JP4656570B2 - レーザ熱転写装置及びラミネータ並びにレーザ熱転写装置を用いたレーザ熱転写方法 - Google Patents
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Description
D 上部基板
70 ベース基板
71 光熱変換層71
77 転写層
100 レーザ熱転写装置
110a ラミネーション領域
110b レーザ照射領域
110 ステージ
115 ガイド部(チャックガイド)
120 下部基板載置部(チャック)
120a 第1下部通気孔
120b 第2下部通気孔
120w ウェル
125 弾性材
130 上部基板支持部(キャップ)
130a 第1上部通気孔
130b 第2上部通気孔
130w ウェル
141 第2上部真空ポンプ
142 第1上部真空ポンプ
143 第1下部真空ポンプ
144 第2下部真空ポンプ
160 フレーム
135 フレーム加圧手段
155 レーザ照射装置
S1 第1隔離空間
S2 第2隔離空間
10 基板
20 半導体層
25 ゲート絶縁膜
30 ゲート電極
35 第1層間絶縁膜
41 ドレイン電極
43 ソース電極
50 第2層間絶縁膜
55 画素電極
60 画素定義膜
60a 開口部
T 薄膜トランジスタ
Claims (19)
- 下部基板が載置され,少なくとも一つの第1下部通気孔を有し,前記第1下部通気孔を通じて前記下部基板を吸着させる下部基板載置部と;
フレームにより支持される上部基板を前記載置された下部基板と対向するように支持して前記下部基板載置部の上方に移動可能に配設され,少なくとも一つの第1上部通気孔を有し,前記下部基板載置部と結合された状態において前記第1上部通気孔を通じて前記上部基板を加圧して前記下部基板上に密着させる上部基板支持部と;
前記下部基板と密着された前記上部基板上にレーザを照射するレーザ照射装置と;
前記フレームを前記下部基板載置部に対して加圧するフレーム加圧手段と;
を含んで構成され,
前記上部基板支持部は,
前記フレームを支持し,
前記フレーム加圧手段が前記フレームを加圧した状態において,密着された前記上部基板及び前記下部基板から離隔されることを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記第1上部通気孔は前記上部基板支持部の中央部に位置することを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記下部基板載置部は,前記載置された下部基板の縁部外側に位置する少なくとも一つの第2下部通気孔をさらに含み,前記第2下部通気孔を通じて前記上部基板を前記下部基板に対して密着させるかまたは離隔させることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記上部基板支持部は,第2上部通気孔をさらに含み,前記第2上部通気孔を通じて前記上部基板を前記上部基板支持部の方向に吸引することを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記上部基板支持部は,前記下部基板載置部の面に対して垂直方向に移動可能であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記下部基板載置部の周辺部に位置する弾性材をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記下部基板載置部を支持するステージをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記ステージはラミネーション領域とレーザ照射領域を含み,前記上部基板支持部は前記ラミネーション領域の上方に位置し,前記レーザ照射装置は前記レーザ照射領域の上方に位置することを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記ステージは,前記下部基板載置部を前記ステージの面方向に沿って一方向に移動させるように案内するガイド部を含むことを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記ステージは前記一方向に並んで配置されるラミネーション領域とレーザ照射領域を含み,前記上部基板支持部は前記ラミネーション領域の上方に位置し,前記レーザ照射装置は前記レーザ照射領域の上方に位置し,前記下部基板載置部は前記ガイド部に沿って前記ラミネーション領域と前記レーザ照射領域との間で移動することを特徴とする請求項9に記載のレーザ熱転写装置。
- フレームにより支持される上部基板を下部基板と対向するように支持して移動可能に配設され,少なくとも一つの第1上部通気孔を有し,前記第1上部通気孔を通じて前記上部基板を加圧して前記下部基板上に密着させる上部基板支持部と;
前記下部基板が載置され,少なくとも一つの第1下部通気孔及び少なくとも一つの第2下部通気孔を有し,前記第1下部通気孔を通じて前記載置された下部基板を吸着させ,前記上部基板を支持した前記上部基板支持部が結合された状態において前記第2下部通気孔を通じて前記上部基板を前記下部基板上に密着させる下部基板載置部と;
前記フレームを前記下部基板載置部に対して加圧するフレーム加圧手段と;
前記下部基板と密着された前記上部基板上にレーザを照射するレーザ照射装置と;
を含んで構成され,
前記上部基板支持部は,
前記フレームを支持し,
前記フレーム加圧手段が前記フレームを加圧した状態において,密着された前記上部基板及び前記下部基板から離隔されることを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記第1上部通気孔は前記上部基板支持部の中央部に位置することを特徴とする請求項11に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記上部基板支持部は,第2上部通気孔をさらに含み,前記第2上部通気孔を通じて前記上部基板を前記上部基板支持部の方向に吸引することを特徴とする請求項11に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記下部基板載置部の周辺部に位置する弾性材をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記上部基板支持部は,前記下部基板載置部の面に対して垂直方向に移動可能であることを特徴とする請求項11に記載のレーザ熱転写装置。
- 下部基板が載置され,少なくとも一つの第1下部通気孔を有し,前記第1下部通気孔を通じて下部基板を吸着させる下部基板載置部と;
フレームにより支持される上部基板を前記載置された下部基板と対向するように支持して前記下部基板載置部の上方に移動可能に配設されて,少なくとも一つの第1上部通気孔を有し,前記下部基板載置部と結合された状態において前記第1上部通気孔を通じて前記上部基板を加圧して前記下部基板上に密着させる上部基板支持部と;
を含み,
前記フレームは,前記上部基板支持部が前記下部基板載置部と結合された状態において,前記下部基板載置部に対して加圧され,
前記上部基板支持部は,前記フレームが前記下部基板載置部に対して加圧された状態において,密着された前記上部基板及び前記下部基板から離隔されることを特徴とするラミネータ。 - 前記第1上部通気孔は前記上部基板支持部の中央部に位置することを特徴とする請求項16に記載のラミネータ。
- 前記上部基板支持部は,第2上部通気孔をさらに含み,前記第2上部通気孔を通じて前記上部基板を前記上部基板支持部の方向に吸引することを特徴とする請求項16に記載のラミネータ。
- 前記下部基板載置部の周辺部に位置する弾性材をさらに含むことを特徴とする請求項16に記載のラミネータ。
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