JP4676177B2 - バンドギャップ型基準電圧発生回路 - Google Patents

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本発明は、温度依存性を補償したバンドギャップ型基準電圧発生回路に関する。
半導体集積回路によく用いられる基準電圧発生回路として、バンドギャップ電圧(半導体の固有電圧で、シリコンの場合は約1.2V)を利用したバンドギャップ型基準電圧発生回路が知られている。(例えば、特許文献1)このような従来のバンドギャップ型基準電圧発生回路について図2を参照しながら説明する。
電源電圧Vddに接続された同一サイズのPチャネル型MOSトランジスタM、Mはミラー接続されてカレントミラー回路を構成している。このカレントミラー回路の出力側Pチャネル型MOSトランジスタMのドレインは直列接続された抵抗R、Rを介してNPN型BIPトランジスタQ(バイポーラトランジスタ)のコレクタに接続され、NPN型BIPトランジスタQのエミッタは接地電圧に接続されると共に、そのベ−スは前記抵抗R、Rの接続点に接続される。
一方前記カレントミラー回路のPチャネル型MOSトランジスタMのドレインは、エミッタ、ベース、コレクタがそれぞれ共通接続されたK個のNPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のコレクタ側に接続され、該NPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のエミッタ側は接地電圧に接続されると共に、そのベ−ス側は前記NPN型BIPトランジスタQのコレクタに接続される。基準電圧Vrefは、前記Pチャネル型MOSトランジスタQ1のドレインから出力される。但し、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1は全て同一サイズとする。
上述した構成に基づくバンドギャップ型基準電圧発生回路において、いまカレントミラー回路から流れる電流をI、NPN型BIPトランジスタQのベ−ス・エミッタ間電圧をVBE1、NPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のベ−ス・エミッタ間電圧をVBE2、直列接続された抵抗R1、R2の抵抗値をそれぞれR1、R2とすると、VBE1
BE1=VBE2+R・I ・・・(1)
となり、(1)式をIについて解くと、
I=(VBE1−VBE2)/R ・・・(2)
となる。一方、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1に流れるべ−ス電流を無視した条件において発生される基準電圧Vrefは
Vref=VBE1+R・I ・・・(3)
となり、(3)式に(2)式を代入すると
Vref=VBE1+(R/R)・(VBE1−VBE2) ・・・(4)
となる。
また、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1は同一サイズであるので、それぞれのエミッタ電流をIE1、IE2とすると、
E1=K・IE2 ・・・(5)
と表すことができる。一方、VBE1、VBE2はそれぞれ
BE1=(kT/q)・ln(IE1/I) ・・・(6)
BE2=(kT/q)・ln(IE2/I) ・・・(7)
で与えられることが知られている。ここで、kはボルツマン定数、Tは絶対温度、qは電子の電荷、IはNPN型BIPトランジスタQ及びQ2の飽和電流である。
上記(5)、(6)、(7)式を(4)式に代入することにより
Vref=VBE1+(R/R)・(kT/q)・ln(K) ・・・(8)
を得ることができる。
上記(8)式によると、この回路では、NPN型BIPトランジスタQのべ−ス・エミッタ間に生ずる電圧VBE1の有する温度係数を(R/R)・(kT/q)・ln(K)の温度係数で相殺することにより温度依存性を零としている。具体的には、BIPトランジスタのベース・エミッタ電圧の温度係数は約−2.0〔mV/℃〕であるので、(R/R)・(kT/q)・ln(K)の温度係数を+2.0〔mV/℃〕となるように、R1、R2及びKの値を設定する。
特開平6−75649号公報
しかしながら、上記のようなバンドギャップ型基準電圧発生回路では温度補償後の出力電圧が1.2V付近となり自由度が無く、1.2V以外の基準電圧を必要とする回路に適用することが困難であった。
本発明のバンドギャップ型基準電圧発生回路は、第1及び第2のMOSトランジスから成る第1のカレントミラー回路と、前記第2のMOSトランジスタ及び第3のMOSトランジスタから成る第2のカレントミラー回路と、第4及び第5のMOSトランジスから成り、前記第1のカレントミラー回路の電流経路に接続された第3のカレントミラー回路と、
前記第4のMOSトランジスタのソースに第1の抵抗を介してコレクタが接続され、ベースが前記第4のMOSトランジスタのソースに接続された第1のBIPトランジスタと、前記第4のMOSトランジスタのソースと接地電圧との間に接続された第2の抵抗と、前記第5のMOSトランジスタのソースにコレクタが接続され、ベースが前記第1のBIPトランジスタのコレクタに接続され、前記第1のBIPトランジスタのK倍のエミッタ面積を有する第2のBIPトランジスタと、前記第5のMOSトランジスタのソースと接地電圧との間に接続された第3の抵抗と、前記第3のMOSトランジスタのドレインと接地電圧との間に接続された第4の抵抗とを備え、前記第3のMOSトランジスタのドレインから基準電圧を得ることを特徴とするものである。
本発明のバンドギャップ型基準電圧発生回路によれば、出力基準電圧を抵抗比により任意に決定することができ、製造プロセスばらつきによる影響がなく、特に、出力基準電圧を1.2V以下に小さくできるので、低電圧で動作する回路ための基準電圧発生回路として好適である。
以下、本発明の実施形態に係るバンドギャップ型基準電圧発生回路について、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の実施形態に係るバンドギャップ型基準電圧発生回路を示す回路図である。
電源電圧Vddに接続された同一サイズのPチャネル型MOSトランジスタM、Mはミラー接続されて第1のカレントミラー回路を構成している。即ち、Pチャネル型MOSトランジスタM、Mのソースは電源電圧Vddに接続され、それらのゲートは共通接続されている。また、Pチャネル型MOSトランジスタMのゲートとドレインは短絡されている。
また、Pチャネル型MOSトランジスタMはこれと同一サイズのPチャネル型MOSトランジスタMとミラー接続されて第2のカレントミラーを構成している。即ち、Pチャネル型MOSトランジスタMのソースは電源電圧Vddに接続され、そのゲートはPチャネル型MOSトランジスタMのゲートに接続されている。そして、Pチャネル型MOSトランジスタMのドレインは、抵抗Rを介して接地電圧へと接続され、そのドレインから基準電圧Vrefが出力される。
第1のカレントミラー回路のPチャネル型MOSトランジスタM、Mのドレインにソースが接続された同一サイズのNチャネル型MOSトランジスタM、Mもミラー接続されて第3のカレントミラー回路を構成している。即ち、Pチャネル型MOSトランジスタM、Mのゲートは共通接続されている。また、Pチャネル型MOSトランジスタMのゲートとドレインは短絡されている。第1乃至第3のカレントミラー回路に流れる電流は全て同じである。
Nチャネル型MOSトランジスタMソースは抵抗Rを介してNPN型BIPトランジスタQのコレクタに接続され、Nチャネル型MOSトランジスタMソースはエミッタ、ベース、コレクタがそれぞれ共通接続されたK個(Kは自然数)のNPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のコレクタに接続されている。
また、NPN型BIPトランジスタQのエミッタは接地電圧に接続されると共に、そのベ−スはNチャネル型MOSトランジスタMと抵抗Rの接続点(Nチャネル型MO
SトランジスタMソース)に接続されている。また、前記接続点は抵抗Rを介し
て接地電圧へと接続されている。一方、K個のNPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のエミッタは接地電圧に接続されると共にそのベ−スはNPN型BIPトランジスタQのコレクタに接続されている。また、Nチャネル型MOSトランジスタMとK個のN
PN型BIPトランジスタQ〜QK+1の接続点(Nチャネル型MOSトランジスタM
ソース)は抵抗Rを介して接地電圧へと接続されている。
但し、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1は全て同一サイズとする。即ちK個のNPN型BIPトランジスタQ〜QK+1を1つのBIPトランジスタと見ると、NPN型BIPトランジスタQのK倍のエミッタ面積を有することになる。また、抵抗R及びRは同じ抵抗値を有している。また、抵抗R1、R2、R、Rは好ましくは同じ抵抗材料(例えば、ポリシリコン)から構成されている。
上述の構成において、第1、第2および第3のカレントミラー回路から流れる電流をI、NPN型BIPトランジスタQのベ−ス・エミッタ間電圧をVBE1、NPN型BIPトランジスタQ〜QK+1のベ−ス・エミッタ間電圧をVBE2、抵抗R1、R2、R、Rの抵抗値をそれぞれR1、R2、R、Rとする。また、Nチャネル型MOSトランジスタM、Mで構成される第2のカレントミラー回路によりNチャネル型MOSトランジスタM、Mのドレイン電圧値が等しくなることと、抵抗R及びRは同じ抵抗値を有することから、NPN型BIPトランジスタQとQ〜QK+1のコレクタに流れる電流が等しくなり、同様に抵抗R2とRに流れる電流も等しくなることより、BIPトランジスタに流れる電流をI、抵抗に流れる電流をIとする。
以上より、抵抗Rに着目すると、VBE1、VBE2
BE1−VBE2=R・I
=R(I−I
=R(I−VBE1/R) ・・・(9)
の関係で表すことができ、Iは
I=Vref/R ・・・(10)
となる。(10)式に(9)式を代入し、VREFについて解くと、
Vref=(R/R)・(VBE1+(R/R)・(VBE1−VBE2)) ・・・(11)
となる。
また、前述従来例と同じく、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1は同一サイズであるので、それぞれのエミッタ電流をIE1、IE2に対し、(5)、(6)、(7)式が同様に成立する。ただし、NPN型BIPトランジスタQ、Q〜QK+1のベース電流は無視している。
以上の式を(11)に代入することにより、
Vref=(R/R)・[VBE1+(R/R)・(kT/q)・ln(K)] ・・・(12)
を得られる。
上記(12)式によると、この回路では、従来例と同じくNPN型BIPトランジスタQのべ−ス・エミッタ間に生ずる電圧VBE1の有する温度係数をR/R・(kT/q)・ln(K)の温度係数で相殺することにより温度依存性を零にすることができ、且つ出力電圧Vrefは抵抗比R/Rにより決定されるため、基準電圧Vrefを任意に設定することができる。特に、抵抗R1、R2、R、Rを同じ抵抗材料で構成することで製造プロセスのばらつきによる基準電圧Vrefへの影響を無くすことができる。
また、電源電圧Vddの投入時にはMOSトランジスタのゲート電位が不確定であり、回路が起動しないおそれがあるため、スタートアップ回路STを設けている。このスタートアップ回路STは、電源電圧Vddと接地電圧の間に接続された第5の抵抗と第1のダイオードD及び第2のダイオードD、第1及び第2のダイオードD、Dの接続点に接続された第3のダイオードDから構成され、第3のダイオードDのカソードがPチャネル型MOSトランジスタMのドレインに接続されている。
なお、実施形態では、NPN型BIPトランジスタを用いた回路構成例を示しているが、PNP型BIPトランジスタを用いても、本発明のバンドギャップ型基準電圧発生回路を構成することができる。
本発明の実施形態に係るバンドギャップ型基準電圧発生回路を示す回路図である。 従来のバンドギャップ型基準電圧発生回路を示す回路図である。
符号の説明
〜M Pチャネル型MOSトランジスタ
、M Nチャネル型MOSトランジスタ
〜QK+1 NPN型BIPトランジスタ
〜R 抵抗
REF 出力電圧
Vdd 電源電圧

Claims (6)

  1. 第1及び第2のMOSトランジスから成る第1のカレントミラー回路と、
    前記第2のMOSトランジスタ及び第3のMOSトランジスタから成る第2のカレントミラー回路と、
    第4及び第5のMOSトランジスから成り、前記第1のカレントミラー回路の電流経路に接続された第3のカレントミラー回路と、
    前記第4のMOSトランジスタのソースに第1の抵抗を介してコレクタが接続され、ベースが前記第4のMOSトランジスタのソースに接続された第1のBIPトランジスタと、
    前記第4のMOSトランジスタのソースと接地電圧との間に接続された第2の抵抗と、
    前記第5のMOSトランジスタのソースにコレクタが接続され、ベースが前記第1のBIPトランジスタのコレクタに接続され、前記第1のBIPトランジスタのK倍のエミッタ面積を有する第2のBIPトランジスタと、
    前記第5のMOSトランジスタのソースと接地電圧との間に接続された第3の抵抗と、
    前記第3のMOSトランジスタのドレインと接地電圧との間に接続された第4の抵抗とを備え、前記第3のMOSトランジスタのドレインから基準電圧を得ることを特徴とするバンドギャップ型基準電圧発生回路。
  2. 前記第1乃至第5のMOSトランジスのサイズが全て等しいことを特徴とする請求項1に記載のバンドギャップ型基準電圧発生回路。
  3. 前記第2のBIPトランジスタのエミッタ面積が前記第1のBIPトランジスタのエミッタ面積のK倍(Kは自然数)であることを特徴とする請求項1に記載のバンドギャップ型基準電圧発生回路。
  4. 前記第2の抵抗と第3の抵抗の抵抗値が等しいことを特徴とする請求項1に記載のバンドギャップ型基準電圧発生回路。
  5. 前記第1乃至と第4の抵抗が同じ抵抗材料から構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項4に記載のバンドギャップ型基準電圧発生回路。
  6. 回路起動用のスタートアップ回路を設けたことを特徴とする請求項1に記載のバンドギャップ型基準電圧発生回路。
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