源ボタン１１１、スタートボタン１１２、停止ボタン１１３、緊急停止ボタン１１４が設けられる。 In addition, a power button 111, a start button 112, a stop button 113, and an emergency stop button 114 are provided on the upper surface of the substrate support apparatus 100.

この基板検査装置１では、横幅方向をＸ軸、奥行き方向をＹ軸として、上部ケース体１０１内のカメラや光源を、図示しない移動機構によりＸ軸に沿って往復動させ、基板ステージ１０を、Ｙ軸方向に沿って往復動させることにより、基板とカメラとを位置合わせし、撮像を行っている。各移動機構の動作はコントローラ１０３により制御される。 In this substrate inspection apparatus 1, with the horizontal direction as the X axis and the depth direction as the Y axis, the camera and light source in the upper case body 101 are reciprocated along the X axis by a moving mechanism (not shown), and the substrate stage 10 is moved. By reciprocating along the Y-axis direction, the substrate and the camera are aligned and imaging is performed. The operation of each moving mechanism is controlled by the controller 103.

基板ステージ１０には、基板の対向する一対の端縁を固定状態で支持するクランプ機構３０が設けられている。基板ステージ１０は、検査の開始前には、基板支持装置１００の前方側（上部ケース体１０１により開口部が覆われていない部分）に位置し、検査対象の基板を受け付ける。この後、クランプ機構３０が作動して基板が固定されると、コントローラ１０３の制御に基づき検査が開始される。 The substrate stage 10 is provided with a clamp mechanism 30 that supports a pair of opposing edges of the substrate in a fixed state. The substrate stage 10 is positioned on the front side of the substrate support device 100 (the portion where the opening is not covered by the upper case body 101 ) before starting the inspection, and receives the substrate to be inspected. Thereafter, when the clamp mechanism 30 is operated and the substrate is fixed, the inspection is started based on the control of the controller 103.

この実施例では、作業者が手作業により基板ステージ１０に基板をセットした後、スタートボタン１１２を操作することにより、基板ステージ１０が移動するとともにクランプ機構３０が自動的に作動し、基板を固定するように設計されている。以下、この基板ステージ１０やこれを支持する機構について、詳細に説明する。 In this embodiment, after the operator manually sets the substrate on the substrate stage 10 and operates the start button 112, the substrate stage 10 moves and the clamp mechanism 30 automatically operates to fix the substrate. Designed to be. Hereinafter, the substrate stage 10 and the mechanism for supporting it will be described in detail.

なお、各図では、基板支持装置１００の前方から後方に向かう方向をＹ軸の正方向とし、その方向を矢印で示す（ただしＹ軸が紙面に直交する関係にある図では省略する。）。一方、Ｘ軸については、基板支持装置１００の前面に向かって右から左に移動する方向をＡ方向とし、この方向に反転する方向をＢ方向とし、それぞれの方向を個別に矢印で示す。また、便宜上、Ａ方向を左側、Ｂ方向を右側として、各部の左右関係を表す場合もある。また、図中の一点鎖線Ｓは基板を示す。 In each figure, the direction from the front to the rear of the substrate support apparatus 100 is the positive direction of the Y axis, and the direction is indicated by an arrow (however, it is omitted in the figure in which the Y axis is orthogonal to the paper surface). On the other hand, with respect to the X axis, the direction moving from right to left toward the front surface of the substrate support apparatus 100 is the A direction, the direction reversing in this direction is the B direction, and each direction is individually indicated by an arrow. For the sake of convenience, the left-right relationship of each part may be expressed with the A direction as the left side and the B direction as the right side. Moreover, the dashed-dotted line S in a figure shows a board | substrate.

基板支持装置１００の筐体１０４内には、基板ステージ１０を支持する支持台１０８（支持部の一態様）が組み込まれている。図２は、この支持台１０８を上方から見た状態を、図３は、支持台１０８を前方側から見た状態を、それぞれ示す。 In the housing 104 of the substrate support apparatus 100, a support base 108 (one aspect of a support portion) that supports the substrate stage 10 is incorporated. FIG. 2 shows the state of the support 108 viewed from above, and FIG. 3 shows the state of the support 108 viewed from the front side.

支持台１０８の右側縁に近い位置には、基板ステージ１０の移動機構であるボールねじ機構６０が、その軸の長さ方向をＹ軸に合わせて配備される。ボールねじ機構６０には、可動ブロック体６１、カップリング６３、モータ６４などが設けられる。 At a position close to the right edge of the support base 108, a ball screw mechanism 60, which is a moving mechanism for the substrate stage 10, is arranged with its axis length direction aligned with the Y axis. The ball screw mechanism 60 is provided with a movable block body 61, a coupling 63, a motor 64, and the like.

ボールねじ機構６０の左側には、所定距離を隔ててスライドシャフト６５が設けられ、さらに支持台１０８の左側縁に近い位置にはリニアガイド６６が設けられる。スライドシャフト６５やリニアガイド６６も、軸の長さ方向をＹ軸に合わせて配置される。また、各軸には、それぞれ可動ブロック体６７，６８が２個ずつ取り付けられている。 A slide shaft 65 is provided on the left side of the ball screw mechanism 60 at a predetermined distance, and a linear guide 66 is provided at a position near the left edge of the support base 108. The slide shaft 65 and the linear guide 66 are also arranged with the length direction of the shaft aligned with the Y axis. In addition, two movable block bodies 67 and 68 are attached to each shaft.

ボールねじ機構６０、スライドシャフト６５、リニアガイド６６の各可動ブロック体６１，６７，６８は、それぞれ基板ステージ１０に連結される。よって、モータ６４が回転すると、基板ステージ１０は、各可動ブロック体６１，６７，６８とともに、Ｙ軸方向の正方向または負方向に沿って移動する。この移動量や移動の方向は、モータ６４の回転数や回転方向に置き換えられて制御される。 The movable block bodies 61, 67, 68 of the ball screw mechanism 60, the slide shaft 65, and the linear guide 66 are respectively connected to the substrate stage 10. Therefore, when the motor 64 rotates, the substrate stage 10 moves along the positive or negative direction in the Y-axis direction together with the movable block bodies 61, 67, and 68. The amount of movement and the direction of movement are controlled by being replaced with the number of rotations and the direction of rotation of the motor 64.

ボールねじ機構６０の右手には、基板ステージ１０の位置を検出するためのセンサ６９ａ〜６９ｄが、前方側に３個、後方側に１個、それぞれ設けられている。これらのセンサ６９ａ〜６９ｄは、投受光部が対向する透過式の光電センサであって、ボールねじ６０の可動ブロック体６１に取り付けられた遮光プレート６２が投受光部間に入ったときにオン動作する。前方側の３個のセンサは、Ｙ軸の正方向に沿って、６９ｂ，６９ａ，６９ｃの順に並べられており、このうちの中央のセンサ６９ａがオン状態になったときの基板ステージ１０の位置が、ステージの初期位置に設定されている。検査開始前および検査終了後には、基板ステージ１０は、必ずこの初期位置に位置決めされる。 The right hand of the ball screw mechanism 60 is provided with three sensors 69a to 69d for detecting the position of the substrate stage 10, one on the front side and one on the rear side. These sensors 69a to 69d are transmissive photoelectric sensors facing the light projecting and receiving parts, and are turned on when the light shielding plate 62 attached to the movable block body 61 of the ball screw 60 enters between the light projecting and receiving parts. To do. The three sensors on the front side are arranged in the order of 69b, 69a, and 69c along the positive direction of the Y-axis, and the position of the substrate stage 10 when the center sensor 69a among them is turned on. Is set to the initial position of the stage. Before the start of inspection and after the end of inspection, the substrate stage 10 is always positioned at this initial position.

なお、初期位置検出用のセンサ６９ａの背後に設けられたセンサ６９ｃは、基板ステージ１０が初期位置に近づいていることを検出するためのものであり、最前方に配置されたセンサ６９ｂおよび最後方に配置されたセンサ６９ｄは、基板ステージ１０がリミット位置に来ていることを検出するためのものである。センサ６９ｂや６９ｄがオンになった場合には、基板ステージ１０を緊急停止させるために、ステージへの電源の供給が遮断される。 The sensor 69c provided behind the sensor 69a for initial position detection is provided for detecting that the substrate stage 10 is approaching the initial position, the sensor 69 b and the end located closest to the front The sensor 69d arranged in the direction is for detecting that the substrate stage 10 has reached the limit position. When the sensors 69b and 69d are turned on, the supply of power to the stage is interrupted in order to stop the substrate stage 10 in an emergency.

上記構成のほか、支持台１０８の上面には、３個のガイド部５１，５２，５３が設けられる（以下、符号の順に、「第１ガイド部５１」「第２ガイド部５２」「第３ガイド部５３」という。第１ガイド部５１は、基板ステージ１０の前端部の移動範囲に対応する位置に設けられ、第２、第３のガイド部５２，５３は、基板ステージ１０の後端部の移動範囲に対応する位置に設けられる。これらのガイド部５１，５２，５３の機能については、後で詳細に説明する。 In addition to the above configuration, three guide portions 51, 52, 53 are provided on the upper surface of the support base 108 (hereinafter, “first guide portion 51”, “second guide portion 52”, “third” in the order of reference numerals). The first guide portion 51 is provided at a position corresponding to the movement range of the front end portion of the substrate stage 10, and the second and third guide portions 52 and 53 are the rear end portions of the substrate stage 10. The functions of the guide portions 51, 52, and 53 will be described later in detail.

図４は、基板ステージ１０の全体構成を示す。この例の基板ステージ１０は、前後一対のホルダ部２，３と左右一対のフレーム部４，５とを具備する枠状体であって、内部には、基板Ｓを設置するための空洞部６が形成されている。各ホルダ部２，３には、それぞれクランプ機構３０や、このクランプ機構３０の開閉動作を切り換えるためのスライド機構２０（図５以下に示す。）が設けられている。 FIG. 4 shows the overall configuration of the substrate stage 10. The substrate stage 10 in this example is a frame-like body having a pair of front and rear holder portions 2 and 3 and a pair of left and right frame portions 4 and 5, and a hollow portion 6 for installing a substrate S therein. Is formed. Each of the holder portions 2 and 3 is provided with a clamp mechanism 30 and a slide mechanism 20 (shown in FIG. 5 and the following) for switching the opening / closing operation of the clamp mechanism 30.

左右のフレーム部４，５は、各ホルダ部２，３の左右端よりも外側に突出している。フレーム部４，５間の距離は、支持台１０８上のリニアガイド６６とスライドシャフト６５との距離に対応しており、左側のフレーム部４の底面はリニアガイド６６側の可動ブロック体６８に、右側のフレーム部５の底面はスライドシャフト６５側の可動ブロック体６７に、それぞれ連結されている。さらに、右側のフレーム部５の上面には、外側に突出する矩形状の突出片７が一体に形成されている。この突出片７は、ボールねじ機構６０の可動ブロック体６１に連結されている。 The left and right frame parts 4 and 5 protrude outward from the left and right ends of the holder parts 2 and 3. The distance between the frame parts 4 and 5 corresponds to the distance between the linear guide 66 on the support base 108 and the slide shaft 65, and the bottom surface of the left frame part 4 is connected to the movable block body 68 on the linear guide 66 side. The bottom surface of the right frame portion 5 is connected to a movable block body 67 on the slide shaft 65 side. Further, a rectangular protruding piece 7 protruding outward is integrally formed on the upper surface of the right frame portion 5. The protruding piece 7 is connected to the movable block body 61 of the ball screw mechanism 60.

前後のホルダ部２，３のうち、前方のホルダ部２は固定されているが、後方のホルダ部３は、前後にスライド可能に支持されている。さらに、ホルダ部２の左右には、基板Ｓの左右の端縁を支持するためのガイド片８，９が設けられる。これらのうち、左側のガイド片８は左側のフレーム部４の上面に固定されているが、右側のガイド片９は、ホルダ部２の上面に左右方向に沿って形成された溝部１７に取り付けられる。後方のホルダ部３と右側ガイド片９との位置は、基板Ｓの幅に応じて調整されている。 Of the front and rear holder parts 2 and 3, the front holder part 2 is fixed, but the rear holder part 3 is supported to be slidable back and forth. Furthermore, guide pieces 8 and 9 for supporting the left and right edges of the substrate S are provided on the left and right sides of the holder portion 2. Among these, the left guide piece 8 is fixed to the upper surface of the left frame portion 4, but the right guide piece 9 is attached to a groove portion 17 formed in the left and right direction on the upper surface of the holder portion 2. . The positions of the rear holder part 3 and the right guide piece 9 are adjusted according to the width of the substrate S.

図５は、前方の固定されたホルダ部２（以下、「固定側ホルダ２」という。）の正面（基板ステージ１０の前面に対応する。）の構成を示す。また図６は、固定側ホルダ２を左手側から見た構成を示し、図７は、固定側ホルダ２の背面（空洞部６側の面）を示す。図８−１および図８−２は、固定側ホルダ２のクランプ機構３０およびスライド機構２０を抜き出して示した斜視図である。図７以外の各図では、基板を支持する前の状態（非クランプ状態）と基板を固定支持した状態（クランプ状態）とを、対比させて示している。 FIG. 5 shows the configuration of the front surface (corresponding to the front surface of the substrate stage 10) of the front fixed holder portion 2 (hereinafter referred to as “fixed side holder 2”). FIG. 6 shows a configuration of the fixed side holder 2 viewed from the left hand side, and FIG. 7 shows a back surface (surface on the cavity 6 side) of the fixed side holder 2. FIGS. 8A and 8B are perspective views showing the clamp mechanism 30 and the slide mechanism 20 of the fixed side holder 2 extracted. In each drawing other than FIG. 7, the state before supporting the substrate (unclamped state) and the state where the substrate is fixedly supported (clamped state) are shown in comparison.

以下、上記図５〜８および前出の図２〜４を用いて、固定側ホルダ２の構成や動作を詳細に説明する。 Hereinafter, the configuration and operation of the fixed-side holder 2 will be described in detail with reference to FIGS. 5 to 8 and FIGS.

この実施例の固定側ホルダ２は、垂直に起立するベースフレーム１１を有する。ベースフレーム１１の背面側には、所定の厚みを有する可動フレーム１２が、複数の圧縮バネ１４によって下方に変位可能に支持されている（図７参照。）。またこの可動フレーム１２の背面の上端部には、薄板状の基板支持プレート１３が連続形成されている。この基板支持プレート１３は、基板Ｓの端縁部を下方から支持するためのもので、その上端面は、可動フレーム１２の上端面より高くなるように設定されている。 The fixed side holder 2 of this embodiment has a base frame 11 standing upright. On the back side of the base frame 11, a movable frame 12 having a predetermined thickness is supported by a plurality of compression springs 14 so as to be displaced downward (see FIG. 7). A thin plate-like substrate support plate 13 is continuously formed at the upper end of the back surface of the movable frame 12. The substrate support plate 13 is for supporting the edge of the substrate S from below, and its upper end surface is set to be higher than the upper end surface of the movable frame 12.

ベースフレーム１１および可動フレーム１２の上には、長尺状の保護ブロック１５が配備される。この保護ブロック１５は、ベースフレーム１１と可動フレーム１２との間に立設された一対のレール１６（図６，７に示す。）により支持される。また保護ブロック１５には、基板Ｓの右側端縁支持用のガイド片９を取り付けるための溝部１７が設けられる。 A long protective block 15 is provided on the base frame 11 and the movable frame 12. The protection block 15 is supported by a pair of rails 16 (shown in FIGS. 6 and 7) that are erected between the base frame 11 and the movable frame 12. Further, the protective block 15 is provided with a groove portion 17 for attaching the guide piece 9 for supporting the right edge of the substrate S.

ベースフレーム１１の前面側には、スライドフレーム２１を有するスライド機構２０が設けられる。このスライドフレーム２１は、左右に２本ずつ設けられた水平レール２２および左手側に設けられた引っ張りバネ２３により、左右に移動可能に支持される。また、スライドフレーム２１の左右には、それぞれこのフレーム２１の移動範囲を規制するためのストッパ２４，２５が設けられている。 A slide mechanism 20 having a slide frame 21 is provided on the front side of the base frame 11. The slide frame 21 is supported so as to be movable left and right by a horizontal rail 22 provided on the left and right sides and a tension spring 23 provided on the left hand side. Further, stoppers 24 and 25 for restricting the movement range of the frame 21 are provided on the left and right sides of the slide frame 21, respectively.

スライドフレーム２１の下部には、前方に突出する取付部材２６を介してローラ２７が取り付けられている（以下、このローラ２７を「下部ローラ２７」という。）。この下部ローラ２７は、回転軸の方向を垂直にして配備されている。 A roller 27 is attached to the lower portion of the slide frame 21 via an attachment member 26 protruding forward (hereinafter, this roller 27 is referred to as a “lower roller 27”). The lower roller 27 is arranged with the direction of the rotation axis being vertical.

図３では、下部ローラ２７の位置を、網点パターンにより示している。この図に示すように、下部ローラ２７は、支持台１０８上に設けられた第１ガイド部５１の右側面に接触する。 In FIG. 3, the position of the lower roller 27 is indicated by a halftone dot pattern. As shown in this figure, the lower roller 27 contacts the right side surface of the first guide portion 51 provided on the support base 108.

第１ガイド部５１は、図２、図８−２に示すように、前方から後方に向かうほど幅狭になるように、下部ローラ２７への接触面が湾曲している。基板ステージ１０が初期位置にあるときには、下部ローラ２７は、第１ガイド部５１の前端部（図２のＰ１の位置）にある。この後、基板ステージ１０がＹ軸の正方向に沿って移動するのに伴い、下部ローラ２７は第１ガイド部５１によって、Ａ方向に沿って変位する。すなわち、図２のＰ１，Ｐ２，Ｐ３に示す経路を辿ることになる。スライドフレーム２１は、この下部ローラ２７の変位を受けて、ベースフレーム１１上をＡ方向に沿って移動する。 As shown in FIGS. 2 and 8-2, the first guide portion 51 has a curved contact surface with the lower roller 27 so that the width decreases from the front to the rear. When the substrate stage 10 is in the initial position, the lower roller 27 is at the front end of the first guide portion 51 (position P1 in FIG. 2). Thereafter, as the substrate stage 10 moves along the positive direction of the Y axis, the lower roller 27 is displaced along the A direction by the first guide portion 51. That is, the route indicated by P1, P2, and P3 in FIG. The slide frame 21 receives the displacement of the lower roller 27 and moves on the base frame 11 along the A direction.

スライドフレーム２１の上端縁は、中央部がＵ字状に切り欠かれており、この切り欠き部分の左右にそれぞれ案内部材２８が設けられる。各案内部材２８は、断面がＬ字状の部材であって、上端縁がスライドフレーム２１より上方に突出している。さらに、この上端縁には、左から右に向かう方向（Ｂ方向）を上り方向とする傾斜面２９が形成されている。 The upper edge of the slide frame 21 has a U-shaped cutout at the center, and guide members 28 are provided on the left and right sides of the cutout portion. Each guide member 28 is a member having an L-shaped cross section, and an upper end edge projects upward from the slide frame 21. Further, an inclined surface 29 is formed at the upper edge, with the direction from the left to the right (direction B) as the upward direction.

上記の水平レール２２、引っ張りバネ２３、ストッパ２４，２５、取付部材２６、下部ローラ２７、および案内部材２８は、スライドフレーム２１とともにスライド機構２０を構成する。このスライド機構２０は、自己の変位をクランプ機構３０に作用させて、クランプ状態と非クランプ状態とを切り換える機能を具備する。 The horizontal rail 22, the tension spring 23, the stoppers 24 and 25, the attachment member 26, the lower roller 27, and the guide member 28 constitute a slide mechanism 20 together with the slide frame 21. The slide mechanism 20 has a function of switching between a clamped state and an unclamped state by causing the self-displacement to act on the clamp mechanism 30.

クランプ機構３０は、一対の長尺状のクランプ爪支持ブロック３１、クランプ爪支持ブロック３１により支持されたクランプ爪３２、各クランプ爪支持ブロック３１の前面に軸支されたローラ３３（以下、「上部ローラ３３」という。）などにより構成される。上部ローラ３３は上下動機構の一態様である。 The clamp mechanism 30 includes a pair of long clamp claw support blocks 31, a clamp claw 32 supported by the clamp claw support block 31, and a roller 33 (hereinafter referred to as “upper part” supported on the front surface of each clamp claw support block 31. The roller 33 ”). The upper roller 33 is an aspect of a vertical movement mechanism.

各クランプ爪支持ブロック３１は、スライドフレーム２１の上方位置に、Ａ，Ｂ方向（基板Ｓの一端縁に沿う方向）に沿って設けられた軸３４を介して回転可能に支持される。また、保護ブロック１５と同様に、長手方向がＡ，Ｂ方向に対応づけられており、所定数の圧縮バネ３５を介して保護ブロック１５に連結されている。 Each clamp pawl support block 31 is rotatably supported at a position above the slide frame 21 via a shaft 34 provided along the A and B directions (the direction along one edge of the substrate S). Similarly to the protection block 15, the longitudinal direction is associated with the A and B directions and is connected to the protection block 15 via a predetermined number of compression springs 35.

クランプ爪支持ブロック３１の上面には、長手方向に延びる溝部３６が形成される。クランプ爪３２は、この溝部３６にネジ３７により固定される。なお、図示例では、左右のクランプ爪支持ブロック３１にそれぞれ２個のクランプ爪３２を取り付けているが、クランプ爪３２の数や固定位置は、自由に変更することができる。 A groove 36 extending in the longitudinal direction is formed on the upper surface of the clamp pawl support block 31. The clamp pawl 32 is fixed to the groove portion 36 with a screw 37. In the illustrated example, two clamp claws 32 are attached to the left and right clamp claw support blocks 31, respectively. However, the number and fixing positions of the clamp claws 32 can be freely changed.

上部ローラ３３は、その外周面をスライドフレーム２１の案内部材２８の傾斜面２９に接触させた状態にして設けられる。よって案内部材２８がスライドフレーム２１とともに左右に移動すると、上部ローラ３３に接触する部分の高さが変わるため、上部ローラ３３は回転しながら上昇または下降する。 The upper roller 33 is provided with its outer peripheral surface in contact with the inclined surface 29 of the guide member 28 of the slide frame 21. Therefore, when the guide member 28 moves to the left and right together with the slide frame 21, the height of the portion in contact with the upper roller 33 changes, so that the upper roller 33 moves up or down while rotating.

また、図６（１）に示すように、上部ローラ３３は、傾斜面２９の最も低い位置に接触しているときには、前面側が下がった状態になっている。また、上部ローラ３３がこのような状態下にあるときは、クランプ爪３２が持ち上げられて基板Ｓから離れた状態（すなわち非クランプ状態）になるように、クランプ爪支持ブロック３１の姿勢が調整されている。 As shown in FIG. 6A, when the upper roller 33 is in contact with the lowest position of the inclined surface 29, the front side is in a lowered state. In addition, when the upper roller 33 is in such a state, the posture of the clamp claw support block 31 is adjusted so that the clamp claw 32 is lifted and separated from the substrate S (that is, the unclamped state). ing.

上記の状態から案内部材２８がＡ方向に沿って移動すると、上部ローラ３３はしだいに持ち上げられ、最終的に回転軸の方向が水平に近い状態になる。クランプ爪支持ブロック３１は、この上部ローラ３３の動きに合わせて基板Ｓに向かう方向に軸回転する。これによりクランプ爪３２も基板Ｓ側に下降する。また、クランプ爪支持ブロック３１が保護ブロック１５に接近することにより、両者間の圧縮バネ３５はさらに圧縮される。 When the guide member 28 moves along the direction A from the above state, the upper roller 33 is gradually lifted, and finally the direction of the rotation shaft becomes nearly horizontal. The clamp pawl support block 31 rotates in the direction toward the substrate S in accordance with the movement of the upper roller 33. As a result, the clamp pawl 32 also descends toward the substrate S side. Further, when the clamp pawl support block 31 approaches the protection block 15, the compression spring 35 between them is further compressed.

上記構成の固定側ホルダ２では、基板ステージ１０が初期位置にあるときは、スライドフレーム２１は、引っ張りバネ２３により右側のストッパ２５に当接した状態で支持されている。このとき、上部ローラ３３は、案内部材２８の傾斜面２９の最も低い位置に接触するので、クランプ爪３２は持ち上げられている。すなわち、基板Ｓは固定されておらず、いわゆる非クランプ状態にある（図５（１）、図６（１）、図８−１を参照。）。また、基板ステージ１０が初期位置にあるときは、スライドフレーム２１に取り付けられた下部ローラ２７は、図２のＰ１の位置に接触している。 In the fixed side holder 2 configured as described above, when the substrate stage 10 is in the initial position, the slide frame 21 is supported in a state of being in contact with the right stopper 25 by the tension spring 23. At this time, the upper roller 33 is in contact with the lowest position of the inclined surface 29 of the guide member 28, so the clamp pawl 32 is lifted. That is, the substrate S is not fixed and is in a so-called unclamped state (see FIGS. 5A, 6A, and 8-1). When the substrate stage 10 is in the initial position, the lower roller 27 attached to the slide frame 21 is in contact with the position P1 in FIG.

基板ステージ１０が初期位置からＹ軸の正方向に向かって移動すると、下部ローラ２７が第１ガイド部５１に案内されて、Ａ方向に沿って変位する。この下部ローラ２７の変位に伴い、スライドフレーム２１およびその上部に取り付けられている案内部材２８がＡ方向に沿って移動し、案内部材２８の傾斜面２９と上部ローラ３３との位置関係が変化する。これにより上部ローラ３３が上方に持ち上げられて、クランプ爪支持ブロック３１が基板に向かう方向に回転し、クランプ爪３２の先端が基板Ｓの上面に接触する。よって基板Ｓは、クランプ爪３２の先端部と基板支持プレートとに挟持された状態で固定され、いわゆるクランプ状態になる（図５（２）、図６（２）、図８−２を参照。）。 When the substrate stage 10 moves from the initial position toward the positive direction of the Y axis, the lower roller 27 is guided by the first guide portion 51 and displaced along the A direction. Along with the displacement of the lower roller 27, the slide frame 21 and the guide member 28 attached to the upper portion thereof move along the A direction, and the positional relationship between the inclined surface 29 of the guide member 28 and the upper roller 33 changes. . As a result, the upper roller 33 is lifted upward, the clamp pawl support block 31 rotates in the direction toward the substrate, and the tip of the clamp pawl 32 contacts the upper surface of the substrate S. Therefore, the board | substrate S is fixed in the state clamped by the front-end | tip part of the clamp nail | claw 32, and a board | substrate support plate, and will be in what is called a clamp state (refer FIG. 5 (2), FIG. 6 (2), and FIG. 8-2. ).

さらにこのとき、クランプ爪３２の押圧力により、背面側の基板支持プレート１３および可動フレーム１２が基板Ｓの厚みの分だけ下降する。よって、クランプ爪３２は、可動範囲のリミット位置まで下りて基板Ｓを支持する。後記するように、後方のホルダ部３でも同様の状態になるので、クランプ後の基板の上面を、一定の高さ位置で保持することができる。 Furthermore, at this time, the substrate support plate 13 and the movable frame 12 on the back side are lowered by the thickness of the substrate S due to the pressing force of the clamp claws 32. Therefore, the clamp pawl 32 supports the substrate S by descending to the limit position of the movable range. As will be described later, since the rear holder unit 3 is also in the same state, the upper surface of the substrate after clamping can be held at a certain height position.

上記のクランプ状態が成立したとき、下部ローラ２７は、図２のＰ３の位置にある。この後、基板ステージ１０がさらにＹ軸の正方向に沿って進むと、下部ローラ２７は第１ガイド部５１から離れる。しかし、スライドフレーム２１が引っ張りバネ２３により左側のストッパ２４に当接する位置まで引っ張られ、上部ローラ３３が案内部材２８の最も高い部分に乗り上げて固定されているので、クランプ状態は維持される。よって図２の矢印Ｐで示すように、下部ローラ２７についても、Ｐ３にあるときの位置が保持される。 When the above clamping state is established, the lower roller 27 is at a position P3 in FIG. Thereafter, when the substrate stage 10 further advances along the positive direction of the Y axis, the lower roller 27 moves away from the first guide portion 51. However, the slide frame 21 is pulled to a position where it comes into contact with the left stopper 24 by the tension spring 23 and the upper roller 33 rides on the highest portion of the guide member 28 and is fixed, so that the clamped state is maintained. Therefore, as shown by the arrow P in FIG. 2, the position when the lower roller 27 is at P3 is also maintained.

この後、基板ステージ１０の移動方向がＹ軸の負方向に切り替えられ、初期位置に近づくと、下部ローラ２７は再び第１ガイド部５１に接触する。今度は、下部ローラ２７の位置は、前記したのとは逆に、Ｂ方向に沿って（Ｐ３，Ｐ２，Ｐ１の順に）変化するので、スライドフレーム２１および案内部材２８はＢ方向に沿って移動し、上部ローラ３３が下降する。 Thereafter, the moving direction of the substrate stage 10 is switched to the negative direction of the Y axis, and when approaching the initial position, the lower roller 27 comes into contact with the first guide portion 51 again. This time, the position of the lower roller 27 is changed along the B direction (in the order of P3, P2, P1) contrary to the above, so that the slide frame 21 and the guide member 28 move along the B direction. Then, the upper roller 33 is lowered.

クランプ爪支持ブロック３１は、上部ローラ３３の下降と圧縮バネ３５の復元力とによって、基板Ｓから離れる方向に回転する。よって、クランプ爪３２も基板から離れ、非クランプ状態に復帰する。 The clamp pawl support block 31 rotates in a direction away from the substrate S by the lowering of the upper roller 33 and the restoring force of the compression spring 35. Therefore, the clamp pawl 32 also moves away from the substrate and returns to the unclamped state.

図９は、後方の可動式のホルダ部３（以下、「可動側ホルダ３」という。）の正面（基板ステージ１０の背面に対応する。）の構成を示す。この図でも、固定側ホルダ２と同様に、クランプ状態と非クランプ状態とを対比させて示す。 FIG. 9 shows the configuration of the front surface (corresponding to the back surface of the substrate stage 10) of the rear movable holder portion 3 (hereinafter referred to as “movable side holder 3”). Also in this figure, similarly to the fixed side holder 2, the clamped state and the unclamped state are shown in comparison.

なお、可動側ホルダ３の側面および内面側の構成については、固定側ホルダ２とほぼ同様であるため、図示を省略する。また固定側ホルダ２に対応する部材については、固定側ホルダ２の対応部材と同じ符号を付すことにより、説明を省略または簡単にする。また、以下の説明で左右関係を言う場合は、可動側ホルダ３の正面を基準にせず、これまでと同様に、Ａ方向を左側、Ｂ方向を右側とする。 The configuration of the side surface and the inner surface side of the movable side holder 3 is substantially the same as that of the fixed side holder 2, and is not shown. Further, members corresponding to the fixed side holder 2 are denoted by the same reference numerals as those of the corresponding member of the fixed side holder 2, so that the description is omitted or simplified. In the following description, when referring to the left-right relationship, the front side of the movable holder 3 is not used as a reference, and the A direction is the left side and the B direction is the right side as before.

可動側ホルダ３も、固定側ホルダ２と同様に、垂直に起立するベースフレーム１１を具備する。また、このベースフレーム１１の裏面側に、基板支持プレート１３が一体化された可動フレーム１２が上下動可能に設けられる点や、上面側に保護ブロック１５が設けられる点も、固定側ホルダ２と同様である。ただし、可動側ホルダ３の保護ブロック１５には、溝部１７は形成されていない。 Similar to the fixed side holder 2, the movable side holder 3 also includes a base frame 11 that stands vertically. In addition, the point that the movable frame 12 in which the substrate support plate 13 is integrated is provided on the back surface side of the base frame 11 so as to be movable up and down, and the protection block 15 is provided on the upper surface side. It is the same. However, the groove portion 17 is not formed in the protective block 15 of the movable side holder 3.

ベースフレーム１１の前面側のスライド機構２０や、クランプ機構３０も、基本的な構成は固定側ホルダ２と同様である。ただし、可動側ホルダ３の前面は基板ステージ１０の背面に対応するため、案内部材２８の傾斜面２９は、固定側ホルダ２の案内部材２８とは上り方向が逆になるように形成される。 The basic structure of the slide mechanism 20 on the front side of the base frame 11 and the clamp mechanism 30 is the same as that of the fixed side holder 2. However, since the front surface of the movable holder 3 corresponds to the back surface of the substrate stage 10, the inclined surface 29 of the guide member 28 is formed so that the upward direction is opposite to the guide member 28 of the fixed side holder 2.

さらに可動側ホルダ３では、スライドフレーム２１の右手側と、右手上部の水平レール２２の左端に対向する位置の２箇所に、ストッパ２４，２５が設けられる。また、スライドフレーム２１の左手側には、ロック機構４０が設けられる。このロック機構４０は、ストッパ２５とともに、スライドフレーム２１のＡ方向に沿う移動の範囲を規制し、またクランプ状態の維持や解除に関わる。 Further, in the movable side holder 3, stoppers 24 and 25 are provided at two positions, which are opposed to the right hand side of the slide frame 21 and the left end of the horizontal rail 22 in the upper right hand. A lock mechanism 40 is provided on the left hand side of the slide frame 21. The locking mechanism 40 regulates the range of movement of the slide frame 21 along the A direction together with the stopper 25, and is involved in maintaining and releasing the clamped state.

ここでロック機構４０の詳細な構成について、図１１の拡大された正面図を用いて説明する。
このロック機構４０には、ベースフレーム１１の面に直交する軸に軸支される支持部４１、この支持部４１の軸に取り付けられたロックレバー４２、ロックレバー４２の姿勢調整用の引っ張りバネ４３などが含まれる。また、支持部４１は、ベースフレーム１１より下方に突出しており、この突出部分に、軸方向を水平にした回転軸４４を介してローラ４５が取り付けられる。また、スライドフレーム２１側には、ロックレバー４２を案内して係止する部材４６（以下、「案内係止部４６」という。）が設けられる。これら回転軸４４，ローラ４５、案内係止部４６も、ロック機構４０に含められる。 Here, a detailed configuration of the lock mechanism 40 will be described using the enlarged front view of FIG.
The lock mechanism 40 includes a support portion 41 that is pivotally supported on an axis orthogonal to the surface of the base frame 11, a lock lever 42 attached to the shaft of the support portion 41, and a tension spring 43 for adjusting the posture of the lock lever 42. Etc. are included. Moreover, the support part 41 protrudes below the base frame 11, and the roller 45 is attached to this protrusion part via the rotating shaft 44 which made the axial direction horizontal. Further, on the slide frame 21 side, a member 46 for guiding and locking the lock lever 42 (hereinafter referred to as “guide locking portion 46”) is provided. The rotating shaft 44, the roller 45, and the guide locking portion 46 are also included in the lock mechanism 40.

ロックレバー４２は、先端の爪部４２ａを下に向け、引っ張りバネ４３によって、長さ方向を水平にした状態で支持されている。案内係止部４６の上端縁には、案内部材２８と同じ方向に傾斜する傾斜面４７と上記の爪部４２ａに対する係合溝４８とが連続形成されている。 The lock lever 42 is supported in a state in which the length direction is horizontal by a tension spring 43 with the claw portion 42a at the front end facing downward. An inclined surface 47 that is inclined in the same direction as the guide member 28 and an engaging groove 48 for the claw portion 42a are formed continuously at the upper end edge of the guide locking portion 46.

図２に示した第２ガイド部５２はスライド機構２０の下部ローラ２７に、第３ガイド部５３はロック機構４０のローラ４５に、それぞれ接触するように位置が調整されている。第２ガイド部５２では、基板ステージ１０のＹ軸の正方向への移動に応じて下部ローラ２７がＡ方向に沿って変位するように、下部ローラ２７に接触する左側面が湾曲している。この下部ローラ２７の軌跡は、図２に点Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３および矢印Ｑにより示すとおりである。 The position of the second guide portion 52 shown in FIG. 2 is adjusted so as to contact the lower roller 27 of the slide mechanism 20 and the position of the third guide portion 53 to the roller 45 of the lock mechanism 40. In the second guide portion 52, the left side surface in contact with the lower roller 27 is curved so that the lower roller 27 is displaced along the A direction in accordance with the movement of the substrate stage 10 in the positive direction of the Y axis. The locus of the lower roller 27 is as shown by points Q1, Q2, Q3 and an arrow Q in FIG.

一方、第３ガイド部５３は、図１０に示すように、中央の平坦面５５の前後に、それぞれこの平坦面５５に向かう方向を上り方向とする傾斜面５４，５６が形成された構成のものである。ロック機構４０のローラ４５は、これらの面５４，５５，５６に順に案内されて、上下動する。このローラ４５の上下動とスライドフレーム２１の移動とによって、ロックレバー４２の爪部４２ａと案内係止部４６との位置関係が変化する。図１１の（１）（２）（３）は、このロック機構４０の変化の様子を、順を追って示している。 On the other hand, as shown in FIG. 10, the third guide portion 53 has a configuration in which inclined surfaces 54 and 56 are formed on the front and rear of the central flat surface 55, respectively, with the direction toward the flat surface 55 as the upward direction. It is. The roller 45 of the lock mechanism 40 is guided in turn by these surfaces 54, 55, 56 and moves up and down. The positional relationship between the claw portion 42a of the lock lever 42 and the guide locking portion 46 is changed by the vertical movement of the roller 45 and the movement of the slide frame 21. (1), (2), and (3) in FIG. 11 show changes in the lock mechanism 40 in order.

上記構成の可動側ホルダ３では、基板ステージ１０が初期位置にある状態下では、スライドフレーム２１は、引っ張りバネ２３によってＢ方向に引っ張られた状態で支持されている。また、このときの上部ローラ３３は、案内部材２８の最も低い位置に接触しているので、固定側ホルダ２と同様に、クランプ爪３２が持ち上がり、基板は非クランプ状態にある。また、このとき下部ローラ２７は、図２のＱ１の位置にある。 In the movable holder 3 configured as described above, the slide frame 21 is supported in a state of being pulled in the B direction by the tension spring 23 when the substrate stage 10 is in the initial position. Further, since the upper roller 33 at this time is in contact with the lowest position of the guide member 28, the clamp claw 32 is lifted up like the stationary side holder 2, and the substrate is in an unclamped state. At this time, the lower roller 27 is at the position Q1 in FIG.

ここで基板ステージ１０がＹ軸の正方向に向かって移動すると、下部ローラ２７が、Ａ方向に沿って変位するので、スライドフレーム２１もＡ方向に移動する。この移動に伴い、案内部材２８も同様に移動し、固定側ホルダ２と同様に上部ローラ３３が持ち上げられてクランプ爪支持ブロック３１が基板Ｓに近づく方向に回転する。よってクランプ爪３２も基板Ｓの方に下降し、基板支持プレート１３とクランプ爪３２との間に基板Ｓが挟持され、クランプ状態となる。また基板支持プレート１３および可動フレーム１２は、クランプ爪３２の押圧力により下降する。 Here, when the substrate stage 10 moves in the positive direction of the Y axis, the lower roller 27 is displaced along the A direction, so that the slide frame 21 also moves in the A direction. Along with this movement, the guide member 28 moves in the same manner, and the upper roller 33 is lifted and the clamp pawl support block 31 rotates in the direction approaching the substrate S, similarly to the fixed side holder 2. Therefore, the clamp claws 32 are also lowered toward the substrate S, and the substrate S is sandwiched between the substrate support plate 13 and the clamp claws 32, and a clamped state is obtained. The substrate support plate 13 and the movable frame 12 are lowered by the pressing force of the clamp claws 32.

一方、ロック機構４０のロックレバー４２は、基板ステージ１０が初期位置にあるときは、案内係止部４６の左端、すなわち傾斜面４７の一番低い位置に接触している。この後、基板ステージ１０がＹ軸の正方向に沿って移動すると、ロック機構４０のローラ４５が第３ガイド部５３に導かれて上昇する。また、スライドフレーム２１がしだいにロック機構４０に近づいてくるので、ロックレバー４２はしだいに傾斜面４７の高い位置に接触する（図１１（１）（２）参照）。また、ローラ４５が第３ガイド部５３の平坦面５５から傾斜面５６に移動して下降したとき、スライドフレーム２１がストッパ２５に当たって止まるとともに、ロックレバー４２の爪部４２ａが案内係止部４６の係合溝４８に係合する（図１１（３）参照。）。この係合のタイミングは、クランプ状態の成立とほぼ同時になるように、各機構の関係が調整されている。 On the other hand, when the substrate stage 10 is in the initial position, the lock lever 42 of the lock mechanism 40 is in contact with the left end of the guide locking portion 46, that is, the lowest position of the inclined surface 47. Thereafter, when the substrate stage 10 moves along the positive direction of the Y axis, the roller 45 of the lock mechanism 40 is guided to the third guide portion 53 and raised. Further, since the slide frame 21 gradually approaches the lock mechanism 40, the lock lever 42 gradually contacts the high position of the inclined surface 47 (see FIGS. 11 (1) and (2)). Further, when the roller 45 moves from the flat surface 55 of the third guide portion 53 to the inclined surface 56 and descends, the slide frame 21 comes into contact with the stopper 25 and stops, and the claw portion 42a of the lock lever 42 engages with the guide engaging portion 46. It engages with the engaging groove 48 (see FIG. 11 (3)). The relationship between the mechanisms is adjusted so that the timing of this engagement is almost simultaneously with the establishment of the clamped state.

上記のロックレバー４２と案内係止部４６との係合により、スライドフレーム２１が固定され、上部ローラ３３と案内部材２８との関係も保持される。よって、下部ローラ２７が第２ガイド部５２から離れた後も、クランプ状態が維持される。 The slide frame 21 is fixed by the engagement of the lock lever 42 and the guide locking portion 46, and the relationship between the upper roller 33 and the guide member 28 is also maintained. Therefore, the clamped state is maintained even after the lower roller 27 is separated from the second guide portion 52 .

この後、基板ステージ１０の搬送方向がＹ軸の負方向に切り換えられると、上記とは反対の動きによりロックレバー４２の係合が解除され、スライドフレーム２１は、引っ張りバネ２３の付勢力により元の位置に復帰する。これにより上部ローラ３３が下降し、クランプ状態が解除される。 Thereafter, when the transport direction of the substrate stage 10 is switched to the negative direction of the Y axis, the engagement of the lock lever 42 is released by the opposite movement to the above, and the slide frame 21 is restored to the original by the urging force of the tension spring 23. Return to the position. As a result, the upper roller 33 is lowered and the clamped state is released.

上記したように、固定側ホルダ２、可動側ホルダ３とも、基板ステージ１０のＹ軸に沿う移動に伴うスライド機構２０の変位によって、クランプ状態と非クランプ状態とが自動的に切り換えられる。また、クランプ状態下では、基板支持プレート１３および可動フレーム１２が基板の厚み分だけ下降するので、クランプ爪３２を可動範囲のリミット位置まで下ろして、その先端部に基板Ｓの上面を合わせることができ、基板Ｓを、その厚みに関わらず、上面が一定の高さになるようにして支持することができる。よって、ボールねじ機構６０のモータ６４以外の駆動源を使用することなく、基板Ｓを安定して支持し、検査を実行することができる。 As described above, both the fixed side holder 2 and the movable side holder 3 are automatically switched between the clamped state and the unclamped state by the displacement of the slide mechanism 20 accompanying the movement of the substrate stage 10 along the Y axis. In the clamped state, the substrate support plate 13 and the movable frame 12 are lowered by the thickness of the substrate. Therefore, the clamp pawl 32 is lowered to the limit position of the movable range, and the upper surface of the substrate S is aligned with the tip portion. The substrate S can be supported so that the upper surface has a constant height regardless of its thickness. Therefore, it is possible to stably support the substrate S and execute the inspection without using a driving source other than the motor 64 of the ball screw mechanism 60.

なお、上記の例の基板支持装置１００は、クランプ爪３２によって基板Ｓの上面を押圧する構成のものであるが、クランプ機構３０はこれに限定されるものではない。たとえば、固定側ホルダ２や可動側ホルダ３の内側に上記と同様のスライド機構２０を設けるとともに、その上方に基板を下面側から押し上げる押圧部材を配備し、スライド機構２０の左右への移動によって押圧部材を上下動させてもよい。 In addition, although the board | substrate support apparatus 100 of said example is a thing of the structure which presses the upper surface of the board | substrate S by the clamp nail | claw 32, the clamp mechanism 30 is not limited to this. For example, a slide mechanism 20 similar to the above is provided inside the fixed-side holder 2 and the movable-side holder 3, and a pressing member that pushes up the substrate from the lower surface side is provided above the slide mechanism 20. The member may be moved up and down.

また、スライド機構やこの機構を変位させるガイド部の構成についても、上記の実施例に限定されるものではない。たとえば図１２および図１３、または図１４に示すような変形例（いずれも固定側ホルダ２側の構成のみを示す。）を考えることができる。 Further, the configuration of the slide mechanism and the guide portion for displacing the mechanism is not limited to the above embodiment. For example, a modified example as shown in FIG. 12 and FIG. 13 or FIG. 14 (all show only the configuration on the fixed side holder 2 side) can be considered.

図１２および図１３に示す第１の変形例では、主要な構成は、最初の実施例と同様である（図示していないが、ガイド部５１〜５３も同様である。）。変更されているのは、スライド機構２０の案内部材２８がリンク部材７１に置き換えられた点と、クランプ機構３０の上部ローラ３３が固定用ネジ７２に置き換えられた点である。リンク部材７１は、複数の部材を棒状に連結させたもので、両端部７１ａ，７１ｂにはネジ止め用の孔部（図示せず。）が形成されている。 In the first modification shown in FIGS. 12 and 13, the main configuration is the same as that in the first embodiment (not shown, but the guide portions 51 to 53 are also the same). What has been changed is that the guide member 28 of the slide mechanism 20 is replaced with the link member 71 and the upper roller 33 of the clamp mechanism 30 is replaced with the fixing screw 72. The link member 71 is formed by connecting a plurality of members in a rod shape, and holes (not shown) for screwing are formed in both end portions 71a and 71b.

リンク部材７１の一端７１ａは、固定用ネジ７２により、クランプ機構３０の上部ローラ３３と同様の位置に固定され、他端７１ｂは、スライドフレーム２１の下端部に固定される（以下、７１ａ，７１ｂを、それぞれ「上端部７１ａ」「下端部７１ｂ」という。）。また、下端側７１ｂの固定位置は、スライドフレーム２１が最も左に寄っているときに、リンク部材７１が垂直状態になるように調整されている。なお、リンク部材７１は上記のものに限らず、単一の長尺状の部材を用いてもよい。 One end 71a of the link member 71 is fixed at the same position as the upper roller 33 of the clamp mechanism 30 by a fixing screw 72, and the other end 71b is fixed to the lower end of the slide frame 21 (hereinafter referred to as 71a, 71b). Are referred to as “upper end 71a” and “lower end 71b”, respectively). Further, the fixing position of the lower end side 71b is adjusted so that the link member 71 is in a vertical state when the slide frame 21 is moved to the leftmost side. The link member 71 is not limited to the above, and a single long member may be used.

上記構成においても、基板ステージ１０が初期位置にあるときは、スライドフレーム２１は最も右寄り（右側ストッパ２５に当接している状態）になる。このため、図１２（１）、図１３（１）に示すように、リンク部材７１も、下端部７１ｂが上端部７１ａより右に寄った傾斜状態になるため、クランプ爪支持ブロック３１は、ベースフレーム１１側に引き寄せられた状態、すなわち基板Ｓから離れた状態となる。よって、クランプ爪３２も基板Ｓから離れ、非クランプ状態が設定される。 Also in the above configuration, when the substrate stage 10 is in the initial position, the slide frame 21 is located at the rightmost position (in contact with the right stopper 25). For this reason, as shown in FIGS. 12 (1) and 13 (1), the link member 71 is also inclined such that the lower end 71b is shifted to the right from the upper end 71a. It will be in the state pulled toward the frame 11 side, that is, the state separated from the substrate S. Therefore, the clamp pawl 32 is also separated from the substrate S, and the unclamped state is set.

基板ステージ１０が初期位置からＹ軸の正方向に沿って移動すると、第１実施例と同様に、下部ローラ２７がガイド部５１によってＡ方向側に変位し、これに伴ってスライドフレーム２１がＡ方向に沿って移動する。この移動により、リンク部材７１の姿勢はしだいに垂直状態に近づくので、クランプ爪支持ブロック３１は基板Ｓに向かう方向に回転する。最終的にスライドフレーム２１が左側ストッパ２４に当接する位置まで移動して、リンク部材７１が垂直になったとき、クランプ爪３２が基板Ｓに接触し、クランプ状態が設定される。また上記と逆の動作により、クランプ状態から非クランプ状態への切り換えが行われる。 When the substrate stage 10 moves from the initial position along the positive direction of the Y axis, the lower roller 27 is displaced to the A direction side by the guide portion 51 as in the first embodiment, and the slide frame 21 is moved along with this along the A direction. Move along the direction. By this movement, the posture of the link member 71 gradually approaches the vertical state, so that the clamp pawl support block 31 rotates in the direction toward the substrate S. When the slide frame 21 finally moves to a position where it comes into contact with the left stopper 24 and the link member 71 becomes vertical, the clamp pawl 32 comes into contact with the substrate S, and the clamp state is set. Also, switching from the clamped state to the unclamped state is performed by the reverse operation to the above.

図１４に示す第２の変形例では、スライドフレーム２１を、左右ではなく上下にスライドさせ、その上下方向の変位を、上部ローラ３３を介してクランプ爪支持ブロック３１に伝達するようにしている。具体的には、スライド機構２０側の下部ローラ２７を、水平方向（スライドフレーム２１の面に並行な方向）に沿う軸を介して、支持台１０８上を摺動可能に取り付けるとともに、この下部ローラ２７の動きに応じてスライドフレーム２１が上下動するように構成する。なお、図中、７４は、ベースフレーム１１に立設されたレールである。スライドフレーム２１は、支持部材７５を介して、このレール７４上に摺動可能に支持されている。 In the second modification shown in FIG. 14, the slide frame 21 is slid up and down instead of left and right, and the vertical displacement is transmitted to the clamp pawl support block 31 via the upper roller 33. Specifically, the lower roller 27 on the slide mechanism 20 side is slidably mounted on the support base 108 via an axis extending in the horizontal direction (a direction parallel to the surface of the slide frame 21). The slide frame 21 is configured to move up and down in accordance with the movement of 27. In the figure, reference numeral 74 denotes a rail erected on the base frame 11. The slide frame 21 is slidably supported on the rail 74 via a support member 75.

スライドフレーム２１の前面の上端位置には、断面Ｌ字状のローラ支持部材７３が設けられる。このローラ支持部材７３は、第１実施例の案内部材２８と同様に、上端部がスライドフレーム２１よりも突出し、かつクランプ機構３０の上部ローラ３３に接触している。上部ローラ３３は、このローラ支持部材７３の上下動に応じて同じ方向に変位する。クランプ爪支持ブロック３１（図１４では図示せず。）は、上部ローラ３３の上下動に応じて、軸３４を中心軸として、基板Ｓに向かう方向または基板Ｓから遠ざかる方向に回転する。 A roller support member 73 having an L-shaped cross section is provided at the upper end position on the front surface of the slide frame 21. As with the guide member 28 of the first embodiment, the roller support member 73 has an upper end protruding beyond the slide frame 21 and is in contact with the upper roller 33 of the clamp mechanism 30. The upper roller 33 is displaced in the same direction according to the vertical movement of the roller support member 73. The clamp pawl support block 31 (not shown in FIG. 14) rotates in the direction toward the substrate S or the direction away from the substrate S with the shaft 34 as the central axis in accordance with the vertical movement of the upper roller 33.

さらに、この実施例の支持台１０８には、Ｙ軸の正方向に沿って勾配が変化するガイド部７６が配備される。図１４中のＫ１は、基板ステージ１０が初期位置にあるときに下部ローラ２７が置かれる位置を示し、Ｋ２は、ガイド部７６の勾配変化が終了する地点を示す。この図に示すように、ガイド部の上面は、Ｋ１からＫ２に向けて緩やかに上昇する。さらに、固定側ホルダ２が移動し得る位置まで、Ｋ２における高さを維持したまま連続する。 Furthermore, a guide portion 76 whose gradient changes along the positive direction of the Y axis is provided on the support base 108 of this embodiment. K1 in FIG. 14 indicates a position where the lower roller 27 is placed when the substrate stage 10 is in the initial position, and K2 indicates a point where the gradient change of the guide portion 76 ends. As shown in this figure, the upper surface of the guide portion gently rises from K1 to K2. Furthermore, it continues, maintaining the height in K2 to the position where the fixed side holder 2 can move.

基板ステージ１０が初期位置にあるときは、図１４の（１）に示すように、スライドフレーム２１およびローラ支持部材７３は立ち下がった状態にある。このため、上部ローラ３３は、前面側が下がった状態になって、クランプ爪支持ブロック３３は基板Ｓから遠ざかる。よって、クランプ爪３２も基板Ｓから離れ、非クランプ状態となる。 When the substrate stage 10 is in the initial position, as shown in FIG. 14 (1), the slide frame 21 and the roller support member 73 are in a fallen state. For this reason, the upper roller 33 is in a state where the front side is lowered, and the clamp pawl support block 33 is moved away from the substrate S. Therefore, the clamp pawl 32 is also separated from the substrate S and is in an unclamped state.

基板ステージ１０の移動に伴い、下部ローラ２７がガイド部の傾斜面を上ると、スライドフレーム２１はしだいに上昇する。ローラ支持部材７３も同様に上昇するので、上部ローラ３３が押し上げられ、これに応じてクランプ爪支持ブロック３１が基板Ｓに向かう方向に回転し、クランプ爪３２も基板Ｓの側に下降する。 As the substrate stage 10 moves, the slide frame 21 gradually rises when the lower roller 27 moves up the inclined surface of the guide portion. Since the roller support member 73 is similarly raised, the upper roller 33 is pushed up, the clamp claw support block 31 is rotated in the direction toward the substrate S, and the clamp claw 32 is also lowered toward the substrate S.

この実施例では、下部ローラ２７がＫ２の地点に到達したときに、上部ローラ３３の軸がほぼ水平になるように、Ｋ１−Ｋ２間の勾配の変化量を調整している。よって、図１４（２）に示すように、下部ローラ２７がＫ２の地点に達したとき、クランプ爪３２の先端部が基板Ｓに接触する状態になり、クランプ状態が成立する。 In this embodiment, the amount of change in the gradient between K1 and K2 is adjusted so that the axis of the upper roller 33 becomes substantially horizontal when the lower roller 27 reaches the point K2. Therefore, as shown in FIG. 14 (2), when the lower roller 27 reaches the point K2, the tip of the clamp pawl 32 comes into contact with the substrate S, and the clamp state is established.

クランプ状態が成立した後に、基板ステージ１０がさらに進んだ場合も、ガイド部７６の上面の高さがＫ２のときの高さのまま維持されているので、クランプ状態が維持される。この後、所定位置で基板ステージ１０の移動方向が反転して、基板ステージ１０が初期位置の方に戻ってくると、上記とは反対に、下部ローラ２７がガイド部７６の傾斜面を下ってスライドフレーム２１が下降する。これに伴い、上部ローラ３３も下降し、クランプ爪３２によるクランプ状態が解除される。 Even when the substrate stage 10 further advances after the clamp state is established, the clamp state is maintained because the height of the upper surface of the guide portion 76 is maintained at the height when K2. Thereafter, when the moving direction of the substrate stage 10 is reversed at a predetermined position and the substrate stage 10 returns to the initial position, the lower roller 27 moves down the inclined surface of the guide portion 76, contrary to the above. The slide frame 21 is lowered. Along with this, the upper roller 33 is also lowered, and the clamped state by the clamp pawl 32 is released.

基板検査装置の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of a board | substrate inspection apparatus. 基板支持装置内の支持台の構成を示す上面図である。It is a top view which shows the structure of the support stand in a board | substrate support apparatus. 支持台の正面図である。It is a front view of a support stand. 基板ステージの全体構成を示す上面図である。It is a top view which shows the whole structure of a substrate stage. 基板ステージの固定側ホルダの構成を、非クランプ状態とクランプ状態とで対比して示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the stationary side holder of a substrate stage by contrasting with an unclamped state and a clamped state. 図５の固定側ホルダの側面を、拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the side surface of the stationary side holder of FIG. 固定側ホルダの背面図である。It is a rear view of a fixed side holder. 非クランプ状態の固定側ホルダの状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state of the fixed side holder of an unclamped state. クランプ状態の固定側ホルダの状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state of the fixed side holder of a clamped state. 基板ステージの可動側ホルダの構成を、非クランプ状態とクランプ状態とで対比して示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the movable side holder of a board | substrate stage by contrasting with an unclamped state and a clamped state. ロック機構用の第３ガイド部の構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of the 3rd guide part for lock mechanisms. ロック機構の構成およびその状態変化を示す拡大正面図である。It is an enlarged front view which shows the structure of a locking mechanism, and its state change. 変形実施例にかかる固定側ホルダの構成を、非クランプ状態とクランプ状態とで対比して示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the stationary-side holder concerning a modification by comparing with an unclamped state and a clamped state. 図１２の固定側ホルダの側面を、拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the side surface of the stationary side holder of FIG. 変形実施例にかかる固定側ホルダの構成を、非クランプ状態とクランプ状態とで対比して示す拡大側面図である。It is an enlarged side view which shows the structure of the stationary side holder concerning a modification by comparing with an unclamped state and a clamped state.

Explanation of symbols

１００基板支持装置
２固定側ホルダ
３可動側ホルダ
１０基板ステージ
２０スライド機構
２１スライドフレーム
２２水平レール
２３バネ
２４，２５ストッパ
２７下部ローラ
２８案内部材
２９傾斜面
３０クランプ機構
３１クランプ爪支持ブロック
３２クランプ爪
３３上部ローラ
３４軸
４０ロック機構
６０ボールねじ機構
６４モータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Substrate support device 2 Fixed side holder 3 Movable side holder 10 Substrate stage 20 Slide mechanism 21 Slide frame 22 Horizontal rail 23 Spring 24, 25 Stopper 27 Lower roller 28 Guide member 29 Inclined surface 30 Clamp mechanism 31 Clamp claw support block 32 Clamp claw 33 Upper roller 34 Shaft 40 Lock mechanism 60 Ball screw mechanism 64 Motor

Claims

A substrate stage for supporting the printed circuit board in a fixed state is installed on a support portion having a predetermined width so as to be capable of reciprocating along at least one specific axis.
The substrate stage includes a clamp mechanism that presses and fixes the edge of the substrate from either the upper or lower direction, and a state in which the substrate is fixed by the clamp mechanism by causing its own displacement to act on the clamp mechanism. And a slide mechanism that switches between the state in which is released,
The substrate support apparatus, wherein the support portion is provided with a guide portion that contacts the slide mechanism and displaces the mechanism while the substrate stage moves along the specific axis.

The clamp mechanism and the slide mechanism are provided in a state where the slide mechanism is positioned below the clamp mechanism, and both mechanisms are in contact with each other.
The slide mechanism is configured to move along one edge of the substrate by contacting the guide portion, and to change the height of a portion in contact with the clamp mechanism during the movement,
2. The clamp mechanism according to claim 1, wherein the clamp mechanism is configured to be switched between a state in which the substrate is fixed and a state in which the fixation is released by displacement according to a change in height of a contact portion of the slide mechanism. Substrate support device.

The clamp mechanism includes a clamp claw support portion rotatably supported on an axis along one edge of the substrate, a predetermined number of clamp claws supported by the clamp claw support portion, a clamp claw support portion, and a slide mechanism. Including a vertical movement mechanism provided in between,
The vertical movement mechanism moves up and down as the height of the contact portion changes due to the movement of the slide mechanism,
The clamp claw support portion rotates in a direction toward the substrate when the vertical movement mechanism is raised and fixes the upper surface of the substrate by the clamp claw, and rotates in a direction away from the substrate when the vertical movement mechanism is lowered. The substrate support device according to claim 2, wherein the fixed state by the clamp claw is released.

The clamp mechanism and the slide mechanism are provided at positions corresponding to an edge perpendicular to the specific axis of the substrate,
The slide mechanism includes a slide frame provided so as to be able to reciprocate along the edge of the substrate, and a roller connected to a portion corresponding to the guide portion of the slide frame,
The guide portion displaces the roller along a direction orthogonal to the moving direction while the substrate stage moves along the specific axis, and the slide frame has the same direction as the direction of displacement of the roller. The substrate support apparatus according to claim 2, which moves to the position.