JP4646311B2 - ノズル先端基準高さ位置調整装置及びサンプリング装置 - Google Patents
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前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備えたものであり、
前記ノズルフローティング手段が、
前記ノズルを保持するノズル保持具と、
このノズル保持具を前記プレート上のZ軸方向にスライド可能に配するスライドガイドとを備え、
前記ノズル接触検知手段が、
前記ノズル保持具に取り付けられたリニアスケールと、該リニアスケールに隣接して前記プレートに取り付けられ、ノズル保持具のプレート上のZ軸方向の微小の位置ズレを計測するリニアエンコーダと、
このリニアエンコーダの計測に応じて前記プレート位置制御手段を制御するノズル位置演算手段とを備え、
前記ノズル位置演算手段が、前記ノズル先端のXY平面への接触による前記リニアエンコーダの計測が検知された際にプレートの移動を停止させて、停止時の高さ位置情報から前記リニアエンコーダの位置ズレの微小距離を差し引いてノズル先端基準位置とすることを特徴とするものである。
基台上に載置された前記マイクロウェル基板の平面をXY平面とし、このXY平面に対して互いに直交するXYZ3軸方向に相対移動可能なプレートと、
前記プレートに備えられ、前記マイクロウェル基板上の個々のウェル内の微小検体を採取するノズルと、
前記個々のウェルの位置情報に基づいて前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
ノズル先端のXY基準位置からの位置ズレを補正するXY位置補正手段とを備えたサンプリング装置において、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備え、
前記ノズルフローティング手段が、
前記ノズルを保持するノズル保持具と、
このノズル保持具を前記プレート上のZ軸方向にスライド可能に配するスライドガイドとを備え、
前記ノズル接触検知手段が、
前記ノズル保持具のプレート上のZ軸方向の微小の位置ズレを計測するリニアエンコーダと、
このリニアエンコーダの計測に応じて前記プレート位置高さ制御手段を制御するノズル位置演算手段とを備え、
前記ノズル位置演算手段が、前記ノズル先端のXY平面への接触による前記リニアエンコーダの計測が検知された際に、プレートのZ軸方向の移動を停止させて、停止時の高さ位置情報から前記リニアエンコーダの位置ズレの微小距離を差し引いてノズル先端基準高さ位置とすることを特徴とするものである。
前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備える。これにより、ノズル先端の破損がなく、XY平面に対して精度良くノズル先端基準高さ位置を調整することができる。
基台上に載置された前記マイクロウェル基板の平面をXY平面とし、このXY平面に対して互いに直交するXYZ3軸方向に相対移動可能なプレートと、
前記プレートに備えられ、前記マイクロウェル基板上の個々のウェル内の微小検体を採取するノズルと、
前記個々のウェルの位置情報に基づいて前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
ノズル先端のXY基準位置からの位置ズレを補正するXY位置補正手段とを備えたサンプリング装置において、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備え、
前記ノズルフローティング手段が、
前記ノズルを保持するノズル保持具と、
このノズル保持具を前記プレート上のZ軸方向にスライド可能に配するスライドガイドとを備え、
前記ノズル接触検知手段が、
前記ノズル保持具のプレート上のZ軸方向の微小の位置ズレを計測するリニアエンコーダと、
このリニアエンコーダの計測に応じて前記プレート位置高さ制御手段を制御するノズル位置演算手段とを備える。これにより、マイクロウェル基板としてシリコン又はガラス基板の精度に関係無く、細胞等の微小検体の回収の自動化が可能になるものである。
図1は本発明のノズル先端基準高さ位置調整装置の一実施例を備えたサンプリング装置の構成を示す説明図である。図2は図1のノズル先端の移動状態を示す説明図である。図3は図1のプレートの停止時のノズル先端の状態を示す説明図である。図4は図1のXY平面とノズル先端との間隙距離(スタンドオフ距離)を設けた場合の状態を示す説明図である。
図5は図1〜図4に示したノズル先端基準高さ位置調整装置を組み込んだサンプリング装置の構成を示す説明図である。図6は図5のサンプリング装置のZステージを含む要部の構成を示す説明図であり、a図は正面図、b図はノズル先端XY位置測定用の光学システムで撮像された状態を示す説明図である。
11…ステージ、
12…高精度ボールスライダ、
13…リニアスケール、
14…ノズルホルダ治具、
15…ノズルホルダ、
16…ノズル、
17…LMガイド、
18…リニアエンコーダ(ノズル接触検知手段)、
19…サーボモータ、
20…テーブル、
21…シリコン又はガラス基板(XY平面)、
22…ノズル位置演算手段、
23…プレート位置制御手段、
24…エリアカメラ、
51…基台、
52…レール、
53…レール、
54…Yステージ、
55…Xアーム部、
56…Xステージ、
57…Zアーム部、
60…XY位置測定用の光学システム、
61…基準孔、
62…ミラー、
63…XY位置決め用撮像手段(対物レンズ)、
Claims (3)
- 予め定められたXY平面に対して直交するZ軸方向に相対移動可能なプレートに備えられたノズルの前記XY平面に対するノズル先端の基準高さ位置を決定するノズル先端高さ位置調整装置であって、
前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備えたものであり、
前記ノズルフローティング手段が、
前記ノズルを保持するノズル保持具と、
このノズル保持具を前記プレート上のZ軸方向にスライド可能に配するスライドガイドとを備え、
前記ノズル接触検知手段が、
前記ノズル保持具に取り付けられたリニアスケールと、該リニアスケールに隣接して前記プレートに取り付けられ、ノズル保持具のプレート上のZ軸方向の微小の位置ズレを計測するリニアエンコーダと、
このリニアエンコーダの計測に応じて前記プレート位置制御手段を制御するノズル位置演算手段とを備え、
前記ノズル位置演算手段が、前記ノズル先端のXY平面への接触による前記リニアエンコーダの計測が検知された際にプレートの移動を停止させて、停止時の高さ位置情報から前記リニアエンコーダの位置ズレの微小距離を差し引いてノズル先端基準位置とすることを特徴とするノズル先端基準高さ位置調整装置。 - 前記ノズル位置演算手段が、前記ノズル先端基準位置に対して予め定められたXY平面とノズル先端との間隙距離を開けるように前記プレート位置制御手段を制御することを特徴とする請求項1に記載のノズル先端基準高さ位置調整装置。
- 複数のマイクロウェルを備えたマイクロウェル基板上の個々のマイクロウェル内の微小検体を別の場所へ移動させるサンプリング装置であって、
基台上に載置された前記マイクロウェル基板の平面をXY平面とし、このXY平面に対して互いに直交するXYZ3軸方向に相対移動可能なプレートと、
前記プレートに備えられ、前記マイクロウェル基板上の個々のウェル内の微小検体を採取するノズルと、
前記個々のウェルの位置情報に基づいて前記プレート及びノズルの位置を制御するプレート位置制御手段と、
ノズル先端のXY基準位置からの位置ズレを補正するXY位置補正手段とを備えたサンプリング装置において、
前記プレートをXY平面方向に下降させた際にノズル先端が前記XY平面に接触したことを検出するノズル接触検知手段と、
前記ノズル先端が前記XY平面に接触した際に前記ノズルをZ軸方向に上昇させるノズルフローティング手段とを備え、
前記ノズルフローティング手段が、
前記ノズルを保持するノズル保持具と、
このノズル保持具を前記プレート上のZ軸方向にスライド可能に配するスライドガイドとを備え、
前記ノズル接触検知手段が、
前記ノズル保持具のプレート上のZ軸方向の微小の位置ズレを計測するリニアエンコーダと、
このリニアエンコーダの計測に応じて前記プレート位置高さ制御手段を制御するノズル位置演算手段とを備え、
前記ノズル位置演算手段が、前記ノズル先端のXY平面への接触による前記リニアエンコーダの計測が検知された際に、プレートのZ軸方向の移動を停止させて、停止時の高さ位置情報から前記リニアエンコーダの位置ズレの微小距離を差し引いてノズル先端基準高さ位置とすることを特徴とするサンプリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005336998A JP4646311B2 (ja) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | ノズル先端基準高さ位置調整装置及びサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005336998A JP4646311B2 (ja) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | ノズル先端基準高さ位置調整装置及びサンプリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007139704A JP2007139704A (ja) | 2007-06-07 |
JP4646311B2 true JP4646311B2 (ja) | 2011-03-09 |
Family
ID=38202740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005336998A Expired - Fee Related JP4646311B2 (ja) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | ノズル先端基準高さ位置調整装置及びサンプリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4646311B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5290690B2 (ja) * | 2008-10-02 | 2013-09-18 | 古河電気工業株式会社 | 微細粒子のスクリーニング装置 |
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JP5781281B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2015-09-16 | シスメックス株式会社 | 検体処理装置 |
JP5850625B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2016-02-03 | シスメックス株式会社 | 分析装置及び位置確認方法 |
JP5714410B2 (ja) * | 2011-05-16 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置及び方法 |
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-
2005
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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