JP5671089B2 - 基板処理装置及び方法 - Google Patents

Description

本発明は基板処理装置及び方法に関し、より詳細には基板へ処理液を供給して基板を処理する装置及び方法に関する。

一般的に平板ディスプレー製造工程は蒸着工程、写真工程、蝕刻工程、及び洗浄工程等の多様な工程が要求される。これらの中で写真工程は蝕刻工程の前に基板上に感光膜でパターンを形成する工程である。写真工程は大きく基板上に感光膜を塗布する塗布工程、マスクで形成されたパターンを感光膜上に転写する露光工程、感光膜で光が照射された領域又は反対領域を選択的に除去する現像工程からなる。これらの中で現像工程は基板上に均一な厚さに現像液の膜を形成することが重要である。

一般的に基板処理装置は内部に搬送ユニットを有する複数の処理室が直列に連結され、基板は処理室を順次移動しながら、現像工程及び洗浄工程等のような一連の工程が順次進行される。これらの処理室の中で基板の上に現像液を供給する処理室は内部に基板の幅に対応される長さを有するノズル（図２の２００）が基板の搬送方向に垂直に提供される。基板が処理室内で移動されることによって、基板の全体領域に現像液が供給される。図１は現像工程を遂行する処理室１００を概略的に示す図である。処理室１００の前方壁１０２及び後方壁（図示せず）には各々基板１０の出入のための通路として機能する開口１２０が提供される。一般的に開口１２０は長方形状に提供される。

しかし、図１の処理室１００内で現像工程を遂行する場合、図２のように開口１２０の両側領域１２２と隣接する基板１０の縁領域１２は他の領域に比べて相対的に現像液の膜３００が薄く形成される。したがって、基板１０の縁領域１２で現像均一度が低下される。

日本国特表２０１０−５２０６２１号公報

発明が解決しようする課題

本発明の実施形態は基板の全体領域に処理液の膜を均一な厚さに提供できる基板処理装置及び方法を提供する。

また、本発明の実施形態は基板が出入される開口を通じて流入される気流の速度を処理室内の領域別に制御できる基板処理装置及び方法を提供する。

本発明が解決しようとする課題はここに制限されるものではなく、言及されていないその他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解され得る。

本発明の一実施形態によれば、基板処理装置が提供される。基板処理装置は基板が搬入される開口を有するハウジング、前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズル、及び前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーを含み、前記ドアアセンブリーは前記開口の横方向に沿って並べて提供される複数のドアと前記ドアの中の少なくとも１つを上下方向へ移動させる駆動器を有する。

前記開口は長方形状を有し、前記ドアの各々は長方形状を有することがある。また、前記基板は長方形の板形状を有し、前記ノズルは前記基板の辺の中で前記開口の横方向と平行な辺に対応するか、或いはさらに長い長さを有し、前記ノズルの横方向は前記開口の横方向と平行に提供され得る。前記処理室内には基板を搬送する搬送ユニットが提供され得る。

前記複数のドアは独立的に駆動できるように各々の前記ドアには個別的に前記駆動器が結合され得る。前記複数のドアは前記開口の横方向で中央領域に位置した中央ドア、前記開口の一側部に位置した第１側部ドア、及び前記開口の他側部に位置した第２側部ドアを有することができる。

一例によれば、前記駆動器は前記中央ドアを駆動する中央駆動器、前記第１側部ドアを駆動する第１側部駆動器、及び前記第２側部ドアを駆動する第２側部駆動器を有することがある。

他の例によれば、前記駆動器は前記中央ドアを駆動する中央駆動器と前記第１側部ドアと前記第２側部ドアを同時に駆動する側部駆動器を有することがある。

本発明の他の実施形態によれば、基板処理装置は基板が搬入される開口を有するハウジング、前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズル、及び前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーを含み、前記ドアアセンブリーは前記開口の長さに対応する長さを有するドアと前記ドアを上下方向へ移動させる駆動器を含み、前記ドアは前記ドアが上下方向へ移動することによって、前記開口の横方向に沿う前記開口の開放幅が異なるような形状となる。

一例によれば、前記開口は大体に長方形状を有し、前記ドアはその両側部領域の下端の高さがその中央領域の下端の高さより高く提供され得る。

本発明のその他の実施形態によれば、基板処理装置は基板が搬入される開口を有するハウジングと前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズルを含み、前記開口はその横方向に沿って上下方向に幅が異なるように提供される。前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーを提供され得る。

前記開口はその両側部領域の上端の高さがその中央領域の上端の高さより高く提供され得る。

また、本発明は基板を処理する方法を提供する。前記方法によれば、基板が搬入される開口を有するハウジング内で基板へ処理液を供給して基板を処理し、前記開口の横方向に沿って上下開口の開放幅を異なるように提供した状態で前記基板を処理する。

一例によれば、前記開口は横方向に沿ってその側部領域がその中央領域に比べて開放幅がさらに大きく提供され得る。前記開口の両側部領域で開放幅は互いに異なるように提供され得る。

一例によれば、前記開口の横方向に沿って複数のドアが提供し、前記ドアの中で少なくとも１つのドアの高さを調節し前記開口の開放幅を調節することがある。

前記処理液は現像液であり得る。

前記基板は長方形の板形状を有し、前記ノズルは前記基板の辺の中で前記開口の横方向と平行な辺とさらに長い長さを有し、前記ノズルの横方向は前記開口の横方向と平行に提供され得る。

本発明の実施形態によれば、基板の全体領域に処理液の膜を均一な厚さに提供することがある。

また、本発明の実施形態によれば、基板が出入される開口を通じて流入される気流の速度を処理室内領域別に調節することがある。

また、本発明の実施形態によれば、基板の全体領域で現像均一度を向上させることがある。

一般的な処理室の一例を示す斜視図である。 図１の処理室で現像工程遂行の時基板に形成された処理液の膜厚さ状態を示す図面である。 本発明の一実施形態による基板処理装置の側面図及び平面図である。 本発明の一実施形態による基板処理装置の側面図及び平面図である。 図４のノズルの斜視図である。 図３で現像工程を遂行する処理室の斜視図である。 図６の処理室で開口の横方向に沿う開口の開放幅の例を示す図面である。 図６の処理室で開口の横方向に沿う開口の開放幅の例を示す図面である。 図６のドアアセンブリーの変形例を示す図面である。 図６のドアアセンブリーの変形例を示す図面である。 図６のドアアセンブリーの変形例を示す図面である。 図６のドアアセンブリーの変形例を示す図面である。 図６の処理室の他の実施形態を示す図面である。 図６の処理室の他の実施形態を示す図面である。 図６の処理室の他の実施形態を示す図面である。 図６の処理室の他の実施形態を示す図面である。 図６の処理室の他の実施形態を示す図面である。

以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施形態による基板処理装置を詳細に説明する。本発明を説明することにおいて、関連された公知の構成又は機能に対する具体的な説明が本発明の要旨を不明確にすることがあり得ると判断される場合にはその詳細な説明は省略する。

本実施形態で基板処理装置は基板１０上に現像工程を遂行する。しかし、本発明の技術的思想はこれに限定するものではなく、基板１０上に処理液を供給して処理液の膜を形成する多様な種類の工程に適用され得る。

また、本実施形態で基板１０は表示装置を製造するために使用される長方形状の基板１０を例として説明する。しかし、基板１０の種類はこれに限定するものではなく、基板１０は半導体ウエハー等のように板形状を有する多様な種類の基板１０であり得る。

図３と図４は本発明の一実施形態による基板処理装置２０を示す図面である。図３は基板処理装置２０の側面を示す図面であり、図４は図１の処理室１０００の中で現像工程を遂行する処理室１０００の平面を示す図面である。

図３と図４を参照すれば、基板処理装置は複数の処理室１０００及び搬送ユニット５００を有する。複数の処理室１０００、１００１は各々基板１０に対しても所定の工程を遂行する。一例によれば、処理室の中で１つは現像工程を遂行する処理室１０００であり、処理室の中でその他の１つは洗浄工程を遂行する処理室１００１であることがある。洗浄工程は現像工程が完了された基板１０に対しても遂行できる。また、処理室１０００の前方には外部から基板１０が伝達され、基板１０を処理室１０００へ搬送するローダー室１００２が提供され得る。

本実施形態で基板１０は横辺１６と縦辺１８を有する。基板１０の横辺１６は基板１０の搬送方向に平行な辺であり、縦辺１８は基板１０の搬送方向に垂直となる辺である。

搬送ユニット５００はローダー室１００２と処理室１０００の間へ、及び処理室１０００、１００１の間へ基板１０を搬送する。一例によれば、搬送ユニット５００は複数のシャフト５２０、ローラー５４０、及び駆動部５６０を有する。シャフト５２０はローダー室１００２及び処理室１０００、１００１内に提供される。シャフト５２０は互いに平行に、そして同一の高さに配置される。処理室１０００、１００１内でシャフト５２０は基板１０が搬入される開口１２２０に隣接する位置から基板１０が搬出される開口１２３０に隣接する位置まで提供される。各々のシャフト５２０にはその横方向に沿って複数のローラー５４０が固定し結合される。シャフト５２０はその中心軸を基準に駆動部５６０によって回転する。駆動部５６０はプーリ５６２、ベルト５６４、及びモーター５６６を有する。プーリ５６２は各々のシャフト５２０の両端に各々結合される。互に異なるシャフト５２０に結合され、互に隣接するように配置されたプーリ５６２はベルト５６４によって互いに連結される。プーリ５６２の中でいずれか１つにはこれを回転させるモーター５６６が結合される。上述したプーリ５６２、ベルト５６４、及びモーター５６６の組立体によって、シャフト５２０とローラー５４０が回転し、基板１０はその下面がローラー５４０に接触した状態にシャフト５２０をしたがって直線移動する。各々のシャフト５２０は水平に配置されて基板１０は水平状態に移送され得る。

搬送ユニット５００は上述した構造に限定されない。例えば、搬送ユニットで駆動部は磁力を利用してシャフトを駆動する構造に提供され得る。また、搬送ユニットはコンベヤーベルトを具備して基板１０を搬送することができる。また、搬送ユニットはレール上に基板１０を磁気浮上（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｌｅｖｉａｔａｉｏｎ）させて搬送することができる。

次に基板１０に対して現像工程を遂行する処理室１０００の構造に対して説明する。図３と図４を再び参照すると、処理室１０００はハウジング１２００、ノズル１４００、及びドアアセンブリー１６００を有する。

ハウジング１２００は前方壁１２０２、後方壁１２０４、２つの側壁１２０５、１２０６、上部壁１２０７、及び下部壁１２０８を有する。前方壁１２０２と後方壁１２０４は基板１０の搬送方向に沿って互いに離隔されるように提供される。２つの側壁１２０５、１２０６は各々前方壁１２０２に対しても垂直に提供される。前方壁１２０２、後方壁１２０４、２つの側壁１２０５、１２０６、及び下部壁１２０８は互いに組合され大体上部が開放された直六面体の形状を有するように提供され得る。上部壁１２０７は図６のように中央部が上部に突出するように２つの傾いた壁を有することがある。即ち、前方壁１２０２と垂直になる方向から見る時上部壁１２０７は三角形形状に提供され得る。この場合、ハウジング１２００は前方壁１２０２と垂直になる方向から見る時、大体五角形状を有することある。これと異なり、上部壁１２０７は１つの平らな壁で提供され、前方壁１２０２と垂直になる方向から見る時、ハウジング１２００は大体長方形の形状を有することがある。

前方壁１２０２及び後方壁１２０４には各々開口１２２０、１２３０が形成される。前方壁１２０２に形成された開口１２２０はハウジング１２００内へ基板１０が搬入される通路として提供され、後方壁１２０４に形成された開口１２３０はハウジング１２００から基板１０が搬出される通路として提供される。前方壁１２０２に形成された開口１２２０と後方壁１２０４に形成された開口１２３０は大体同一の大きさ及び形状で提供され得る。一例によれば、開口１２２０は大体長方形の形状に提供される。開口１２２０は幅辺（ｗｉｄｔｈ ｓｉｄｅ、図６の１２２２）及び長辺（ｌｅｎｇｔｈ ｓｉｄｅ、図６の１２２３）を有する。開口１２２０の幅辺１２２２は上下方向の辺であり、開口１２２０の長辺１２２３は基板１０の搬送方向に垂直になる方向の辺である。

ハウジング１２００には排気口１２１２が形成される。排気口１２１２はハウジング１２００内で発生されたヒューム及びハウジング１２００内の大気をハウジング１２００の外部へ排気する。排気口１２１２には排気ライン１９０１が連結され、排気ライン１９０１にはハウジング１２００内のフュームを強制的に排気するためにポンプ１９０３が設置され得る。一例によれば、排気口１２１２はハウジング１２００の側壁１２０５、１２０６の中でいずれか１つに形成される。選択的に排気口１２１２はハウジング１２００の両側壁１２０５、１２０６の各々に提供されるか、或いは上部壁１２０７又は下部壁１２０８へ提供され得る。

ノズル１４００は基板１０の上に現像液を供給する。図５はノズル１４００の一例を示す斜視図である。図５を参照すれば、ノズル１４００は本体１４２０及び現像液供給路１４4０を有する。

本体１４２０は基板１０の横辺１６に対応するか、或いはこれより僅かに長い長さを有する。本体１４２０はその横方向が基板１０の搬送方向と垂直に配置される。本体１４２０で上部領域１４２２は大体に直六面体の形状を有し、下部領域１４２４は上部領域１４２２から下方向に延長され下に行くほど、漸進的に幅が狭くなる形状を有する。本体１４２０の下端には吐出口１４６０が形成される。吐出口１４６０は本体１４２０の横方向に沿って長く提供される。例えば、吐出口１４６０はスリットに提供され得る。吐出口１４６０の長さは基板１０の横辺１６に対応するか、或いはこれより僅かに長い長さに提供される。

現像液供給路１４４０は本体１４２０の内部に提供される。現像液供給路１４４０はバッファ１４４４、流出通路１４４６、及び流入通路１４４８を有する。バッファ１４４４は本体１４２０の内部に提供される。バッファ１４４４は本体１４２０の横方向に沿って長く提供される。流入通路１４４８はバッファ１４４４から現像液供給管１４８２が連結されるポート１４７２まで延長される。流出通路１４４６はバッファ１４４４の下方向に形成され、バッファ１４４４から吐出口１４６０まで延長される。流出通路１４４６の長さは吐出口１４６０の長さに対応するように提供される。

ノズル１４００は大体基板１０と垂直に配置され得る。選択的にノズル１４００は基板１０に傾くように配置され得る。選択的にノズルは２個提供され、１つのノズルは基板１０に傾くように配置され、他のノズルは基板１０と垂直に配置され得る。

上述したノズル１４００の構造は一例として示したものであり、ノズル１４００はこれと異なるように多様な形状及び構造に提供され得る。

ドアアセンブリー１６００は基板１０が搬入される開口１２２０を開閉する。ドアアセンブリー１６００は開口１２２０の横方向に沿って領域別に開口１２２０の開放幅を調節できる構造に提供される。本実施形態で開口１２２０の開放幅は開口１２２０が上下方向に開放された程度を意味する。一例によれば、ドアアセンブリー１６００は開口１２２０の側部領域１２２２及び中央領域１２２４で開口１２２０の開放幅を互いに異なるように調節できるように提供される。

図６は処理室１０００に設置されたドアアセンブリー１６００の一例を示す斜視図である。図６を参照すれば、ドアアセンブリー１６００は複数のドア１６２０と複数の駆動器１６４０を有する。ドア１６２０は開口１２２０の横方向にしたがって一列に提供される。したがって、開口１２２０は横方向に沿って領域別に互いに異なるドア１６２０によって、その開放率が調節される。各々のドア１６２０は幅辺（ｗｉｄｔｈ ｓｉｄｅ、１６２７）と長辺（ｌｅｎｇｔｈ ｓｉｄｅ、１６２８）を有する。ドア１６２０の幅辺１６２７は開口１２２０の幅辺１２２２と平行な辺であり、ドア１６２０の長辺１６２８は開口１２２０の長辺１６２３と平行な辺である。

一例によれば、ドア１６２０は３つが提供され得る。以下、中央に位置されたドアを内側ドア１６２２と称し、外方に位置されたドアを各々第１外側ドア１６２４及び第２外側ドア１６２６と称する。内側ドア１６２２は開口１２２０の中央領域１２２４の開放幅を調節し、第１外側ドア１６２４と第２外側ドア１６２６は各々開口１２２０の両側部領域１２２２の開放幅を調節する。開口１２２０の側部領域１２２２は開口１２２０の横方向から見る時、開口１２２０の縁領域である。開口１２２０の側部領域１２２２で開放幅はハウジング１２００内の基板１０の縁領域１２で気流の速度に影響を及ぼす。

第１外側ドア１６２４と第２外側ドア１６２６は互いに対称となるように同一の大きさに提供される。内側ドア１６２２と第１外側ドア１６２４は各々長方形状を有する。内側ドア１６２２は第１外側ドア１６２４に比べてさらに長い長辺１６２７を有するように提供される。また、内側ドア１６２２は第１外側ドア１６２４と同一な幅辺１２２８を有するように提供される。しかし、内側ドア１６２２、第１外側ドア１６２４、及び第２外側ドア１６２６の長辺１２２７及び幅辺１２２８の大きさはこれに限定されるものではなく、処理室１０００内の気流を多様に制御するために変更できる。例えば、第１外側ドア１６２４と第２外側ドア１６２６は互いに異なる大きさの長辺１２２７を有するように提供され得る。また、内側ドア１６２２、第１外側ドア１６２４、及び第２外側ドア１６２６は互いに異なる大きさの幅辺１２２８を有するように提供され得る。

駆動器１６４０はドア１６２０を上下方向へ移動させる。ドア１６２０の移動が各々独立的に行われるように各々のドア１６２０には駆動器１６４０が個別的に提供される。したがって、開口１２２０の側部領域１２２２と中央領域１２２４で開放幅が異なるように提供され得る。一例によれば、駆動器１６４０はモーター又はシリンダーを有することができる。上述したように３つのドア１６２２、１６２４、１６２６が提供される場合、３つの駆動器１６４２、１６４４、１６４６が提供され得る。以下内側ドア１６２２、第１外側ドア１６２４、及び第２外側ドア１６２６を駆動する駆動器１６４０を各々内側駆動器１６４２、第１外側駆動器１６４４、及び第２外側駆動器１６４６と称する。

制御器７００は搬送ユニット５００、ノズル１４００、及び駆動器１６４０を制御する。具体的には制御器７００は基板１０の移送速度を調節するためにシャフト５２０の回転速度を調節することができる。また制御器７００は現像液の吐出時期及び吐出量を調節するためにノズル１４００を制御することができる。また、制御器７００は開口１２２０の開放幅を調節するためにドア１６２０を移動させる駆動器１６４０を制御することができる。

図１のように横方向に沿って同一の高さに開口１２２０が開放された場合、処理室１０００内で開口１２２０の側部領域を通じて搬入される基板１０の縁領域で現像液の膜の厚さは図２のように他の領域に比べて相対的に薄い。その原因のうちの１つは開口１２２０の側部領域１２２２を通じて処理室１０００へ流入される気流の速度が開口１２２０の中央領域１２２４を通じて処理室１０００へ流入される気流の速度より速いので、それによって、基板１０の縁領域１２で現像液が中央領域１４に比べて相対的にさらに多く飛散されるためである。

開口１２２０の中央領域１２２４は一定の幅以上に開放されれば、大体気流が基板１０の中央領域１４で現像液の膜の厚さに及ぶ影響が小さい。これに反して、開口１２２０の側部領域１２２２では開放される開口１２２０の幅が大きくなれば、基板１０の縁領域１２で気流の速度が遅くなって、現像液の膜の厚さが薄くなる問題が減少される。

図７は基板１０へ現像液が供給される時、開口１２２０の開放幅の一例を示す。

図７によれば、制御器（図３の７００）は開口１２２０の両側部領域の開放幅ｈ１が中央領域の開放幅ｈ２より大きくなるように内側駆動器１６４２、第１外側駆動器１６４４、及び第２外側駆動器１６４６を制御する。また、制御器７００は開口１２２０の両側部領域の開放幅ｈ１は互いに同一となるように第１外側駆動器１６４４と第２外側駆動器１６４６を制御する。

選択的に制御器（図３の７００）は図８のように開口１２２０の両側部領域の開放幅ｈ３、ｈ４が互いに異なるものとなるように第１外側駆動器１６４４と第２外側駆動器１６４６を制御する。一例として、排気口１２１２がハウジング１２００の側壁の中でいずれか１つに提供される場合、基板１０の両側縁領域１２で気流の速度が互いに異なることがある。この場合、制御器７００は基板１０の縁領域１２で現像液の膜の厚さが同一であるように開口１２２０の両側部領域の開放幅ｈ３、ｈ４を互いに異なるものとなるように調節することがある。

また、処理室１０００内部には上述した搬送ユニット５００及びノズル１４００以外に他の多様な構成要素が設置され得る。これらの構成要素又は他の要因によって、処理室１０００内部の気流は領域にしたがって多様である。したがって、制御器７００は基板１０の領域別の現像液の膜の厚さにしたがって、内側ドア１６２２、第１外側ドア１６２４、及び第２外側ドア１６２６の開放幅を多様に調節することができる。

次に図９乃至図１２を参照しドアアセンブリーの多様な変形形態に対しても説明する。図９乃至図１２で処理室はドアアセンブリーを除外して大体図６の処理室１０００と類似となる構造を有する。

図９の処理室２０００のようにドアアセンブリー２６００でドア２６２０の数は多様に提供され得る。例えば、ドア２６２０は図６の実施形態と異なり２つ又は４つ以上に提供され得る。例えば、ドアアセンブリー２６００は５つのドア２６２０を有することがある。

また、図１０の処理室３０００のようにドアの中で一部は１つの駆動器によって、同時に駆動され得る。例えば、ドアアセンブリー３６００で駆動器３６４０は内側ドア３６２２を駆動する内側駆動器３６４２と第１外側ドア３６２４及び第２外側ドア３６２６を同時に駆動する外側駆動器３６４４を有することがある。

また、図１１の処理室４０００のように、ドアアセンブリー４６００でドア４６２０は固定ドア４６２２と駆動ドア４６２４を有することがある。固定ドア４６２２は開口４２２０の一定の領域で開口４２２０の幅の一部を遮断するようにハウジング４２００も固定設置され、駆動器４６４０は駆動ドア４６２４のみ結合される。駆動ドア４６２４は駆動器４６４０によって上下へ移動できるように提供される。例えば、開口４２２０の中央領域には固定ドア４６２２が配置され、開口４２２０の両側部領域には各々駆動ドア４６２４が配置され得る。固定ドア４６２２は開口４２２０でその上部領域を一部遮断するように配置され得る。図１１では固定ドア４６２２の各々に駆動器４６４０が設置されるものとして図示したが、これと異なり２つの固定ドア４６２２は１つの駆動器によって駆動され得る。

また、図１２の処理室５０００のように、ドアアセンブリー５６００でドア５６２０の中で一部は下端が傾くように提供され得る。例えば、内側ドア５６２２の下端は水平に提供され、第１外側ドア５６２４と第２外側ドア５６２６の下端は傾くように提供され得る。この場合、第１外側ドア５６２４と第２外側ドア５６２６の下端は内側ドア５６２２から遠くなるほど、上向きに傾くように提供され得る。これは開口５２２０がその中央領域で遠くなるほど、開放幅が漸進的に大きくなるようにする。

図６及び図９乃至図１２のドアアセンブリーを使用する場合、開口の開放幅を多様に変更できるように、基板１０の領域別に現像液の膜の厚さの状態にしたがって領域別に開口の開放幅を多様に変更することがある。

図１３と図１４は各々処理室の他の実施形態を示す図面である。図１３と図１４で処理室６０００、７０００はドアアセンブリー６６００、７６００を除外して大体図６の処理室１０００と類似な構造を有する。図１３の処理室６０００でハウジング６２００の開口６２２０は大体に長方形状に提供される。ドアアセンブリー６６００は１つのドア６６２０及び駆動器６６４０を有する。ドア６６２０はその横方向に沿って幅の大きさが異なり提供される。例えば、ドア６６２０の上端はその横方向に沿って同一の高さに提供され、ドア６６２０の下端は段差を有するように提供され得る。一例によれば、ドア６６２０は両側部領域で下端の高さが中央領域で下端の高さより高く提供され得る。ドア６６２０は両側部領域で下端の高さは互いに同様に提供され得る。これと異なり、ドア６６２０は両側部領域で下端の高さは互いに異なるように提供され得る。選択的に図１４の処理室７０００のように、ドア７６２０は両側部領域で下端の高さが中央領域で遠くなるほど、漸進的に高くなるように提供され得る。

図１５と図１６は各々処理室のその他の実施形態を示す斜視図である。図１５と図１６で処理室８０００、９０００は開口８２２０、９２２０の形状及びドアアセンブリー８６００、９６００を除外して大体図６の処理室１０００と類似な構造を有する。図１５の処理室８０００で開口８２２０はその横方向に沿って幅の大きさが異なり提供される。例えば、開口８２２０の下端はその横方向に沿って同一の高さに提供され、開口８２２０の上端は段差を有するように提供され得る。一例によれば、開口８２２０は両側部領域で上端の高さが中央領域で上端の高さより高く提供され得る。また、開口８２２０は両側領域で上端の高さが互いに異なるように提供され得る。選択的に図１６の処理室９０００のように、ドア９６２０は両側領域で上端の高さが中央領域で遠くなるほど、漸進的に高くなるように提供され得る。

図１３乃至図１６の処理室は１つのドアのみを利用して開口の開放幅を変更できるので、他の実施形態の処理室に比べて装置構造が簡単である。図１３乃至図１６では開口の中央領域で開放幅は開口の両側部領域で開放幅より小さいことを例として説明した。しかし処理室内の気流の流れ及び基板１０で領域別に現像液の膜の厚さにしたがって開口の横方向に沿う領域別に開放幅が多様に提供されるようにドア及び開口の形状は多様に変更できる。

図１７は処理室のその他の実施形態を示す図面である。図１７で処理室１００００は開口１０２２０は図１５のようにその横方向に沿って上下方向に他の開放幅を有する。但し、図１７の処理室１００００にはドアアセンブリーが提供されず、開口１０２２０は常に開放された状態を維持する。

上述した例では基板１０が搬入される開口及びその開口の開放幅を調節するドアアセンブリーに対しても説明した。基板が搬出される開口及びその開口の開放幅を調節するドアアセンブリーもこれと同一の構造に提供され得る。

以上の説明は本発明の技術思想を例示的に説明した物に過ぎないので、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性で逸脱しない範囲で多様な修正及び変形が可能である。したがって、本発明に開示された実施形態は本発明の技術思想を限定するものではなく、単なる説明するためのものであり、このような実施形態によって、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。本発明の保護範囲は下の特許請求の範囲によって解釈しなければならないし、それと同等な範囲内にある全て技術思想は本発明の権利範囲に含まれるものとして解釈するべきである。

１０００・・・処理室
１２００・・・ハウジング
１４００・・・ノズル
１６００・・・ドアアセンブリー
１６２０・・・ドア
１６４０・・・駆動器

Claims (19)

1. 基板を処理する装置において、
   基板が搬入される開口を有するハウジングと、
   前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズルと、
   前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーと、を含み、
   前記ドアアセンブリーは、
   前記開口の横方向に沿って並べて提供される複数のドアと、
   前記ドアの中で少なくとも１つを上下方向へ移動させる駆動器と、を有する基板処理装置であって、
   前記開口の両側部領域の開放率は、前記開口の中央領域の開放率とは異なることを特徴とする、基板処理装置。
2. 前記開口は長方形状を有し、
   前記ドアの各々は長方形状を有する請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記基板は長方形の板形状を有し、
   前記ノズルは前記基板の辺の中で前記開口の横方向と平行な辺と対応するか、或いはさらに長い長さを有し、
   前記ノズルの横方向は前記開口の横方向と平行に提供される請求項１に記載の基板処理装置。
4. 前記処理室内に提供され、基板を搬送する搬送ユニットをさらに含む請求項１に記載の基板処理装置。
5. 前記複数のドアは独立的に駆動できるように各々の前記ドアに個別的に前記駆動器が結合される請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。
6. 前記複数のドアは、
   前記開口の横方向で中央領域に位置した中央ドアと、
   前記開口の一側部に位置した第１側部ドアと、
   前記開口の他側部に位置した第２側部ドアを有する請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。
7. 前記駆動器は、
   前記中央ドアを駆動する中央駆動器と、
   前記第１側部ドアを駆動する第１側部駆動器と、
   前記第２側部ドアを駆動する第２側部駆動器と、を有する請求項６に記載の基板処理装置。
8. 前記駆動器は、
   前記中央ドアを駆動する中央駆動器と、
   前記第１側部ドアと前記第２側部ドアを同時に駆動する側部駆動器とを有する請求項６に記載の基板処理装置。
9. 基板を処理する装置において、
   基板が搬入される開口を有するハウジングと、
   前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズルと、
   前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーと、を含み、
   前記ドアアセンブリーは、
   前記開口の長さに対応する長さを有するドアと、
   前記ドアを上下方向へ移動させる駆動器と、を含み、
   前記ドアは前記ドアが上下方向へ移動することによって、前記開口の横方向に沿う前記開口の開放幅が異なる形状を有する基板処理装置であって、
   前記開口の両側部領域の開放率は、前記開口の中央領域の開放率とは異なることを特徴とする、基板処理装置。
10. 前記開口は大体に長方形状を有し、
    前記ドアはその両側部領域の下端の高さがその中央領域の下端の高さより高く提供される請求項９に記載の基板処理装置。
11. 基板を処理する装置において、
    基板が搬入される開口を有するハウジングと、
    前記ハウジング内に提供され、基板へ処理液を供給するノズルと、を含み、
    前記開口はその横方向に沿って上下方向に幅が異なるように提供される基板処理装置であって、
    前記開口の両側部領域の開放率は、前記開口の中央領域の開放率とは異なることを特徴とする、基板処理装置。
12. 前記開口の開放幅を調節するドアアセンブリーをさらに含む請求項１１に記載の基板処理装置。
13. 前記開口はその両側部領域の上端の高さがその中央領域の上端の高さより高く提供される請求項１１又は請求項１２に記載の基板処理装置。
14. 基板が搬入される開口を有するハウジング内で基板へ処理液を供給して基板を処理し、
    前記開口の横方向に沿って上下開口の開放幅を異なるように提供した状態で前記基板を処理する基板処理方法であって、
    前記開口の両側部領域の開放率は、前記開口の中央領域の開放率とは異なることを特徴とする、基板処理方法。
15. 前記開口は横方向に沿ってその側部領域がその中央領域に比べて開放幅がさらに大きく提供される請求項１４に記載の基板処理方法。
16. 前記開口の両側部領域で開放幅は互いに異なるように提供される請求項１５に記載の基板処理方法。
17. 前記開口の横方向に沿って複数のドアが提供し、前記ドアの中で少なくとも１つのドアの高さを調節して前記開口の開放幅を調節する請求項１４乃至請求項１６のいずれかに記載の基板処理方法。
18. 前記処理液は現像液である請求項１４乃至請求項１６のいずれかに記載の基板処理方法。
19. 前記基板は長方形の板形状を有し、
    前記ノズルは前記基板の辺の中で前記開口の横方向と平行な辺とさらに長い長さを有し、
    前記ノズルの横方向は前記開口の横方向と平行に提供される請求項１６に記載の基板処理方法。

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