CN103365120B - 基板处理装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可于基板的整体区域以均匀的厚度提供处理液的膜的基板处理装置及方法。本发明提供向基板供给处理液并于基板上形成处理液的膜的装置。装置具有执行基板处理的处理室，处理室具有沿着基板搬入的开口所形成的外壳及开口的横方向对开放宽度进行调节的门装配件。门装配件具有沿着开口的横方向呈一列而提供的门，门是分别各自进行驱动。

Description

基板处理装置及方法

技术领域

本发明是关于一种基板处理装置及方法，更详细而言，是关于一种向基板供给处理液对基板进行处理的装置及方法。

背景技术

一般而言平板显示器制造步骤要求有蒸镀步骤、照相步骤、蚀刻步骤及清洗步骤等多样的步骤。其中，照相步骤是于蚀刻步骤之前于基板上以感光膜形成图案的步骤。照相步骤是由较大地于基板上涂布感光膜的涂布步骤、将以屏蔽形成的图案转印于感光膜上的曝光步骤、以及以感光膜将光照射区域或者相反区域选择性地除去的显影步骤组成。其中，重要的是显影步骤中于基板上以均匀的厚度形成显影液的膜。

一般而言，基板处理装置与内部具有搬送单元的多个处理室串联连接，基板是一面顺次移动处理室，一面顺次进行如显影步骤及清洗步骤等一连串的步骤。其中，处理室之中于基板之上供给显影液的处理室是于内部与基板的搬送方向垂直提供具有与基板的宽相对应的长度的喷嘴(图2的200)。藉由基板于处理室内移动，而向基板的整体区域供给显影液。图1是表示执行显影步骤的处理室100的概略图。处理室100的前方壁102及后方壁(未图示)中提供有作为用于各基板10的出入的通路功能的开口120。一般而言，开口120以长方形状提供。

然而，图1的处理室100内执行显影步骤的情形时，如图2的开口120的两侧区域122与邻接的基板10的缘区域12是形成有与其他区域相比相对较薄的显影液的膜300。因此，基板10的缘区域12中显影均匀度下降。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本国特表2010-520621号公报

发明内容

[发明所欲解决的问题]

本发明的实施形态是提供一种于基板的整体区域可以均匀的厚度提供处理液的膜的基板处理装置及方法。

此外，本发明的实施形态是提供一种可按处理室内的区域来对藉由基板出入的开口流入的气流的速度进行控制的基板处理装置及方法。

本发明所欲解决的问题并非限制于此，未言及的其他问题从业者可从以下的记载明确理解。

[解决问题的手段]

根据本发明的一实施形态，可提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：外壳，其具有搬入基板的开口；喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；及门装配件，其用以调节所述开口的开放宽度；所述门装配件具有沿着所述开口的横方向并排提供的多个门，及所述门之中至少一个向上下方向移动的驱动器。

所述开口具有长方形状，所述各门具有长方形状。此外，所述基板具有长方形的板形状，所述喷嘴是于所述基板的边之中与所述开口的横方向以及平行边对应，或者进而具有较长的长度，所述喷嘴的横方向是与所述开口的横方向平行而提供。于所述处理室内提供搬送基板的搬送单元。

所述多个门以可独立地驱动的方式于各个所述门上个别地结合有所述驱动器。所述多个门具有：中央门，其是于所述开口的横方向上位于中央区域，第1侧部门，其是位于所述开口的一侧部，及第2侧部门，其是位于所述开口的他侧部。

根据本发明的一实施例，所述驱动器具有：驱动所述中央门的中央驱动器、驱动所述第1侧部门的第1侧部驱动器，及驱动所述第2侧部门的第2侧部驱动器。

根据本发明的其他实施例，所述驱动器具有：驱动所述中央门的中央驱动器、同时驱动所述第1侧部门与所述第2侧部门的侧部驱动器。

根据本发明的其他实施形态，可提供一种基板处理装置，其包括：外壳，其具有搬入基板的开口；喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；及调节所述开口的开放宽度的门装配件；所述门装配件包括：门，其是具有与所述开口的长度对应的长度的门，及驱动器，其是使所述门向上下方向移动的驱动器；所述门具有藉由所述门向上下方向移动，而沿着所述开口的横方向的所述开口的开放宽度不同的形状。

根据本发明的一实施例，所述开口大致为长方形状，所述门以其两侧部区域的下端的高度高于其中央区域的下端的高度而提供。

根据本发明的其他实施形态，可提供一种基板处理装置，其包括：外壳，其具有搬入基板的开口；及喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；所述开口以沿着其横方向于上下方向上宽度不同的方式而提供。

所述开口以其两侧部区域的上端的高度高于其中央区域的上端的高度而提供。

此外，本发明是提供一种基板处理方法。根据所述方法，于具有基板搬入的开口的外壳内向基板供给处理液来处理基板，以沿着所述开口的横方向上下开口的开放宽度不同的方式提供的状态下处理所述基板。

根据本发明的一实施例，所述开口以沿着横方向其侧部区域与其中央区域相比开放宽度更大的方式提供。于所述开口的两侧部区域开放宽度以相互不同的方式而提供。

根据本发明的一实施例，沿着所述开口的横方向提供多个门，对所述门之中至少一个门的高度进行调节，并调节所述开口的开放宽度。

所述处理液是显影液。

所述基板具有长方形的板形状，所述喷嘴具有于所述基板的边之中与所述开口的横方向平行的边更长的长度，所述喷嘴的横方向与所述开口的横方向相平行。

[发明的效果]

根据本发明的实施形态，于基板的整体区域可以均匀厚度提供处理液的膜。

此外，根据本发明的实施形态，可提供一种可按处理室内的区域来对藉由基板出入的开口流入的气流的速度进行调节。

此外，根据本发明的实施形态，可于基板的整体区域提高显影均匀度。

附图说明

图1是表示一般处理室的一示例的立体图。

图2是表示图1的处理室中执行显影步骤之时基板上所形成的处理液的膜厚度的状态的图示。

图3是本发明的一实施形态的基板处理装置的侧面图及平面图。

图4是本发明的一实施形态的基板处理装置的侧面图及平面图。

图5是图4的喷嘴的立体图。

图6是图3中执行显影步骤的处理室的立体图。

图7是表示图6的处理室中沿着开口的横方向的开口的开放宽度的示例的图示。

图8是表示沿着图6的处理室开口的横方向的开口的开放宽度的示例的图示。

图9是表示图6的门装配件的变形例的图示。

图10是表示图6的门装配件的变形例的图示。

图11是表示图6的门装配件的变形例的图示。

图12是表示图6的门装配件的变形例的图示。

图13是表示图6的处理室的其他实施形态的图示。

图14是表示图6的处理室的其他实施形态的图示。

图15是表示图6的处理室的其他实施形态的图示。

图16是表示图6的处理室的其他实施形态的图示。

图17是表示图6的处理室的其他实施形态的图示。

具体实施方式

以下，参照所添附的图示对本发明的较佳实施形态的基板处理装置进行详细说明。说明本发明过程中，对于相关的众所周知的构成或者功能的具体说明是判断为对本发明的要旨不明确的情形时，省略其详细说明。

本实施形态中，基板处理装置是于基板10上执行显影步骤。然而，本发明的技术思想并非限定于此，可适用于向基板10上供给处理液形成处理液的膜的多种多样的步骤。

此外，本实施形态中基板10是将用于制造显示设备所使用的长方形状的基板10作为例子进行说明。然而，基板10的种类并非限定于此，基板10是如半导体晶圆等具有板形状的多种多样的基板10。

图3与图4是表示本发明的一实施形态的基板处理装置20的图示。图3是表示基板处理装置20的侧面的图示，图4是表示图1的处理室1000之中执行显影步骤的处理室1000的平面的图示。

参照图3与图4，基板处理装置具有多个处理室1000及搬送单元500。多个处理室1000、1001即使对各基板10也执行指定的步骤。举例而言，处理室之中一个是执行显影步骤的处理室1000，处理室之中另外一个是执行清洗步骤的处理室1001。清洗步骤是即使对于显影步骤完成的基板10也可执行。此外，处理室1000的前方可提供自外部传达基板10，将基板10向处理室1000搬送的承载器室1002。

本实施形态中基板10是具有横边16与纵边18。基板10的横边16是与基板10的搬送方向平行的边，纵边18是与基板10的搬送方向垂直的边。

搬送单元500是向承载器室1002与处理室1000之间，及处理室1000、1001之间搬送基板10。举例而言，搬送单元500具有多个机械轴520、辊540及驱动部560。机械轴520是向承载器室1002及处理室1000、1001内提供。机械轴520相互平行，并且配置于同一高度。处理室1000、1001内机械轴520是自与基板10搬入开口1220邻接的位置至基板10搬出开口1230邻接的位置而提供。各个机械轴520沿着其横方向固定结合有多个辊540。机械轴520是以其中心轴为基准藉由驱动部560而旋转。驱动部560具有轮562、皮带564及马达566。轮562是与各个机械轴520的两端结合。与互不相同的机械轴520结合，并以相互邻接的方式配置的轮562藉由皮带564相互连接。轮562之中任一个结合有使其旋转的马达566。藉由所述轮562、皮带564及马达566的组立体，机械轴520与辊540旋转，基板10是于其下面与辊540接触的状态下藉由机械轴520而进行直线移动。各个机械轴520水平配置基板10向水平状态移送。

搬送单元500并非限定于所述构造。例如，搬送单元中驱动部是以利用磁力驱动机械轴的构造而提供。此外，搬送单元可具备输送机皮带并搬送基板10。此外，搬送单元可于轨道上使基板10磁悬浮(magneticlevitation)进行搬送。

其次，针对基板10对执行显影步骤的处理室1000的构造进行说明。再次参照图3与图4，处理室1000具有外壳1200、喷嘴1400及门装配件1600。

外壳1200具有前方壁1202、后方壁1204、两个侧壁1205、1206、上部壁1207及下部壁1208。前方壁1202与后方壁1204是沿着基板10的搬送方向而相互隔离而提供。两个侧壁1205、1206也可与各前方壁1202垂直提供。前方壁1202、后方壁1204、两个的侧壁1205、1206，及下部壁1208是以相互组合的大致上部开放的长方体的形状的方式而提供。上部壁1207是如图6以中央部突出上部的方式具有两个的倾斜壁。即，与前方壁1202垂直的方向看时上部壁1207为三角形的形状而提供。该情形下，外壳1200自与前方壁1202垂直的方向看时，具有大致五角形状。与此不同，上部壁1207是以一个平壁而提供，自与前方壁1202垂直的方向看时，外壳1200具有大致长方形的形状。

前方壁1202及后方壁1204形成有各开口1220、1230。前方壁1202上所形成的开口1220是作为向外壳1200内搬入基板10的通路而提供，后方壁1204上所形成的开口1230是作为自外壳1200搬出基板10的通路而提供。前方壁1202上所形成的开口1220与于后方壁1204上所形成的开口1230是以大致同一大小及形状而提供。举例而言，开口1220是以大致长方形的形状而提供。开口1220是具有宽边(widthside，图6的1222)及长边(lengthside，图6的1223)。开口1220的宽边1222是上下方向的边，开口1220的长边1223是与基板10的搬送方向相垂直的方向的边。

外壳1200中形成有排气口1212。排气口1212是将于外壳1200内发生的烟雾及外壳1200内的大气向外壳1200的外部进行排气。排气口1212上连接有排气线1901，排气线1901上设置有用于对外壳1200内的烟雾进行强制性排气的泵1903。举例而言，排气口1212是形成于外壳1200的侧壁1205、1206之中任一个。选择性排气口1212是向外壳1200的两侧壁1205、1206的每个进行提供，或者向上部壁1207或者下部壁1208。

喷嘴1400是向基板10之上供给显影液。图5是表示喷嘴1400的一例的立体图。参照图5，喷嘴1400是具有本体1420及供给显影液路1440。

本体1420是具有与基板10的横边16对应，或者仅比此稍长的长度。本体1420是以其横方向与基板10的搬送方向呈垂直的方式而配置。本体1420中上部区域1422是具有大致长方体的形状，下部区域1424是具有自上部区域1422向下方向延长，且越向下行，宽度渐进变得越狭窄的形状。本体1420的下端形成有吐出口1460。吐出口1460是沿着与本体1420的横方向较长地提供。例如，吐出口1460是提供裂缝而成。吐出口1460的长度是以与基板10的横边16对应，或者仅比此稍长的长度而提供。

供给显影液路1440是向本体1420的内部提供。供给显影液路1440是具有缓冲器1444、流出通路1446、及流入通路1448。缓冲器1444是向本体1420的内部提供。缓冲器1444是沿着本体1420的横方向较长地提供。流入通路1448是自缓冲器1444延长至与显影液供给管1482连接的埠1472。流出通路1446是形成于缓冲器1444的下方向，自缓冲器1444延长至吐出口1460。流出通路1446的长度是以与吐出口1460的长度对应的方式而提供。

喷嘴1400是与基板10大致垂直配置。喷嘴1400是选择性地以与基板10倾斜的方式而配置。喷嘴是选择性地提供2个，一个喷嘴是以与基板10倾斜的方式而配置，另一个喷嘴是与基板10垂直而配置。

所述喷嘴1400的构造是作为一个示例而表示的，喷嘴1400是以与此不同的方式提供多样的形状及构造。

门装配件1600是对搬入基板10的开口1220进行开关。门装配件1600是以可沿着开口1220的横方向按区域对开口1220的开放宽度进行调节的构造而提供。本实施形态中开口1220的开放宽度是指开口1220于上下方向开放的程度。举例而言，门装配件1600是开口1220的侧部区域1222及中央区域1224中以开口1220的开放宽度相互不同的方式进行调节而提供。

图6是表示于处理室1000中所设置的门装配件1600的一个示例的立体图。参照图6，门装配件1600是具有多个门1620与多个驱动器1640。门1620是沿着开口1220的横方向呈一列而提供。因此，开口1220是藉由沿着横方向按区域相互不同的门1620，而调节其开放率。各个门1620是具有宽边(widthside，1627)与长边(lengthside，1628)。门1620的宽边1627是与开口1220的宽边1222平行的边，门1620的长边是与1628开口1220的长边1623平行的边。

举例而言，门1620提供3个而成。以下，将位于中央的门称为内侧门1622，将位于外方的门分别称为第1外侧门1624及第2外侧门1626。内侧门1622对开口1220的中央区域1224的开放宽度进行调节，第1外侧门1624与第2外侧门1626对各开口1220的两侧部区域1222的开放宽度进行调节。开口1220的侧部区域1222自开口1220的横方向看时，是开口1220的缘区域。开口1220的侧部区域1222中开放宽度是外壳1200内的基板10的缘区域12中对气流的速度产生影响。

第1外侧门1624与第2外侧门1626以相互对称的方式呈同一大小而提供。内侧门1622与第1外侧门1624是各自具有长方形状。内侧门1622是以具有与第1外侧门1624相比更长的长边1627的方式而提供。此外，内侧门1622是以与第1外侧门1624相同宽边1228的方式而提供。然而，内侧门1622、第1外侧门1624及第2外侧门1626的长边1227及宽边1228的大小并非限定于此，为了对处理室1000内的气流进行多样控制而可进行改变。例如，第1外侧门1624与第2外侧门1626以具有相互不同大小的长边1227的方式而提供。此外，内侧门1622、第1外侧门1624及第2外侧门1626以具有相互不同大小的宽边1228的方式而提供。

驱动器1640是使门1620向上下方向移动。各个门1620中驱动器1640以门1620的移动可各自独立进行的方式个别地提供。因此，开口1220的侧部区域1222与中央区域1224中以开放宽度不同的方式而提供。举例而言，驱动器1640可具有马达或者气缸。如上所述，提供3个门1622、1624、1626的情形时，可提供3个驱动器1642、1644、1646。以下将驱动内侧门1622、第1外侧门1624及第2外侧门1626的驱动器1640分别称为内侧驱动器1642、第1外侧驱动器1644、及第2外侧驱动器1646。

控制器700是对搬送单元500、喷嘴1400及驱动器1640进行控制。具体而言，控制器700是为了对基板10的移送速度进行调节，而可对机械轴520的旋转速度进行调节。此外，控制器700是为了显影液的吐出时期及吐出量进行调节，而可对喷嘴1400进行控制。此外，控制器700是为了对开口1220的开放宽度进行调节，而可对使门1620移动的驱动器1640进行控制。

如图1所示，于沿着横方向同一高度上开放开口1220的情形时，处理室1000内藉由开口1220的侧部区域搬入的基板10的缘区域中显影液的膜厚度是如图2所示与其他区域相比相对较薄。其原因之一是藉由开口1220的侧部区域1222向处理室1000流入的气流的速度比藉由开口1220的中央区域1224向处理室1000流入的气流的速度快，故藉此，基板10的缘区域12中显影液与中央区域14相比相对性地更多地飞散。

根据实验，开口1220的中央区域1224若以一定宽以上进行开放，气流于基板10的中央区域14中大致对显影液的膜的厚度影响较小。与此相反，开口1220的侧部区域1222中所开放的开口1220的宽变得较大，则基板10的缘区域12中气流的速度变慢，且显影液的膜的厚度变薄的问题会减小。

图7是向基板10供给显影液时，开口1220的开放宽度的示例。

根据图7，控制器(图3的700)是以开口1220的两侧部区域的开放宽度h1比中央区域的开放宽度H2更大的方式对内侧驱动器1642、第1外侧驱动器1644及第2外侧驱动器1646进行控制。此外，控制器700是以开口1220的两侧部区域的开放宽度h1相互成为同一的方式对第1外侧驱动器1644与第2外侧驱动器1646进行控制。

控制器(图3的700)如图8所示选择性地以开口1220的两侧部区域的开放宽度h3、h4相互不同的方式对第1外侧驱动器1644与第2外侧驱动器1646进行控制。举例而言，排气口1212于外壳1200的侧壁之中提供任一个的情形时，基板10的两侧缘区域12中气流的速度有时会相互不同。该情形下，控制器700于基板10的缘区域12中为了使显影液的膜厚度相同，而以开口1220的两侧部区域的开放宽度h3、h4成为相互不同的方式进行调节。

此外，处理室1000内部中所述搬送单元500及喷嘴1400以外可设置其他多样的构成要素。藉由其中的构成要素或者其他要因，处理室1000内部的气流会因区域不同而多样化。因此，控制器700可根据基板10的各区域的显影液的膜的厚度，对内侧门1622、第1外侧门1624、及第2外侧门1626的开放宽度进行多样地调节。

其次，参照图9至图12针对门装配件的多样的变形形态进行说明。图9至图12中处理室是将门装配件除外大致具有与图6的处理室1000类似的构造。

如图9的处理室2000，门装配件2600中可提供多种数量的门2620。例如，门2620可提供与图6的实施形态不同的两个或者四个以上。例如，门装配件2600可具有5个门2620。

此外，如图10的处理室3000，门中一部分是藉由一个驱动器同时驱动。例如，门装配件3600中驱动器3640是具有驱动内侧门3622的内侧驱动器3642与同时驱动第1外侧门3624及第2外侧门3626的外侧驱动器3644。

此外，如图11的处理室4000，门装配件4600中，门4620具有固定门4622与驱动门4624。固定门4622于开口4220的一定区域也以遮断开口4220的宽的一部分的方式固定设置有外壳4200，驱动器4640仅与驱动门4624结合。驱动门4624是藉由驱动器4640上下移动。例如，开口4220的中央区域配置有固定门4622，开口4220的两侧部区域配置有各驱动门4624。固定门4622是开口4220中以将其上部区域一部遮断的方式而配置。图11中图示有于固定门4622的各部分设置有驱动器4640，与此不同两个固定门4622是藉由一个驱动器驱动。

此外，如图12的处理室5000，门装配件5600中门5620之中一部分是以下端倾斜的方式提供。例如，内侧门5622的下端是水平提供，第1外侧门5624与第2外侧门5626的下端是以倾斜的方式提供。该情形下，第1外侧门5624与第2外侧门5626的下端是离内侧门5622越远，越向上倾斜的方式进行提供。其是开口5220以其中央区域越远，开放宽度渐进变得越变大的方式而设置。

于使用图6及图9至图12的门装配件的情形时，以可多样地改变开口的开放宽度的方式，按基板10的区域不同根据显影液的膜的厚度的状态对不同区域开口的开放宽度进行多样地改变。

图13与图14是表示各处理室的其他实施形态的图示。图13与图14中处理室6000、7000除了具有门装配件6600、7600外，还具有与图6的处理室1000大致类似的构造。图13的处理室6000中外壳6200的开口6220以大致长方形状提供。门装配件6600具有一个门6620及驱动器6640。门6620以沿着其横方向宽的大小不同的方式提供。例如，门6620的上端是沿着其横方向以同一高度提供，门6620的下端是以具有阶差的方式提供。举例而言，门6620于两侧部区域中以下端的高度高于中央区域中下端的高度而提供。门6620是于两侧部区域中下端的高度均相同而提供。与此不同，门6620于两侧部区域以下端的高度相互不同的方式而提供。选择性地如图14的处理室7000，门7620于两侧部区域中下端的高度于中央区域越远，渐进地变得越高的方式提供。

图15与图16是表示各处理室的其他实施形态的立体图。图15与图16中处理室8000、9000是具有除了开口8220、9220的形状及门装配件8600、9600之外与图6的处理室1000大致类似的构造。图15的处理室8000中开口8220沿着其横方向宽的大小变得不同而提供。例如，开口8220的下端沿着其横方向于同一高度提供，开口8220的上端以具有阶差的方式提供。举例而言，开口8220于两侧部区域以上端的高度高于中央区域上端的高度而提供。此外，开口8220是于两侧区域中上端的高度相互不同的方式而提供。选择性地如图16的处理室9000，门9620于两侧区域中上端的高度于中央区域中变得越远，渐进地变得越高而提供。

图13至图16的处理室是仅利用一个门并可改变开口的开放宽度，因此与其他实施形态的处理室相比，装置构造简单。图13至图16中于开口的中央区域开放宽度是小于开口的两侧部区域中的开放宽度作为示例进行了说明。然而，根据处理室内的气流的流向及基板10中不同区域中显影液的膜厚度，沿着开口的横方向按区域不同而提供多样的开放宽度的方式而可多样地改变门及开口的形状。

图17是表示处理室的其他实施形态的图示。图17中处理室10000是以开口10220如图15沿着其横方向于上下方向具有其他开放宽度。但是，图17的处理室10000中未提供门装配件，开口10220可经常维持开放的状态。

所述例中对搬入基板10的开口及调节其开口的开放宽度的门装配件进行了说明。对搬出基板的开口及其开口的开放宽度进行调节的门装配件也可提供与此同一的构造。

以上的说明并未脱离对本发明的技术思想进行例示性说明的范围，因此若为本发明所属技术领域中具有通常知识者，则可于不脱离本发明的本质的特性的范围内进行多样的修正及变形。因此，本发明所公开的实施形态并非限定本发明的技术思想，仅是用于说明，根据该实施形态，并非限定本发明的技术思想的范围。本发明的保护范围必须藉由权利要求书进行解释，与其同等的范围内所有的技术思想是必须作为本发明的权利范围内所包含者进行解释。

符号说明

10基板

12缘区域

14中央区域

16横边

18纵边

20基板处理装置

100处理室

102前方壁

120开口

122两侧区域

300喷嘴

700控制器

500搬送单元

520机械轴

540辊

560驱动部

562轮

564皮带

566马达

1000处理室

1001处理室

1002承载器室

1200外壳

1202前方壁

1204后方壁

1205侧壁

1206侧壁

1207上部壁

1208下部壁

1212排气口

1220开口

1222宽边

1223长边

1224中央区域

1230开口

1400喷嘴

1600门装配件

1620门

1624第1外侧门

1622内侧门

1626第2外侧门

1627宽边

1628长边

1640驱动器

1644驱动器

1642驱动器

1646驱动器

1901排气线

1903泵

2000处理室

2600门装配件

2620门

3000处理室

3600门装配件

3622内侧门

3624内侧驱动器

3626第2外侧门

3640驱动器

3642内侧驱动器

3644外侧驱动器

4000处理室

4200外壳

4220开口

4600门装配件

4620门

4622固定门

4624驱动门

5000处理室

5220开口

5600门装配件

5620门

5622内侧门

5624第1外侧门

5626第2外侧门

6000处理室

6220开口

6600门装配件

6620门

6640驱动器

7000处理室

7600门装配件

7620门

8000处理室

8220开口

8600门装配件

9000处理室

9220开口

9600门装配件

10000处理室

10220开口

Claims (17)

1.一种基板处理装置，其是处理基板的装置，包括：

外壳，其具有搬入基板的开口；

喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；及

门装配件，其用以调节所述开口的开放宽度，

所述门装配件具有：

沿着所述开口的横方向并排提供的多个门，及

所述门之中至少一个向上下方向移动的驱动器，

其中以沿着所述开口的横方向于上下方向上所述开口的开放宽度不同的方式提供的状态下处理所述基板。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述开口具有长方形状，各个所述门具有长方形状。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述基板具有长方形的板形状，所述喷嘴于所述基板的边之中与所述开口的横方向以及平行边对应，或者进而具有较长的长度，所述喷嘴的横方向与所述开口的横方向平行而提供。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，进而包括：于所述处理室内提供搬送基板的搬送单元。

5.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理装置，其中，所述多个门以可独立地驱动的方式于各个所述门上个别地结合有所述驱动器。

6.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理装置，其中，所述多个门具有：

中央门，其于所述开口的横方向上位于中央区域，

第1侧部门，其位于所述开口的一侧部，及

第2侧部门，其位于所述开口的他侧部。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述驱动器具有：

驱动所述中央门的中央驱动器，

驱动所述第1侧部门的第1侧部驱动器，及

驱动所述第2侧部门的第2侧部驱动器。

8.如权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述驱动器具有：

驱动所述中央门的中央驱动器，及

同时驱动所述第1侧部门与所述第2侧部门的侧部驱动器。

9.一种基板处理装置，其是处理基板的装置，包括：

外壳，其具有搬入基板的开口；

喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；及

调节所述开口的开放宽度的门装配件；

其中，所述门装配件包括：

门，其是具有与所述开口的长度对应的长度的门，及

驱动器，其是使所述门向上下方向移动的驱动器；

其中，所述门具有藉由所述门向上下方向移动，而沿着所述开口的横方向的所述开口的开放宽度不同的形状，

其中，当处理所述基板时，使所述门移动，使得沿着所述开口的横方向的所述开口的开放宽度不同。

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述开口大致为长方形状，所述门以其两侧部区域的下端的高度高于其中央区域的下端的高度而提供。

11.一种基板处理装置，其是处理基板的装置，包括：

外壳，其具有搬入基板的开口；及

喷嘴，其由所述外壳内提供，向基板供给处理液；

其中，所述开口以沿着其横方向于上下方向上宽度不同的方式而提供，

所述基板处理装置还包括调节所述开口的开放宽度的门装配件。

12.如权利要求11所述的基板处理装置，其中，所述开口以其两侧部区域的上端的高度高于其中央区域的上端的高度而提供。

13.一种基板处理方法，其于具有基板搬入的开口的外壳内通过喷嘴向基板供给处理液来处理基板，并以沿着所述开口的横方向上下开口的开放宽度不同的方式提供的状态下处理所述基板，

其中，沿着所述开口的横方向提供多个门，对所述门之中至少一个门的高度进行调节，并调节所述开口的开放宽度。

14.如权利要求13所述的基板处理方法，其中，所述开口以沿着横方向其侧部区域与其中央区域相比开放宽度更大的方式提供。

15.如权利要求14所述的基板处理方法，其中，于所述开口的两侧部区域开放宽度以相互不同的方式而提供。

16.如权利要求13至15中任一项所述的基板处理方法，所述处理液是显影液。

17.如权利要求15所述的基板处理方法，其中，所述基板具有长方形的板形状，所述喷嘴具有于所述基板的边之中与所述开口的横方向平行的边更长的长度，所述喷嘴的横方向与所述开口的横方向相平行。