JP4680251B2 - リフロー処理装置およびリフロー処理方法 - Google Patents
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Description
さらに、チャンバ方式のリフロー処理装置で必須であった基板の搬入・搬出動作や、リフロー処理前後のチャンバ内雰囲気置換が不要になり、基板を搬送しながらリフロー処理を行うことができることから、リフロー処理のスループットを大幅に向上させることができる。
図1は本発明の第1の実施形態に係るリフロー処理装置を示す断面図、図2は図1のリフロー処理装置のノズルユニットを示す斜視図、図3はそのノズルユニットの断面図である。このリフロー処理装置100は、上部カバー1と下部カバー2とを有し、これらの間にリフロー処理すべきレジストパターンが形成されたガラス基板Gが水平に搬送される搬送路Tを規定する搬送空間3が形成されている。搬送空間3の一方の端部はガラス基板を搬入する搬入口4となっており、他方の端部はガラス基板Gを搬出する搬出口5となっている。
上記第1の実施形態では、所定の溶剤雰囲気のリフロー処理部Pにロット先頭のガラス基板Gの先端部に達したときの雰囲気の乱れにともなう溶剤濃度の低下を、制御部40による溶剤濃度の制御や搬送速度の制御による実効的な溶剤濃度の制御によって補償してリフロー量の変動を抑制するが、このような場合には特別な制御が必要となってコストが増加してしまう。
図6は、本発明の第2の実施形態に係るリフロー処理装置を示す断面図、図7は図6のリフロー処理装置のノズルユニットを示す斜視図、図8はそのノズルユニットの断面図である。図6〜8のリフロー処理装置の基本構成は、第1の実施形態である図1のリフロー処理装置と同じであるから図1と同じものには同じ符号を付して説明を省略する。
なお、第1および第2の仕切り部材36、37の下端からガラス基板Gの表面までの距離は2〜5mm程度が好ましい。
ここではガラス基板上に幅10mmの格子状のパターンを用い、溶剤としてシンナーを用いてリフロー処理テストを行った。図9は仕切り部材を設けない場合のフロー量の変動を示すグラフであり、図10は仕切り部材を設けた場合のフロー量の変動を示すグラフである。これらの図は、ガラス基板Gの幅方向位置毎に(S1〜S5)、ガラス基板Gの流れ方向距離とフロー量との関係を求めたものであり、流れ方向距離はリフロー処理部Pに最初に入るガラス基板Gの先端を0としている。なお、ガラス基板Gの幅は400mmであり、S1およびS5はガラス基板Gの幅端から30mm内側の位置であり、S3は幅方向中央であり、S2およびS4はそれぞれS1からS3の中間位置およびS3からS5の中間位置である。
2;下部カバー
3;搬送空間
4;搬入口
5;搬出口
6;溶剤導入ノズル
7;溶剤排出ノズル
8;搬送コロ
9;駆動機構
10;ノズルユニット
31;溶剤供給機構
32;吸引機構
40;制御部
100,100′;リフロー処理装置
G;ガラス基板
P;リフロー処理部
T;搬送路
Claims (13)
- 基板上のレジストを溶剤雰囲気中で軟化させて流動化させるリフロー処理装置であって、
基板が水平姿勢で搬送される搬送路と、
前記搬送路に沿って基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送路を含む搬送空間の所定部分に、基板の全幅に亘って、基板が通過することによりその上のレジストにリフロー処理が施される所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部を形成するリフロー処理部形成機構と、を具備し、
前記リフロー処理部形成機構は、前記搬送空間の前記所定部分に溶剤を導入する溶剤導入ノズルおよび前記所定部分から溶剤を排出する溶剤排出ノズルを隣接した状態で配置してなるノズルユニットを備え、前記溶剤導入ノズルによる溶剤の導入および前記溶剤排出ノズルによる溶剤の排出を調整して前記リフロー処理部を形成し、
前記溶剤導入ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤導入スリットと、
前記溶剤導入スリットを覆うように設けられた溶剤導入ヘッドと、
前記溶剤導入ヘッドの上面に設けられた溶剤導入口と、
前記溶剤導入ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有し、
前記溶剤排出ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤排出スリットと、
前記溶剤排出スリットを覆うように設けられた溶剤排出ヘッドと、
前記溶剤排出ヘッドの上面に設けられた溶剤排出口と、
前記溶剤排出ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有することを特徴とするリフロー処理装置。 - 基板上のレジストを溶剤雰囲気中で軟化させて流動化させるリフロー処理装置であって、
基板が水平姿勢で搬送される搬送路と、
前記搬送路に沿って基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送路を含む搬送空間の所定部分に、基板の全幅に亘って、基板が通過することによりその上のレジストにリフロー処理が施される所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部を形成するリフロー処理部形成機構と、を具備し、
前記リフロー処理部形成機構は、前記搬送空間の前記所定部分に溶剤を導入する溶剤導入ノズルおよび前記所定部分から溶剤を排出する溶剤排出ノズルを隣接した状態で配置してなるノズルユニットと、前記所定部分の溶剤雰囲気の濃度変動を抑制する溶剤濃度変動抑制機構とを備え、前記溶剤導入ノズルによる溶剤の導入および前記溶剤排出ノズルによる溶剤の排出を調整し、かつ溶剤濃度変動抑制機構により基板に対する実効的な溶剤濃度の変動を抑制して前記リフロー処理部を形成し、
前記溶剤導入ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤導入スリットと、
前記溶剤導入スリットを覆うように設けられた溶剤導入ヘッドと、
前記溶剤導入ヘッドの上面に設けられた溶剤導入口と、
前記溶剤導入ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有し、
前記溶剤排出ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤排出スリットと、
前記溶剤排出スリットを覆うように設けられた溶剤排出ヘッドと、
前記溶剤排出ヘッドの上面に設けられた溶剤排出口と、
前記溶剤排出ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有することを特徴とするリフロー処理装置。 - 前記溶剤濃度変動抑制機構は、前記搬送機構による基板の搬送および前記溶剤雰囲気の一方または両方を制御して基板に対する実効的な溶剤濃度の変動を抑制する制御機構を有することを特徴とする請求項2に記載のリフロー処理装置。
- 前記溶剤濃度変動抑制機構は、前記ノズルユニットの下端の上流側端部および下流側端部に、前記リフロー処理部形成機構の基板の略全幅に亘って下方に延びるように設けられた、リフロー処理部を区画する仕切り部材を有することを特徴とする請求項2に記載のリフロー処理装置。
- 前記仕切り部材の下端と前記搬送路を走行する基板との距離が2〜5mmであることを特徴とする請求項4に記載のリフロー処理装置。
- 前記溶剤濃度変動抑制機構は、前記ノズルユニットの底部における前記溶剤導入ノズルおよび前記溶剤排出ノズルの間の部分に、基板の全幅に亘って下方に延びる中間仕切り部材を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載のリフロー処理装置。
- 前記中間仕切り部材の下端と前記搬送路を走行する基板との距離が
3〜7mmであることを特徴とする請求項6に記載のリフロー処理装置。 - 基板上のレジストを溶剤雰囲気中で軟化させて流動化させるリフロー処理装置であって、
基板が水平姿勢で搬送される搬送路と、
前記搬送路に沿って基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送路を含む搬送空間の所定部分に、溶剤を導入する溶剤導入ノズルおよび溶剤を排出する溶剤排出ノズルを隣接した状態で配置してなり、基板が通過することによりその上のレジストにリフロー処理が施される所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部を基板の全幅に亘って形成するノズルユニットと、
前記ノズルユニットの下端の上流側端部および下流側端部に、前記リフロー処理部の基板の略全幅に亘って下方に延びるように設けられた、リフロー処理部を区画する仕切り部材と、
を具備し、
前記溶剤導入ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤導入スリットと、
前記溶剤導入スリットを覆うように設けられた溶剤導入ヘッドと、
前記溶剤導入ヘッドの上面に設けられた溶剤導入口と、
前記溶剤導入ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有し、
前記溶剤排出ノズルは、
前記基板の幅方向に沿ってかつ前記基板の全幅に亘って形成された溶剤排出スリットと、
前記溶剤排出スリットを覆うように設けられた溶剤排出ヘッドと、
前記溶剤排出ヘッドの上面に設けられた溶剤排出口と、
前記溶剤排出ヘッドの内部に設けられた、前記基板の幅方向に沿って断面鈎状をなす邪魔板と、を有することを特徴とするリフロー処理装置。 - 前記仕切り部材の下端と前記搬送路を走行する基板との距離が2〜5mmであることを特徴とする請求項8に記載のリフロー処理装置。
- 前記ノズルユニットの底部における前記溶剤導入ノズルおよび前記溶剤排出ノズルの間の部分に、基板の全幅に亘って下方に延びる中間仕切り部材をさらに具備することを特徴とする請求項8または請求項9に記載のリフロー処理装置。
- 前記中間仕切り部材の下端と前記搬送路を走行する基板との距離が
3〜7mmであることを特徴とする請求項10に記載のリフロー処理装置。 - 基板上のレジストを溶剤雰囲気中で軟化させて流動化させるリフロー処理方法であって、
基板を搬送する搬送路を含む搬送空間の所定部分に溶剤を導入する請求項1に記載された溶剤導入ノズルおよび前記所定部分から溶剤を排出する請求項1に記載された溶剤排出ノズルを隣接した状態で配置してなるノズルユニットを用いて、前記溶剤導入ノズルから溶剤を導入しながら前記溶剤排出ノズルから溶剤を排出して、前記搬送空間の前記所定部分に、基板の全幅に亘って、所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部を形成する工程と、
基板を前記搬送路に沿って水平姿勢で搬送し、前記リフロー処理部を通過させ、基板上のレジストにリフロー処理を施す工程と
を有することを特徴とするリフロー処理方法。 - 基板上のレジストを溶剤雰囲気中で軟化させて流動化させるリフロー処理方法であって、
基板を搬送する搬送路を含む搬送空間の所定部分に溶剤を導入する請求項1に記載された溶剤導入ノズルおよび前記所定部分から溶剤を排出する請求項1に記載された溶剤排出ノズルを隣接した状態で配置してなるノズルユニットを用いて、前記溶剤導入ノズルから溶剤を導入しながら前記溶剤排出ノズルから溶剤を排出して、前記搬送空間の前記所定部分に、基板の全幅に亘って、所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部を形成する工程と、
基板を搬送路に沿って水平姿勢で搬送し、前記リフロー処理部を通過させ、基板上のレジストにリフロー処理を施す工程と、
基板を搬送する際に、前記リフロー処理部の溶剤雰囲気の濃度変動を抑制する工程と
を有することを特徴とするリフロー処理方法。
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