JP4680822B2 - 複流動弁及び内部処理容器隔離システム - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 80
- 238000002955 isolation Methods 0.000 title description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 380
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 77
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 65
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 17
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 13
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 5
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 4
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 claims 1
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 23
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011555 saturated liquid Substances 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006370 Kynar Polymers 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010977 unit operation Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- Y10T137/7793—With opening bias [e.g., pressure regulator]
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- Y10T137/7812—Valve stem passes through the aperture
- Y10T137/7814—Reactor is an inverted cup having liquid seal
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7781—With separate connected fluid reactor surface
- Y10T137/7793—With opening bias [e.g., pressure regulator]
- Y10T137/7809—Reactor surface separated by apertured partition
- Y10T137/7812—Valve stem passes through the aperture
- Y10T137/7818—Valve head in inlet chamber
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87652—With means to promote mixing or combining of plural fluids
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87676—With flow control
- Y10T137/87684—Valve in each inlet
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Description
(a)次の(1)〜(5)、すなわち、
(1)外部口と少なくとも三つの口を備えた入口端部とを有する弁本体、
(2)弁本体内に配置され、入口と、出口と、弁が開いた時に入口から出口への流体流動を可能とし、弁が閉じた時には入口から出口への流体流動を阻止するのに適合した第一シールとを有する第一弁、
(3)弁本体内に配置され、入口と、出口と、弁が開いた時に入口から出口への流体流動を可能とし、弁が閉じた時には入口から出口への流体流動を阻止するのに適合した第二シールとを有する第二弁、
(4)第一弁の入口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する第一流体流動路及び第一弁の出口を弁本体の入口端部の第二の口に接続する第二流体流動路、
(5)第二弁の入口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する第三流体流動路及び第二弁の出口を弁本体の外部口に接続する第四流体流動路、
を有する流体流動弁アセンブリ、
(b)流体処理容器であって、入口と、出口と、容器内に配置された処理用物質とを含み、容器を流れる流体を処理するのに適合している流体処理容器、及び
(c)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、
を含む、流体流動弁及び流体処理容器アセンブリを含む。
(a)開口部と内部を有する流体貯蔵容器、
(b)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、弁本体内に配置され、第三の口と外部口との間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含み、弁本体がシール可能に流体貯蔵容器の開口部に装着され、且つ、第一の口、第二の口、及び第三の口が流体貯蔵容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(c)流体処理容器であり、入口、出口、及び流体処理容器内に配置された処理用物質を含み、該容器を流れる流体を選択的に処理するのに適合している流体処理容器であって、流体貯蔵容器内に配置される流体処理容器、及び
(d)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、
を含む、流体貯蔵及び送給システムを含む。
(a)次の(1)〜(4)、すなわち、
(1)開口部と内部を有する流体貯蔵容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び弁本体内に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含み、弁本体がシール可能に流体貯蔵容器の開口部に装着され、且つ第一の口、第二の口、及び第三の口が流体貯蔵容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、流体貯蔵容器内に配置され、且つ流体貯蔵容器の内部から供給されて流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、
を含む、加圧流体貯蔵及び送給システムを用意すること、
(b)第一弁と第二弁を閉鎖位置に保持しながら、流体を流体貯蔵容器に導入すること、
(c)第一弁と第二弁を開放して、それによりそれぞれの弁を開放位置にすること、及び
(d)第一弁を通して流体貯蔵容器から流体を取り出し、流体を流体処理容器に導入し、処理用物質との接触により流体を処理し、流体処理容器から処理した流体を取り出し、処理した流体を第二弁を通して送り、そして処理した流体を外部口を通して取り出すこと、
を含む、流体を貯蔵及び分配するための方法に関する。
(a)開口部と内部とを有する主容器、
(b)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(c)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、主容器内に配置され、且つ、主容器の内部から供給され該流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(d)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、及び
(e)主容器内に配置され、不純な化学製品を発生させて該不純な化学製品を主容器の内部に放出するのに適合した反応装置システム、
を含む、化学製品を発生させるためのシステムに関する。
(a)次の(1)〜(5)、すなわち、
(1)開口部と内部とを有する主容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、主容器内に配置され、且つ、主容器の内部から供給されて該流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、及び
(5)主容器内に配置され、不純な化学製品を発生させて該不純な化学製品を主容器の内部に放出するのに適合した反応装置システム、
を含む化学物質発生システムを用意すること、
(b)該不純化学製品を発生させて該不純化学製品を主容器の内部に放出すること、及び
(c)精製化学製品を提供するため、該不純化学製品を流体処理容器を通過させ、そして精製した化学製品を第二弁と弁本体の外部口を通して取り出すこと、
を含む、精製化学製品を発生させるための方法を含む。
(a)次の(1)〜(4)、すなわち、
(1)開口部と内部とを有し、該内部に第一反応性成分が収容される主容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器の内部に配置された第二反応性成分を含む流体処理容器であって、主容器内に配置される流体処理容器、及び
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、
を含む化学物質発生システムを用意すること、
(b)第一反応性成分を第一弁を通して流体処理容器に送ること、
(c)第一反応性成分と第二反応性成分を反応させて製品成分を生成させ、該製品成分を流体処理容器から取り出すこと、及び
(d)該製品成分を第二弁と外部口を通して取り出すこと、
を含む、化学製品を発生させるための方法を含む。
Claims (27)
- 外部口と少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体と、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁と、弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁とを含む流体流動弁アセンブリ。
- (a)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、
(b)弁本体内に配置された第一弁であって、第一弁入口と、第一弁出口と、第一弁が開いた時に第一弁入口から第一弁出口への流体流動を可能とし、第一弁が閉じた時には第一弁入口から第一弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第一シールとを有する第一弁、
(c)弁本体内に配置された第二弁であって、第二弁入口と、第二弁出口と、第二弁が開いた時に第二弁入口から第二弁出口への流体流動を可能とし、第二弁が閉じた時には第二弁入口から第二弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第二シールとを有する第二弁、
(d)第一弁入口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する第一流体流動路及び第一弁出口を弁本体の入口端部の第二の口に接続する第二流体流動路、及び
(e)第二弁入口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する第三流体流動路及び第二弁出口を弁本体の外部口に接続する第四流体流動路、
を含む流体流動弁アセンブリ。 - 弁本体の入口端部の第四の口と、弁本体の追加の外部口と、弁本体内に配置された第三弁であって、第三弁入口と、第三弁出口と、第三弁が開いた時に第三弁入口から第三弁出口への流体流動を可能とし、第三弁が閉じた時には第三弁入口から第三弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第三シールとを有する第三弁と、第三弁出口と弁本体の入口端部の第四の口とを接続する第五流体流動路と、第三弁入口を弁本体の追加の外部口に接続する第六流体流動路とを更に含む、請求項2に記載の流体流動弁アセンブリ。
- 第一及び第二弁シールのいずれも、第一及び第二弁入口のいずれかと第一及び第二弁出口のいずれかの間の流体流動を阻止するために第一及び第二弁入口のいずれかと第一及び第二弁出口のいずれかに対しシール可能に押し付けられるのに適合した可撓性ダイヤフラムを含む、請求項2に記載の流体流動弁アセンブリ。
- (a)次の(1)〜(5)、すなわち、
(1)外部口と少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、
(2)弁本体内に配置された第一弁であって、第一弁入口と、第一弁出口と、第一弁が開いた時に第一弁入口から第一弁出口への流体流動を可能とし、第一弁が閉じた時には第一弁入口から第一弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第一シールとを有する第一弁、
(3)弁本体内に配置された第二弁であって、第二弁入口と、第二弁出口と、第二弁が開いた時に第二弁入口から第二弁出口への流体流動を可能とし、第二弁が閉じた時には第二弁入口から第二弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第二シールとを有する第二弁、
(4)第一弁入口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する第一流体流動路及び第一弁出口を弁本体の入口端部の第二の口に接続する第二流体流動路、
(5)第二弁入口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する第三流体流動路及び第二弁出口を弁本体の外部口に接続する第四流体流動路、
を有する流体流動弁アセンブリ、
(b)流体処理容器であって、入口と、出口と、容器内に配置された処理用物質とを含み、容器を流れる流体を処理するのに適合している流体処理容器、及び
(c)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第一の口とを接続する出口管、
を含む流体流動弁及び流体処理容器アセンブリ。 - 弁本体の入口端部の第四の口と、弁本体の追加の外部口と、弁本体内に配置された第三弁であって、第三弁入口と、第三弁出口と、第三弁が開いた時に第三弁入口から第三弁出口への流体流動を可能とし、第三弁が閉じた時に第三弁入口から第三弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第三シールとを有する第三弁と、第三弁出口と弁本体の入口端部の第四の口とを接続する第五流体流動路と、第三弁入口を弁本体の追加の外部口に接続する第六流体流動路とを更に含む、請求項5に記載の流体流動弁及び流体処理容器アセンブリ。
- (d)流体処理容器の入口管と流体処理容器の出口管の間に配置され、且つ、出口管から入口管への流体流動を可能とし、入口管から出口管への流体流動を阻止するのに適合した第一逆止弁、及び
(e)第一逆止弁と流体処理容器の出口との間の位置で出口管に配置され、且つ、流体処理容器の出口から弁本体の入口端部の第三の口への流体流動を可能とし、第三の口から流体処理容器の出口への流体流動を阻止するのに適合した第二逆止弁、
を含む、請求項5に記載の流体流動弁及び流体処理容器アセンブリ。 - 流体処理容器内に配置される流体処理用物質が、吸着剤物質、吸収剤物質、触媒物質、ゲッター物質、ろ過物質、及びそれらの組み合わせよりなる群から選ばれる、請求項5に記載の流体流動弁及び流体処理容器アセンブリ。
- (a)開口部と内部を有する流体貯蔵容器、
(b)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口との間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含み、弁本体がシール可能に流体貯蔵容器の開口部に装着され、且つ、第一の口、第二の口、及び第三の口が流体貯蔵容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(c)流体処理容器であり、入口、出口、及び流体処理容器内に配置された処理用物質を含み、該流体処理容器を流れる流体を選択的に処理するのに適合している流体処理容器であって、流体貯蔵容器内に配置される流体処理容器、及び
(d)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する出口管、を含む流体貯蔵及び送給システム。 - 流体貯蔵容器が加圧ガスを収容する、請求項9に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- 加圧ガスが、窒素、アルゴン、ヘリウム、水素、ネオン、クリプトン、キセノン、ラドン、及びそれらの組み合わせよりなる群から選ばれる少なくとも1種のガスである、請求項10に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- 流体貯蔵容器が加圧液化ガスを収容する、請求項9に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- 加圧液化ガスが、塩化水素、臭化水素、フッ化水素、塩素、アンモニア、六フッ化タングステン、ジシラン、ジクロロシラン、トリメチルシラン、及び三塩化ホウ素よりなる群から選ばれる少なくとも1種のガスである、請求項12に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- 流体貯蔵容器が更に、該流体貯蔵容器内部に配置され、且つ1種以上の化合物を発生するのに適合した反応装置システムを含み、この反応装置システムは該流体貯蔵容器内部に該1種以上の化合物を放出するのに適合している、請求項9に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- 流体処理容器内に配置される処理用物質が、吸着剤物質、吸収剤物質、触媒物質、ゲッター物質、ろ過物質、及びそれらの組み合わせよりなる群から選ばれる、請求項9に記載の流体貯蔵及び送給システム。
- (a)次の(1)〜(4)、すなわち、
(1)開口部と内部を有する流体貯蔵容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含み、弁本体がシール可能に流体貯蔵容器の開口部に装着され、且つ第一の口、第二の口、及び第三の口が流体貯蔵容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、流体貯蔵容器内に配置され、且つ流体貯蔵容器の内部から供給されて流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する出口管、を含む、加圧流体貯蔵及び送給システムを用意すること、
(b)第一弁と第二弁を閉鎖位置に保持しながら、流体を流体貯蔵容器に導入すること、
(c)第一弁と第二弁を開放して、それによりそれぞれの弁を開放位置にすること、及び
(d)第一弁を通して流体貯蔵容器から流体を取り出し、流体を流体処理容器に導入し、処理用物質との接触により流体を処理し、流体処理容器から処理した流体を取り出し、処理した流体を第二弁を通して送り、そして処理した流体を外部口を通して取り出すこと、を含む流体の貯蔵及び分配方法。 - 流体流動弁アセンブリが、弁本体の入口端部の第四の口、弁本体の充填口、弁本体内に配置されて第三弁入口と第三弁出口を有する第三弁であって、第三弁が開放位置にある時に第三弁入口から第三弁出口への流体流動を可能とし、第三弁が閉鎖位置にある時には第三弁入口から第三弁出口への流体流動を阻止するのに適合した第三弁、第三弁出口と弁本体の入口端部の第四の口とを接続する第五流体流動路、及び第三弁入口を弁本体の充填口に接続する第六流体流動路、を更に含み、流体を開放位置の第三弁を通して充填口に導入し、第一弁と第二弁を閉鎖位置に保持しながら流体貯蔵容器に導入して、そして第三弁を閉鎖位置にすることで流体貯蔵容器の充填を終了させることにより、流体貯蔵容器を充填する、請求項16に記載の方法。
- 加圧流体貯蔵及び送給システムが、(5)流体処理容器の入口管と流体処理容器の出口管の間に配置され、出口管から入口管へ流体流動を可能とし、且つ入口管から出口管への流体流動を阻止するのに適合した第一逆止弁、及び(6)第一逆止弁と流体処理容器の出口の間の位置で出口管に配置され、流体処理容器の出口から弁本体の入口端部の第三の口への流体流動を可能とし、且つ第三の口から流体処理容器の出口への流体流動を阻止するのに適合した第二逆止弁、を更に含み、第一弁と第二弁を開放位置にし、流体を、第一弁を通し、第一逆止弁を通し、第二弁を通して製品送給口に導入し、そして流体貯蔵容器に導入して、第一弁と第二弁のそれぞれを閉鎖位置にすることにより流体貯蔵容器の充填を終了させることにより、流体貯蔵容器を充填する、請求項16に記載の方法。
- (a)開口部と内部とを有する主容器、
(b)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(c)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、主容器内に配置され、且つ、主容器の内部から供給され該流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(d)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する出口管、及び
(e)主容器内に配置され、不純な化学製品を発生させて該不純な化学製品を主容器の内部に放出するのに適合した反応装置システム、を含む化学製品発生システム。 - 該反応装置システムが、ヒ素含有金属から電気化学反応により湿ったアルシンガスを発生させるのに適合した電気化学アルシン発生装置である、請求項19に記載のシステム。
- 化学製品発生システムが主容器の内部を大気圧より低い圧力に保つのに適合している、請求項19に記載のシステム。
- 流体処理容器内に配置される処理用物質が、湿ったアルシンガスから水を除去するのに適合した乾燥用物質である、請求項20に記載のシステム。
- (a)次の(1)〜(5)、すなわち、
(1)開口部と内部とを有する主容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器内に配置された処理用物質を含む流体処理容器であって、主容器内に配置され、且つ、主容器の内部から供給されて該流体処理容器を流れる流体を処理するのに適合した流体処理容器、
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する出口管、
(5)主容器内に配置され、不純な化学製品を発生させて該不純な化学製品を主容器の内部に放出するのに適合した反応装置システム、を含む化学物質発生システムを用意すること、
(b)該不純化学製品を発生させて該不純化学製品を主容器の内部に放出すること、及び
(c)精製化学製品を提供するため、該不純化学製品を流体処理容器を通過させ、そして精製化学製品を第二弁と弁本体の外部口を通して取り出すこと、を含む、精製化学製品発生方法。 - 反応装置システムが、ヒ素含有金属から湿ったアルシンガスを電気化学反応により発生させるのに適合した電気化学アルシン発生装置である、請求項23に記載の方法。
- 化学製品を発生させるための反応装置システムを主容器の内部の大気圧より低い圧力を維持するよう操作する、請求項23に記載の方法。
- 流体処理容器内に配置された乾燥用物質により湿ったアルシンガスから水を除去する、請求項24に記載の方法。
- (a)次の(1)〜(4)、すなわち、
(1)開口部と内部とを有し、該内部に第一反応性成分が収容される主容器、
(2)外部口と、少なくとも第一の口、第二の口、及び第三の口を有する入口端部とを有する弁本体、弁本体内の第一の口と第二の口とを連通する第一流体流動路に配置され、第一の口と第二の口の間の流体流動を制御するのに適合した第一弁、及び、弁本体内の第三の口と外部口とを連通する第二流体流動路に配置され、第三の口と外部口の間の流体流動を制御するのに適合した第二弁を含む流体流動弁アセンブリであって、弁本体が主容器の開口部にシール可能に装着され、そして第一の口、第二の口、及び第三の口が主容器内に位置する流体流動弁アセンブリ、
(3)流体処理容器であり、入口、出口、及び該流体処理容器の内部に配置された第二反応性成分を含む流体処理容器であって、主容器内に配置される流体処理容器、
(4)流体処理容器の入口と弁本体の入口端部の第二の口とを接続する入口管及び流体処理容器の出口と弁本体の入口端部の第三の口とを接続する出口管、を含む化学物質発生システムを用意すること、
(b)第一反応性成分を第一弁を通して流体処理容器に送ること、
(c)第一反応性成分と第二反応性成分を反応させて製品成分を生成させ、該製品成分を流体処理容器から取り出すこと、及び
(d)該製品成分を第二弁と外部口を通して取り出すこと、を含む、化学製品発生方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US67229005P | 2005-04-18 | 2005-04-18 | |
US11/399,322 US7811532B2 (en) | 2005-04-18 | 2006-04-07 | Dual-flow valve and internal processing vessel isolation system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007054821A JP2007054821A (ja) | 2007-03-08 |
JP2007054821A5 JP2007054821A5 (ja) | 2009-03-19 |
JP4680822B2 true JP4680822B2 (ja) | 2011-05-11 |
Family
ID=36686101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006113521A Active JP4680822B2 (ja) | 2005-04-18 | 2006-04-17 | 複流動弁及び内部処理容器隔離システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7811532B2 (ja) |
EP (1) | EP1715225B1 (ja) |
JP (1) | JP4680822B2 (ja) |
KR (3) | KR100874937B1 (ja) |
CN (1) | CN1858470B (ja) |
TW (1) | TWI302974B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7964138B2 (en) | 2005-11-29 | 2011-06-21 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | On-demand portable chlorine dioxide generator |
CN100436927C (zh) * | 2007-04-11 | 2008-11-26 | 镇江瑞昊工程塑料有限公司 | 组合阀式源瓶 |
CN102177374B (zh) * | 2008-08-18 | 2013-06-19 | 西格玛-奥吉奇公司 | 阀组件 |
US8459293B2 (en) * | 2009-04-24 | 2013-06-11 | Applied Materials, Inc. | Ampoule with integrated hybrid valve |
CN102597310B (zh) | 2009-11-02 | 2015-02-04 | 西格玛-奥吉奇有限责任公司 | 固态前体输送组件以及相关方法 |
JP6310172B2 (ja) * | 2011-01-07 | 2018-04-11 | 日本テクノ株式会社 | 酸素水素共存ガス体を用いた燃料及びその使用方法 |
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FR2833861B1 (fr) | 2001-12-20 | 2004-02-06 | Air Liquide | Dispositif de stockage et de melange de deux gaz |
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-
2006
- 2006-04-07 US US11/399,322 patent/US7811532B2/en active Active
- 2006-04-14 TW TW95113410A patent/TWI302974B/zh active
- 2006-04-17 JP JP2006113521A patent/JP4680822B2/ja active Active
- 2006-04-18 EP EP06008011.6A patent/EP1715225B1/en active Active
- 2006-04-18 CN CN2006100840086A patent/CN1858470B/zh active Active
- 2006-04-18 KR KR1020060035035A patent/KR100874937B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-10-13 KR KR1020080100034A patent/KR100940551B1/ko active IP Right Grant
-
2009
- 2009-11-18 KR KR1020090111553A patent/KR20100005695A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4286624A (en) * | 1980-02-25 | 1981-09-01 | Eivind Clausen | Fluid handling systems & multi-positionable valving arrangements for the use therein |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1715225B1 (en) | 2017-11-22 |
JP2007054821A (ja) | 2007-03-08 |
KR100874937B1 (ko) | 2008-12-19 |
EP1715225A3 (en) | 2009-12-16 |
KR20100005695A (ko) | 2010-01-15 |
US20060231159A1 (en) | 2006-10-19 |
KR20080099218A (ko) | 2008-11-12 |
TW200641289A (en) | 2006-12-01 |
KR100940551B1 (ko) | 2010-02-10 |
TWI302974B (en) | 2008-11-11 |
US7811532B2 (en) | 2010-10-12 |
CN1858470A (zh) | 2006-11-08 |
EP1715225A2 (en) | 2006-10-25 |
CN1858470B (zh) | 2011-10-05 |
KR20060109850A (ko) | 2006-10-23 |
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