JP4683172B2 - 水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法 - Google Patents
水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法に関するものである。特に化学発光測定において、酵素基質あるいは核酸プローブなどに適用可能な化学発光性の水溶性ジオキセタン誘導体の精製に有用な方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
水溶性ジオキセタン誘導体は有用な化合物であり、近年ますますその需要は高まっている。特に水溶性化学発光性ジオキセタン誘導体は、生体成分の分析などの親水性溶媒を用いる条件下で極めて有用な化合物である。水溶性化学発光性ジオキセタン誘導体は一般的には安定であるが、共存する不純物による分解が起こることが知られている。したがって温度、遮光条件などには注意が必要である。不純物自体の除去に関しては、例えば水溶性化学発光性のジオキセタン化合物の精製方法として、特許第２９６８８１１号公報において述べられている。すなわち不純物を含む１，２−ジオキセタン水溶性誘導体を、アルカリ安定性を有する基材をベースとした逆相クロマトグラフィー法により精製するというものである。特許第２９６８８１１号公報では、従来用いられてきたシリカベースの基材にかえてアルカリ安定性を有する基材をベースとした逆相クロマトグラフィー法に置き換えたというものである。その結果ジオキセタン化合物の安定なアルカリ性領域での分離精製が可能となり、これにより１，２−ジオキセタン誘導体の分解を防止し、かつ効果的に不純物の除去を可能としたというものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは種々検討の結果、これまでの精製法で得られたジオキセタン誘導体を用いた場合、高バックグラウンドとなる、あるいは保存安定性が悪いなどの弊害が生じており大きな問題となることを見出した。またこれは、水溶性ジオキセタン誘導体の精製において、逆相クロマトグラフィー法だけでは取り除けない不安定化成分が存在するためであることを見出した。したがって本発明が解決しようとする課題は、不安定化成分を取り除くことができ、安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができる精製方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記課題の解決のために本発明者らは鋭意検討の結果、以下のような有効な解決手段を見出した。即ち本発明は、水溶性ジオキセタン誘導体を含む溶液をキレート樹脂に接触させ、次いで水溶性ジオキセタン誘導体を分別回収することを特徴とする、水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法である。以下に本発明を更に詳細に説明する。
【０００５】
本発明で精製される水溶性ジオキセタン誘導体は、１，２−ジオキセタン構造を有する水溶性化合物であれば特に限定はなく、りん酸エステルなどの種々の官能基を有していてもよい。好ましくは、以下の式で表される５−ｔ−ブチル−４，４−ジメチル−１−（３’−ホスホリルオキシ）フェニル−２，６，７−トリオキサビシクロ［３．２．０］ヘプタンジナトリウム塩等が例示される。
【０００６】
【化１】
【０００７】
本発明で用いられるキレート樹脂は、金属イオンへの配位によりこれを捕捉する能力のあるものであれば特に限定はない。好ましくは、イミノジ酢酸等を官能基として有する樹脂であり、ベースマトリックスとしてはスチレン−ジビニルベンゼン共重合体などが例示される。
【０００８】
このキレート樹脂に、水溶性ジオキセタン誘導体を含む溶液を接触させ、水溶性ジオキセタン誘導体を分別回収することにより、不安定化成分が除去された安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができる。
【０００９】
水溶性ジオキセタン誘導体に含有される不安定化成分の正体は解析されてはいないが、水溶性ジオキセタン誘導体の合成ルートにおいて金属触媒が使用されること、また使用される有機溶媒中にも微量の重金属が含まれることなどから、不安定化成分の１つとして重金属の存在が考えられ、これがキレート樹脂によって捕捉・除去されることにより、安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができるものと考えられる。
【００１０】
【実施例】
以下、本発明を更に詳細に説明するため実施例を示す。しかし本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００１１】
実施例１ キレックス樹脂による精製
１）５員環ジオキセタンりん酸エステルの逆相クロマトグラフィー精製
前述の５員環ジオキセタンりん酸エステル（正式名称：「５−ｔ−ブチル−４，４−ジメチル−１−（３’−ホスホリルオキシ）フェニル−２，６，７−トリオキサビシクロ［３．２．０］ヘプタンジナトリウム塩）を以下の手順で精製した。すなわち、特開平９−２１６８８７号公報に従って、５員環ジオキセタンりん酸エステル合成工程終了後の粗生成物（ＨＰＬＣ純度約６５％）１５６ｍｇを分取１用溶離液（０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝７：３）に溶解し１．５ｍＬとし、以下の分取１を実施した。
【００１２】
１−１）分取１（塩交換）
分取カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
ガードカラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｇｕａｒｄｐａｃｋ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ５０×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
溶離液：０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝７：３
流速：５ｍＬ／ｍｉｎ
分取１の収量は８５ｍｇであった。同様の操作を複数回繰り返すことにより最終的に１５２ｍｇの中間精製物を得た。これを分取２用溶離液に溶解し、以下の分取２を実施した。
【００１３】
１−２）分取２（脱塩）
分取カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
ガードカラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｇｕａｒｄｐａｃｋ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ５０×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
溶離液：０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝８：２
流速：５ｍＬ／ｍｉｎ
フラクションのうち５員環ジオキセタンりん酸エステル部分を回収し、凍結乾燥処理をした結果、最終的に白色粉末１２５ｍｇを得た。
【００１４】
分取後のフラクションのＨＰＬＣチャート図を、図１に示した。図１から明らかなように、逆相クロマトグラフィーのチャートからは、不純物は確認されなかった。
【００１５】
分析カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×４．６ｍｍ ｌ．Ｄ．
【００１６】
２）キレックス樹脂（Ｃｈｅｌｅｘ１００）の前処理：
Ｃｈｅｌｅｘ１００はバイオラッド社製のキレート樹脂で、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体をベースマトリックス、イミノジ酢酸を官能基としている。このキレックス樹脂をあらかじめ純水で洗浄を繰り返した。洗浄したキレックス樹脂５０μｌをとりミリポア社製フィルター型遠心チューブＵＬＴＲＡＦＲＥＥ−ＭＣ（０．２２μｍ）に入れ、ＩＷＡＫＩ製小型遠心ろ過機ＣＦＭ−２００を用いて（６０００ｒｐｍ、５分）、余分な水分を遠心除去した。
【００１７】
３）キレックス処理
次に分取２で得られた２ｍｇの５員環ジオキセタンりん酸エステルをとり純水２００μｌに溶解した。このうち１００μｌをキレックス樹脂を充填したＵＬＴＲＡＦＲＥＥ−ＭＣ内に加え混和したのち、ＣＦＭ−２００を用いてキレックス樹脂から５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液を遠心により分別回収した。
【００１８】
実施例２ キレックス樹脂処理の基質性能への寄与の検討
キレックス処理から回収した５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液と、未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液について、以下のアルカリ性ホスファターゼＮｅｇａ．、またはＰｏｓｉ．（１×１０-18モル／ｍｌ含有）をそれぞれ１０μｌを使用し、その発光量を測定した。発光測定にはベルトールド社製ルミノメーターＬＢ９６Ｖを使用し、測光条件結果は５分後の１秒間測光とした。結果を表１に示す。
【００１９】
Ｎｅｇａ．：５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（０．１％ゼラチン加水分解物、１ｍＭ ＭｇＣｌ2、０．１５Ｍ ＮａＣｌ、及び０．０５％ＮａＮ3含有）
Ｐｏｓｉ．：アルカリ性ホスファターゼを１０-18モル／ｍｌの濃度になるようにＮｅｇａ．溶液で調整したもの。
【００２０】
【表１】
【００２１】
表１に示したように、キレックス処理を行った場合には、未処理の場合で認められた高バックグラウンド発光（Ｎｅｇａ．）が低下し、またアルカリ性ホスファターゼ存在下の発光（Ｐｏｓｉ．）には影響しないことが確められた。
【００２２】
次に、未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液（１０ｍｇ／ｍｌ）、またはキレックス処理した５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液（１０ｍｇ／ｍｌ）を保存容器に１００μｌ入れ、４０℃４日間遮光条件下インキュベーター内で加速劣化試験を行った。具体的には、（１）処理または未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液を４０℃遮光インキュベーターに保存、（２）４日後に各溶液を取り出してそれぞれエンハンサー溶液（Ｔｒｏｐｉｘ社 Ｅｍｅｒａｌｄ−ＩＩ）で希釈、（３）上述のアルカリ性ホスファターゼＰｏｓｉ．（１×１０-18モル／ｍｌ含有）をサンプルとして測定、（４）０日目測定との発光量比較で残存活性とし、安定性を比較した。結果を表２に示す。
【００２３】
【表２】
【００２４】
表２の結果から明らかなように未処理のものでは活性が６７％まで低下しているのに対し、キレックス処理をしたものでは活性がほとんど変化せず、安定性が保たれているのがわかる。このことから、キレックス処理により５員環ジオキセタンりん酸エステルの保存安定性が向上したと考えられる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の精製方法により、従来の方法では除去できなかった水溶性ジオキセタン誘導体に混在する不安定化物質を除去することが可能となった。この結果、本発明による精製後の水溶性ジオキセタン誘導体を化学発光基質として用いる場合、特にバックグラウンド発光の低減、保存安定性の向上など、種々の性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で行われたＨＰＬＣのチャートを示す図である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法に関するものである。特に化学発光測定において、酵素基質あるいは核酸プローブなどに適用可能な化学発光性の水溶性ジオキセタン誘導体の精製に有用な方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
水溶性ジオキセタン誘導体は有用な化合物であり、近年ますますその需要は高まっている。特に水溶性化学発光性ジオキセタン誘導体は、生体成分の分析などの親水性溶媒を用いる条件下で極めて有用な化合物である。水溶性化学発光性ジオキセタン誘導体は一般的には安定であるが、共存する不純物による分解が起こることが知られている。したがって温度、遮光条件などには注意が必要である。不純物自体の除去に関しては、例えば水溶性化学発光性のジオキセタン化合物の精製方法として、特許第２９６８８１１号公報において述べられている。すなわち不純物を含む１，２−ジオキセタン水溶性誘導体を、アルカリ安定性を有する基材をベースとした逆相クロマトグラフィー法により精製するというものである。特許第２９６８８１１号公報では、従来用いられてきたシリカベースの基材にかえてアルカリ安定性を有する基材をベースとした逆相クロマトグラフィー法に置き換えたというものである。その結果ジオキセタン化合物の安定なアルカリ性領域での分離精製が可能となり、これにより１，２−ジオキセタン誘導体の分解を防止し、かつ効果的に不純物の除去を可能としたというものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは種々検討の結果、これまでの精製法で得られたジオキセタン誘導体を用いた場合、高バックグラウンドとなる、あるいは保存安定性が悪いなどの弊害が生じており大きな問題となることを見出した。またこれは、水溶性ジオキセタン誘導体の精製において、逆相クロマトグラフィー法だけでは取り除けない不安定化成分が存在するためであることを見出した。したがって本発明が解決しようとする課題は、不安定化成分を取り除くことができ、安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができる精製方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記課題の解決のために本発明者らは鋭意検討の結果、以下のような有効な解決手段を見出した。即ち本発明は、水溶性ジオキセタン誘導体を含む溶液をキレート樹脂に接触させ、次いで水溶性ジオキセタン誘導体を分別回収することを特徴とする、水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法である。以下に本発明を更に詳細に説明する。
【０００５】
本発明で精製される水溶性ジオキセタン誘導体は、１，２−ジオキセタン構造を有する水溶性化合物であれば特に限定はなく、りん酸エステルなどの種々の官能基を有していてもよい。好ましくは、以下の式で表される５−ｔ−ブチル−４，４−ジメチル−１−（３’−ホスホリルオキシ）フェニル−２，６，７−トリオキサビシクロ［３．２．０］ヘプタンジナトリウム塩等が例示される。
【０００６】
【化１】
本発明で用いられるキレート樹脂は、金属イオンへの配位によりこれを捕捉する能力のあるものであれば特に限定はない。好ましくは、イミノジ酢酸等を官能基として有する樹脂であり、ベースマトリックスとしてはスチレン−ジビニルベンゼン共重合体などが例示される。
【０００８】
このキレート樹脂に、水溶性ジオキセタン誘導体を含む溶液を接触させ、水溶性ジオキセタン誘導体を分別回収することにより、不安定化成分が除去された安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができる。
【０００９】
水溶性ジオキセタン誘導体に含有される不安定化成分の正体は解析されてはいないが、水溶性ジオキセタン誘導体の合成ルートにおいて金属触媒が使用されること、また使用される有機溶媒中にも微量の重金属が含まれることなどから、不安定化成分の１つとして重金属の存在が考えられ、これがキレート樹脂によって捕捉・除去されることにより、安定な水溶性ジオキセタン誘導体を得ることができるものと考えられる。
【００１０】
【実施例】
以下、本発明を更に詳細に説明するため実施例を示す。しかし本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００１１】
実施例１ キレックス樹脂による精製
１）５員環ジオキセタンりん酸エステルの逆相クロマトグラフィー精製
前述の５員環ジオキセタンりん酸エステル（正式名称：「５−ｔ−ブチル−４，４−ジメチル−１−（３’−ホスホリルオキシ）フェニル−２，６，７−トリオキサビシクロ［３．２．０］ヘプタンジナトリウム塩）を以下の手順で精製した。すなわち、特開平９−２１６８８７号公報に従って、５員環ジオキセタンりん酸エステル合成工程終了後の粗生成物（ＨＰＬＣ純度約６５％）１５６ｍｇを分取１用溶離液（０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝７：３）に溶解し１．５ｍＬとし、以下の分取１を実施した。
【００１２】
１−１）分取１（塩交換）
分取カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
ガードカラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｇｕａｒｄｐａｃｋ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ５０×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
溶離液：０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝７：３
流速：５ｍＬ／ｍｉｎ
分取１の収量は８５ｍｇであった。同様の操作を複数回繰り返すことにより最終的に１５２ｍｇの中間精製物を得た。これを分取２用溶離液に溶解し、以下の分取２を実施した。
【００１３】
１−２）分取２（脱塩）
分取カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
ガードカラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｇｕａｒｄｐａｃｋ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ５０×２０ｍｍ ｌ．Ｄ．
溶離液：０．１％ＮａＨＣＯ3水溶液：アセトニトリル＝８：２
流速：５ｍＬ／ｍｉｎ
フラクションのうち５員環ジオキセタンりん酸エステル部分を回収し、凍結乾燥処理をした結果、最終的に白色粉末１２５ｍｇを得た。
【００１４】
分取後のフラクションのＨＰＬＣチャート図を、図１に示した。図１から明らかなように、逆相クロマトグラフィーのチャートからは、不純物は確認されなかった。
【００１５】
分析カラム：ＹＭＣ社製ＹＭＣ−Ｐａｃｋ Ｒ＆Ｄ ＰｏｌｙｍｅｒＣ１８ ３００×４．６ｍｍ ｌ．Ｄ．
２）キレックス樹脂（Ｃｈｅｌｅｘ１００）の前処理：
Ｃｈｅｌｅｘ１００はバイオラッド社製のキレート樹脂で、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体をベースマトリックス、イミノジ酢酸を官能基としている。このキレックス樹脂をあらかじめ純水で洗浄を繰り返した。洗浄したキレックス樹脂５０μｌをとりミリポア社製フィルター型遠心チューブＵＬＴＲＡＦＲＥＥ−ＭＣ（０．２２μｍ）に入れ、ＩＷＡＫＩ製小型遠心ろ過機ＣＦＭ−２００を用いて（６０００ｒｐｍ、５分）、余分な水分を遠心除去した。
【００１７】
３）キレックス処理
次に分取２で得られた２ｍｇの５員環ジオキセタンりん酸エステルをとり純水２００μｌに溶解した。このうち１００μｌをキレックス樹脂を充填したＵＬＴＲＡＦＲＥＥ−ＭＣ内に加え混和したのち、ＣＦＭ−２００を用いてキレックス樹脂から５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液を遠心により分別回収した。
【００１８】
実施例２ キレックス樹脂処理の基質性能への寄与の検討
キレックス処理から回収した５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液と、未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル水溶液について、以下のアルカリ性ホスファターゼＮｅｇａ．、またはＰｏｓｉ．（１×１０-18モル／ｍｌ含有）をそれぞれ１０μｌを使用し、その発光量を測定した。発光測定にはベルトールド社製ルミノメーターＬＢ９６Ｖを使用し、測光条件結果は５分後の１秒間測光とした。結果を表１に示す。
【００１９】
Ｎｅｇａ．：５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（０．１％ゼラチン加水分解物、１ｍＭ ＭｇＣｌ2、０．１５Ｍ ＮａＣｌ、及び０．０５％ＮａＮ3含有）
Ｐｏｓｉ．：アルカリ性ホスファターゼを１０-18モル／ｍｌの濃度になるようにＮｅｇａ．溶液で調整したもの。
【００２０】
【表１】
表１に示したように、キレックス処理を行った場合には、未処理の場合で認められた高バックグラウンド発光（Ｎｅｇａ．）が低下し、またアルカリ性ホスファターゼ存在下の発光（Ｐｏｓｉ．）には影響しないことが確められた。
【００２２】
次に、未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液（１０ｍｇ／ｍｌ）、またはキレックス処理した５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液（１０ｍｇ／ｍｌ）を保存容器に１００μｌ入れ、４０℃４日間遮光条件下インキュベーター内で加速劣化試験を行った。具体的には、（１）処理または未処理の５員環ジオキセタンりん酸エステル溶液を４０℃遮光インキュベーターに保存、（２）４日後に各溶液を取り出してそれぞれエンハンサー溶液（Ｔｒｏｐｉｘ社 Ｅｍｅｒａｌｄ−ＩＩ）で希釈、（３）上述のアルカリ性ホスファターゼＰｏｓｉ．（１×１０-18モル／ｍｌ含有）をサンプルとして測定、（４）０日目測定との発光量比較で残存活性とし、安定性を比較した。結果を表２に示す。
【００２３】
【表２】
表２の結果から明らかなように未処理のものでは活性が６７％まで低下しているのに対し、キレックス処理をしたものでは活性がほとんど変化せず、安定性が保たれているのがわかる。このことから、キレックス処理により５員環ジオキセタンりん酸エステルの保存安定性が向上したと考えられる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の精製方法により、従来の方法では除去できなかった水溶性ジオキセタン誘導体に混在する不安定化物質を除去することが可能となった。この結果、本発明による精製後の水溶性ジオキセタン誘導体を化学発光基質として用いる場合、特にバックグラウンド発光の低減、保存安定性の向上など、種々の性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で行われたＨＰＬＣのチャートを示す図である。
Claims (2)
- 水溶性ジオキセタン誘導体を含む溶液をキレート樹脂に接触させ、次いで水溶性ジオキセタン誘導体を分別回収することを特徴とする、水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法であって、前記キレート樹脂のベースマトリックスがスチレン−ジビニルベンゼン共重合体であり、官能基がイミノジ酢酸であることを特徴とする、前記精製方法。
- 水溶性ジオキセタン誘導体が、りん酸エステルを有することを特徴とする請求項１に記載の精製方法。
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|---|---|---|---|
| JP2000344234A JP4683172B2 (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | 水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2000344234A JP4683172B2 (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | 水溶性ジオキセタン誘導体の精製方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002145882A JP2002145882A (ja) | 2002-05-22 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012140330A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Tosoh Corp | 水溶性リン酸エステルの精製方法 |
| JP2015172010A (ja) * | 2014-03-11 | 2015-10-01 | 東ソー株式会社 | リン酸エステルの精製方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03501263A (ja) * | 1988-09-14 | 1991-03-22 | トロピックス・インコーポレイテッド | 安定な水溶性ジオキセタンの精製 |
-
2000
- 2000-11-07 JP JP2000344234A patent/JP4683172B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03501263A (ja) * | 1988-09-14 | 1991-03-22 | トロピックス・インコーポレイテッド | 安定な水溶性ジオキセタンの精製 |
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|---|---|
| JP2002145882A (ja) | 2002-05-22 |
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