JP4686869B2 - 半導体素子および半導体素子の評価方法 - Google Patents

半導体素子および半導体素子の評価方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4686869B2
JP4686869B2 JP2001051877A JP2001051877A JP4686869B2 JP 4686869 B2 JP4686869 B2 JP 4686869B2 JP 2001051877 A JP2001051877 A JP 2001051877A JP 2001051877 A JP2001051877 A JP 2001051877A JP 4686869 B2 JP4686869 B2 JP 4686869B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pad
wiring
pattern
semiconductor element
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001051877A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002252260A (ja
Inventor
寛隆 小林
幸一 上栗
和夫 西山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001051877A priority Critical patent/JP4686869B2/ja
Publication of JP2002252260A publication Critical patent/JP2002252260A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4686869B2 publication Critical patent/JP4686869B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子および半導体素子の評価方法に関し、特に電極間の接続信頼性評価に利用する半導体素子および半導体素子の評価方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置に搭載されているチップは、そのチップ間のそれぞれの電極がワイヤーボンドで接続され、相互にデータをやり取りしている。しかし、このようにチップどうしがワイヤーボンドで接続されていると、近年の機器の伝送データの大容量化、高速化による高周波数化においては、離れたチップ間のワイヤーボンドでの伝送中にデータの遅れなどによりデータのくずれが生じて正常な機能が発現できない場合がある。
【0003】
そこで、チップ間のそれぞれの電極を金などからなるバンプを介して接続したチップ・オン・チップ(Chip on Chip)構造のパッケージが開発されつつある。
チップ・オン・チップ構造は、基板に搭載されたチップの上に別のチップを搭載し、これらチップ間のそれぞれの電極をバンプを介して接続する構造を有し、チップがひとつの基板上に並べて配置されてワイヤーボンドで接続されていたこれまでの方法に比べ、チップ間の距離を短くできるので、データ伝送の高速化に対応でき、高周波数データの伝送時の遅れを抑えることができる方法として注目されている。さらに、チップ・オン・チップ構造の場合、基板上の実装面積を小さくすることができ、今後の半導体装置の高集積化にも対応することができる。
【0004】
チップ・オン・チップ構造の半導体装置に使用されるチップでは、その電極間の接続信頼性を評価することが、パッケージとしての信頼性を確認する上で重要である。現在の接続性信頼試験においては、評価をする評価チップと、評価チップが接続される基板チップの2種類を作製し、評価チップと基板チップとをバンプを介して接続し、さらに、基板チップから外部に電極を引き出して試験装置に接続し、評価チップと基板チップの接続を確認しながら評価を行う方法が採られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
評価チップ、基板チップは、ウェハ上に形成されたチップで、基板チップより配線が引き出せるように、評価チップは基板チップより小さく作られる。
【0006】
図7は評価チップと基板チップとが接続された状態の概略図である。図7では評価チップと基板チップの接続部分のうち、4箇所が接続されている部分のみ示している。
【0007】
評価チップ100は、電極パッド100a、100b、100c、100dを有しており、各電極パッド間は、100aと100bとの間が配線101で、100cと100dとの間が配線102でつながれている。
【0008】
一方、相手となる基板チップ200は、電極パッド200a、200b、200c、200d、および電極パッド200a、200dの引き出し電極パッド200e、200fを有しており、評価チップ100が基板チップ200と貼り合わされた際、評価チップ100の電極パッドと相対する位置に基板チップ200の電極パッドが形成されており、評価チップがつないでいない電極パッド間を配線でつないだパターンを有している。すなわち、200bと200cとの間が配線201でつながれている。
【0009】
これらの評価チップ100と基板チップ200とがバンプを介して接続される。評価チップ100が搭載された基板チップ200からは外部に電極が引き出され、外部リードに接続され、試験装置300につながれる。これにより、例えば、試験装置300から出る電流が、引き出し電極パッド200eから電極パッド200a、100a、100b、200b、200c、100c、100d、200dを順に通って引き出し電極パッド200fから試験装置300に戻る、という評価チップ100と基板チップ200とがひとつの経路で接続された構造が形成され、接続信頼性評価が行われる。
【0010】
しかし、上記の方法による接続信頼性評価では、評価チップと基板チップとが異なる配線パターンを有し、それぞれ別々の配線パターンで作る必要があるため、マスク材料が2倍必要になる。さらに、チップサイズを変えた評価を行う場合には、異なる配線パターンを有するそれぞれのウェハから、対応する大きさのチップを、新たにダイシングで切り出して作製しなければない。したがって、半導体素子の電極間の接続信頼性評価にはコスト、手間がかかってしまうといった問題があった。
【0011】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、多種類の半導体素子の接続信頼性評価に用いることができる配線パターンを有する半導体素子を提供することを目的とする。
【0012】
さらに、本発明は、半導体素子間の導通を評価する半導体素子の評価方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、チップ・オン・チップ構造のチップ間の電極の接続信頼性評価に利用され、マスクパターンを用いてパターンが形成されたウェハから切り出されて生成された、四角形のコアパターンからなる半導体素子において、電極パッドと、電極パッド間を電気的に接続する配線と、電極パッドから引き出された引き出し電極パッドとを備えるコアパターンを有し、コアパターンの一部と同じパターンの電極パッドおよび配線を備える他の半導体素子と貼り合わされることで、電極パッドおよび配線と他の半導体素子の電極パッドおよび配線とを結ぶひとつの経路が生成され、外部の試験装置から引き出し電極パッドに電流が供給されることで、経路の電気的導通状態が評価される、ことを特徴とする半導体素子が提供される。
【0014】
上記構成によれば、半導体素子と他の半導体素子とを貼り合わせた場合に、半導体素子の電極パッドおよび電極パッド間を接続する配線と、他の半導体素子の電極パッドおよび電極パッド間を接続する配線とを結ぶひとつの経路が生成される。さらに、引き出し電極パッドが電極パッドから引き出されているので、外部の試験装置からの電流を引き出し電極パッドから入れ、電極パッドと配線からなるひとつの経路を通って、別の引き出し電極パッドから出力することができる。これにより、同一配線パターンを有するコアパターンからなるウェハから評価チップと基板チップとを切り出して作製し、貼り合わせて接続することで、半導体素子のチップ・オン・チップ構造での接続信頼性評価をすることができるので、評価チップと基板チップとを同一のマスクパターンから作製することができる。
【0015】
さらに、ウェハからの切り出しのサイズを変えるだけでサイズの異なる半導体素子の接続信頼性評価に対応することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
評価チップ、基板チップを構成するコアパターンは、まず、ウェハ上に絶縁膜を形成し、この上にアルミニウムなどで配線を形成し、次いで、このウェハ上にさらに絶縁膜を形成した後、電極パッド部分の窓開けを行うことにより形成される。通常1mm×1mmのコアパターンがウェハ全体に形成され、これをダイシングで目的のチップサイズにカットし、接続信頼性評価に用いる。
【0017】
図1はコアパターンの概略図である。
コアパターン10は、1辺が1mmの正方形であって、各辺10a、10b、10c、10dで囲まれた内部に電極パッドと配線とが形成されており、辺10aの近傍に形成された電極パッド11と、辺10aに対向する辺10bの近傍に形成された電極パッド12と、電極パッド11の辺10cの側から2n−1番目と2n番目とを接続する配線13と、電極パッド12の辺10cの側から2n番目と2n+1番目とを接続する配線14と、配線13から電極パッド12の近傍に引き出された引き出し電極パッド15と、配線14から電極パッド11の近傍に引き出された引き出し電極パッド16とから構成されている。
【0018】
さらに、電極パッド11および電極パッド12は、辺10cの側からn番目の電極パッドが、ともに辺10cから等距離に、それぞれ辺10aおよび辺10bの近傍に形成されている。
【0019】
上記の構成のコアパターンを有する評価チップおよび基板チップを接続する方法について以下に説明する。
図2はウェハ上に形成されたコアパターンをチップサイズに切り出した図であり、(a)は基板チップ、(b)は評価チップを示している。
【0020】
ウェハ全体に形成されたコアパターンの集合体から基板チップ20を4mm×4mmサイズのコアパターン集合体に切り出す。評価チップ30は、2mm×2mmサイズのコアパターン集合体と、この集合体を構成する各コアパターンに隣接するコアパターンの境界近傍の電極パッドおよび配線を残して切り出されたパターンとからなる。
【0021】
切り出した基板チップ20、評価チップ30は、基板チップ20にスタッドバンプ若しくはメッキにより金バンプを形成し、この金バンプに評価チップ30の電極パッドを貼り合わせて、温度40℃で30秒程度の熱加圧により接続される。
【0022】
図3は切り出したチップの接続状態の説明図である。ただし、図3では評価チップ30のうち1個のコアパターン30aと、それに隣接するコアパターンの境界近傍の電極パッドおよび配線を含むパターン30bと、評価チップ30のコアパターン30aとパターン30bとに相対する基板チップ20のコアパターン20a、20bのみを示している。
【0023】
切り出した基板チップ20と評価チップ30とは、接続の際、評価チップ30を上下反転させ、さらに、評価チップ30および基板チップ20それぞれのコアパターン30aおよび20aが相対するように配置され基板チップ20に接続される。このとき、評価チップ30のパターン30bは、基板チップ20のコアパターン20b上に配置され、バンプを介して接続される。ここで、注目すべきは、コアパターン30aと20aとの間、およびパターン30bとコアパターン20bとの間では、一方のパターン内で、電極パッド間に配線がない部分、例えば電極パッド32と33との間の部分には、他方のパターン内の相対する電極パッド間、例えば、電極パッド32と33との間に相対する電極パッド23と24との間に配線が形成されている点である。すなわち、図1に示した配線パターンからなる基板チップ20、評価チップ30において、一方を上下反転して貼り合わせることにより、基板チップ20、評価チップ30に形成されている電極パッドおよび配線が、ひとつの経路で接続される。
【0024】
基板チップ20のコアパターン20bの引き出し電極パッド21および電極パッド27からはワイヤーボンドでパッケージの外部リードに配線が引き出され、試験装置40に接続される。試験装置40から流れる電流は、コアパターン20bの引き出し電極パッド21から電極パッド22、31、32、23、24、33、34、25、26の順に流れ、電極パッド27から出て、試験装置40に戻るよう構成され、接続信頼性の評価が行われる。
【0025】
図3では1個のコアパターン中に外部入力のための電極パッドと外部出力のための電極パッドとを設けたが、実際には配線を各コアパターンに引き回して試験装置40へ戻す構成とし、試験装置40へ接続する出力電極パッドの位置は、接続信頼性評価の目的に応じて変更可能である。
【0026】
上記の説明では、辺10a近傍の電極パッド11を接続する配線13から引き出した引き出し電極パッド15を形成し、かつ辺10aに対向する辺10bの近傍の電極パッド12を接続する配線14から引き出した引き出し電極パッド16を形成すようにしたが、引き出し電極パッド15の代わりに、配線13と配線14とを接続し、辺10b近傍の電極パッド12に引き出し電極パッド15の機能を代用させ、さらに、辺10a近傍の電極パッド11に引き出し電極パッド16の機能を代用させる配線パターンとしてもよい。
【0027】
図4は引き出し電極パッドの機能を他の電極パッドに代用させる配線パターンを有するコアパターンの概略図である。
コアパターン50は、1辺が1mmの正方形であって、各辺50a、50b、50c、50dで囲まれた内部に電極パッドと配線とが形成されており、辺50aの近傍に形成された電極パッド51と、辺50aに対向する辺50bの近傍に形成された電極パッド52と、電極パッド51の辺50cの側から2n−1番目と2n番目とを接続する配線53と、電極パッド52の辺50cの側から2n番目と2n+1番目とを接続する配線54と、配線53と配線54とを接続する配線55とから構成されている。
【0028】
さらに、電極パッド51および電極パッド52は、辺50cの側からn番目の電極パッドが、ともに辺50cから等距離に、それぞれ辺50aおよび辺50bの近傍に形成されている。
【0029】
上記の構成のコアパターンを用いることにより、電極パッドから引き出し電極パッドを引き出す配線パターンに比べ、コアパターンに形成する電極パッドを少なくし、配線パターンの構造を単純化することができるようになる。さらに、1個のコアパターン内の対向する2辺の近傍の電極パッドが配線で接続されるため、コアパターンの電極パッドを備えた面どうしを貼り合わせ、2辺の電極パッドについて同時に接続信頼性評価を行うことができるようになる。
【0030】
このように、コアパターンは、電極パッドを備えた面どうしを貼り合わせる際に、相対する電極パッドどうしが接続されることにより、外部からの入力を外部へ出力できるひとつの経路が形成される配線パターンを有していればよい。上記の配線パターンでは、同一のコアパターンを有する半導体素子において、一方の半導体素子を他方の半導体素子に対して上下反転して貼り合わせた状態で接続できる配線パターンとしたが、左右反転して貼り合わせて接続する配線パターンとしてもよい。
【0031】
図5は左右反転して貼り合わせた状態で接続できるコアパターンの概略図である。
コアパターン60は、1辺が1mmの正方形であって、各辺60a、60b、60c、60dで囲まれた内部に電極パッドと配線とが形成されており、辺60aの近傍に形成された電極パッド61と、辺60aに対向する辺60bの近傍に形成された電極パッド62と、電極パッド61の辺60cの側から2n−1番目と2n番目とを接続する配線63と、電極パッド62の辺60cの側から2n番目と2n+1番目とを接続する配線64と、配線63から電極パッド62の近傍に引き出された引き出し電極パッド65と、配線64から電極パッド61の近傍に引き出された引き出し電極パッド66とから構成されている。
【0032】
さらに、電極パッド61および電極パッド62は、辺60aの中点と辺60bの中点とを結ぶ中心線上に配置された電極パッド61aおよび電極パッド62aを有し、この電極パッド61aおよび62aから中心線を軸として対称に、辺60aおよび辺60bの近傍に電極パッドが設けられ、電極パッド61および電極パッド62が構成されている。
【0033】
コアパターン60からなる半導体素子は、一方の半導体素子を他方の半導体素子に対して左右反転すれば、一方の半導体素子の電極パッドを備える面と他方の半導体素子の電極パッドを備える面とを、貼り合わせた状態で導通させることができる。
【0034】
上記の説明では、辺60a近傍の電極パッド61を接続する配線63から引き出した引き出し電極パッド65を形成し、かつ辺60aに対向する辺60bの近傍の電極パッド62を接続する配線64から引き出した引き出し電極パッド66を形成すようにしたが、図4で示したのと同様に、引き出し電極パッド65の代わりに、配線63と配線64とを接続し、辺60b近傍の電極パッド62に引き出し電極パッド65の機能を代用させ、さらに、辺60a近傍の電極パッド61に引き出し電極パッド66の機能を代用させる配線パターンとしてもよい。これにより、図5に示した電極パッド61、62から引き出し電極パッド65、66を引き出す配線パターンのコアパターン60に比べ、コアパターンに形成する電極パッドを少なくし、配線パターンの構造を単純化することができるようになる。さらに、1個のコアパターン内の対向する2辺の近傍の電極パッドが配線で接続されるため、コアパターンの電極パッドを備えた面どうしを貼り合わせ、2辺の電極パッドについて同時に接続信頼性評価を行うことができるようになる。
【0035】
以上の説明では、コアパターンを上下反転して接続可能となる配線パターンと、左右反転して接続可能となる配線パターンとをそれぞれ別々に実施する例を示したが、両方の配線パターンを同時に満たす配線パターンを形成することもできる。
【0036】
すなわち、一辺の近傍と、その一辺に対向する辺の近傍とに形成される電極パッドが、一辺と対向する辺の中点を結ぶ中心線上に電極パッドを有するとともに、この中心線上の電極パッドから中心線を軸にして対称に形成され、かつ、辺および対向する辺と垂直な一方の辺からn番目の電極パッドが等しい距離に形成されているコアパターンを形成する。
【0037】
このような配線パターンを形成することにより、コアパターンを上下反転しても、左右反転しても、貼りあわせた状態で、導通をとることができるようになるので、作業ミスが起こりにくくなり、効率化が図れる。
【0038】
さらに、この場合においても、辺近傍の電極パッドに引き出し電極パッドの機能を代用させる配線パターンを形成して、電極パッドを少なくし、配線パターンの構造を単純化することができる。さらに、1個のコアパターン内の対向する2辺の近傍の電極パッドが配線で接続されるため、コアパターンの電極パッドを備えた面どうしを貼り合わせ、2辺の電極パッドについて同時に接続信頼性評価を行うことができるようになる。また、1個のコアパターン内の対向する2辺の近傍だけでなく、残りの2辺についてもこれと同配列の電極パッドを形成すれば、4辺の近傍の電極パッドについて接続信頼性評価を行うことができるようになる。
【0039】
以上の説明で示した配線パターンを有するコアパターンであれば、隣接するコアパターンに対して90度回転した状態で交互に配列された半導体素子も、同様の効果を得ることができる。
【0040】
図6は90度回転したコアパターンが隣接した状態を示す図である。
コアパターン70は、4辺の近傍に電極パッド71、72、73、74が形成されているとともに、一辺とこれに対向する辺の近傍に形成された電極パッド71、72どうしが配線で接続されており、かつ上下反転、左右反転とも可能な配線パターンを有している。同様に、コアパターン80は、4辺の近傍に電極パッド81、82、83、84が形成されているとともに、一辺とこれに対向する辺の近傍に形成された電極パッド83、84どうしが配線で接続されており、かつ上下反転、左右反転とも可能な配線パターンを有している。コアパターン80は、コアパターン70を90度回転した配線パターンであって、コアパターン70に隣接して配置されている。コアパターン70および80を1ブロックとし、このブロックを連続的に並べて配置し半導体素子が構成される。
【0041】
上記の構成の半導体素子において、例えば、コアパターン70に、コアパターン80を左右反転して貼り合わせると、電極パッド71と81、72と82、73と84、74と83がそれぞれひとつの経路で接続される。さらに、電極パッド71と72、83と84は配線で接続されているため、コアパターンの4辺の近傍の電極パッドについて接続信頼性評価を行うことができる。
【0042】
コアパターン70および80を1ブロックとし、このブロックを連続的に並べて配置した半導体素子の場合、半導体素子を構成する各コアパターンで、4辺の近傍の電極パッドの接続信頼性評価を行うことができるため、より信頼性の高いデータを得ることができるようになる。
【0043】
以上の説明での基板チップ、評価チップの切り出しサイズは単なる例であり、接続信頼性評価を行うのに必要なチップサイズに任意に切り出すことができる。
また、評価チップと基板チップとの接続は、金バンプにより行うが、その材質は金以外のものでもよい。さらに、バンプは評価チップのみに形成する、基板チップのみに形成する、評価チップと基板チップとの両方に形成するなど、どの方法によって形成してもよい。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、半導体素子のコアパターンを、一方のコアパターンと他方のコアパターンとを貼り合わせ、一方のコアパターンの電極パッドおよび配線と他方のコアパターンの電極パッドおよび配線とがひとつの経路で電気的に接続される配線パターンとし、さらに、電極パッドから引き出し電極パッドが引き出されて外部と接続できる構成にした。これにより、同一配線パターンを有するコアパターンからなるウェハから評価チップと基板チップとを切り出して作製し、適当に反転して貼り合わせて接続することでチップ・オン・チップ構造の接続信頼性評価をすることができるので、評価チップと基板チップとを同一のマスクパターンから作製することができ、半導体素子作製に使用するマスク材料を減らし、低コストで半導体素子を作製することができる。
【0045】
さらに、ウェハからの切り出しのサイズを変えるだけでサイズの異なる半導体素子の接続信頼性評価に対応することができるので、配線パターンの汎用性が高く、接続信頼性評価を低コスト化、効率化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】コアパターンの概略図である。
【図2】ウェハ上に形成されたコアパターンをチップサイズに切り出した図であり、(a)は基板チップ、(b)は評価チップを示している。
【図3】切り出したチップの接続状態の説明図である。
【図4】引き出し電極パッドの機能を他の電極パッドに代用させる配線パターンを有するコアパターンの概略図である。
【図5】左右反転して貼り合わせた状態で接続できるコアパターンの概略図である。
【図6】90度回転したコアパターンが隣接した状態を示す図である。
【図7】評価チップと基板チップとが接続された状態の概略図である。
【符号の説明】
10……コアパターン、10a,10b,10c,10d……辺、11,12……電極パッド、13,14……配線、15,16……引き出し電極パッド。

Claims (4)

  1. チップ・オン・チップ構造のチップ間の電極の接続信頼性評価に利用され、マスクパターンを用いてパターンが形成されたウェハから切り出されて生成された、四角形のコアパターンからなる半導体素子において、
    電極パッドと、
    前記電極パッド間を電気的に接続する配線と、
    前記電極パッドから引き出された引き出し電極パッドと、
    を備えるコアパターンを有し、
    前記コアパターンの一部と同じパターンの電極パッドおよび配線を備える他の半導体素子と貼り合わされることで、前記電極パッドおよび前記配線と前記他の半導体素子の電極パッドおよび配線とを結ぶひとつの経路が生成され、外部の試験装置から前記引き出し電極パッドに電流が供給されることで、前記経路の電気的導通状態が評価される、
    ことを特徴とする半導体素子。
  2. 前記半導体素子において、前記引き出し電極パッドを前記電極パッドで代用することを特徴とする請求項1記載の半導体素子。
  3. 前記コアパターンと、前記コアパターンを90度回転したコアパターンとが交互に連続して配置された配列パターンを有することを特徴とする請求項1記載の半導体素子。
  4. チップ・オン・チップ構造のチップ間の電極の接続信頼性を評価する、半導体素子の評価方法において、
    マスクパターンを用いてパターンが形成されたウェハから切り出されて生成され、
    電極パッドと、
    前記電極パッド間を電気的に接続する配線と、
    前記電極パッドから引き出された引き出し電極パッドと、
    を備えるコアパターンを有し、
    前記コアパターンの一部と同じパターンの電極パッドおよび配線を備える他の半導体素子と貼り合わされることで、前記電極パッドおよび前記配線と前記他の半導体素子の電極パッドおよび配線とを結ぶひとつの経路が生成される半導体素子を用いて、前記半導体素子と前記他の半導体素子とを貼り合わせ、前記電極パッドと前記他の半導体素子の電極パッドとを接続し、外部の試験装置から前記引き出し電極パッドに電流を供給することで、前記経路の電気的導通状態を評価する、
    ことを特徴とする半導体素子の評価方法。
JP2001051877A 2001-02-27 2001-02-27 半導体素子および半導体素子の評価方法 Expired - Fee Related JP4686869B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001051877A JP4686869B2 (ja) 2001-02-27 2001-02-27 半導体素子および半導体素子の評価方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001051877A JP4686869B2 (ja) 2001-02-27 2001-02-27 半導体素子および半導体素子の評価方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002252260A JP2002252260A (ja) 2002-09-06
JP4686869B2 true JP4686869B2 (ja) 2011-05-25

Family

ID=18912597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001051877A Expired - Fee Related JP4686869B2 (ja) 2001-02-27 2001-02-27 半導体素子および半導体素子の評価方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4686869B2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08340028A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Nippon Steel Corp 半導体素子の試験方法
JPH10319074A (ja) * 1997-05-14 1998-12-04 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の接続性能評価方法、その評価用キット及び配線基板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08340028A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Nippon Steel Corp 半導体素子の試験方法
JPH10319074A (ja) * 1997-05-14 1998-12-04 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の接続性能評価方法、その評価用キット及び配線基板

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002252260A (ja) 2002-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5817530A (en) Use of conductive lines on the back side of wafers and dice for semiconductor interconnects
TWI297184B (en) A semiconductor device and a method of manufacturing the same
US6316838B1 (en) Semiconductor device
US4949224A (en) Structure for mounting a semiconductor device
US6828686B2 (en) Chip size stack package and method of fabricating the same
JP2001036000A (ja) チップサイズスタックパッケージ及びメモリモジュールとその製造方法
JPH08213543A (ja) マルチダイパッケージ装置
US5863812A (en) Process for manufacturing a multi layer bumped semiconductor device
US9271403B2 (en) Semiconductor assemblies with multi-level substrates and associated methods of manufacturing
JP2003100803A (ja) 半導体装置及びその製造方法
WO2007023747A1 (ja) 半導体チップおよびその製造方法ならびに半導体装置
JPH04273451A (ja) 半導体装置
JP2001177050A (ja) 半導体装置
JPS621247A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4034468B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4686869B2 (ja) 半導体素子および半導体素子の評価方法
JPH05335475A (ja) 回路チップ実装装置
JP4791104B2 (ja) 半導体チップおよび半導体チップの製造方法
JP2004363319A (ja) 実装基板及び半導体装置
JP4356196B2 (ja) 半導体装置組立体
JP2001118954A (ja) 半導体装置
JPH09223759A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH11224915A (ja) 半導体接続用基板
JP3692353B2 (ja) 半導体装置のアッセンブリ方法
US6433415B2 (en) Assembly of plurality of semiconductor devices

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091117

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100914

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110131

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees