JP4645881B2 - Pixel circuit, active matrix device, and display device - Google Patents
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Description
本発明は、画素毎に配した負荷素子を電流駆動する画素回路に関する。又この画素回路がマトリクス状に配列されたマトリクス装置であって、特に各画素回路内に設けた絶縁ゲート型電界効果トランジスタによって負荷素子に流れる電流量が制御される、いわゆるアクティブマトリクス装置に関する。更には、負荷素子として有機ELなど電流値によって輝度が制御される電気光学素子を有するアクティブマトリクス型の表示装置に関する。 The present invention relates to a pixel circuit that current-drives a load element arranged for each pixel. The present invention also relates to a matrix device in which the pixel circuits are arranged in a matrix, and particularly to a so-called active matrix device in which the amount of current flowing to a load element is controlled by an insulated gate field effect transistor provided in each pixel circuit. Furthermore, the present invention relates to an active matrix display device having an electro-optic element whose luminance is controlled by a current value such as an organic EL as a load element.
画像表示装置、例えば液晶ディスプレイなどでは、多数の液晶画素をマトリクス状に並べ、表示すべき画像情報に応じて画素毎に入射光の透過強度又は反射強度を制御することによって画像を表示する。これは、有機EL素子を画素に用いた有機ELディスプレイなどにおいても同様であるが、液晶画素と異なり有機EL素子は自発光素子である。その為、有機ELディスプレイは液晶ディスプレイに比べて画像の視認性が高く、バックライトが不要であり、応答速度が速いなどの利点を有する。又、各発光素子の輝度レベル(階調)はそれに流れる電流値によって制御可能であり、いわゆる電流制御型であるという点で液晶ディスプレイなどとは大きく異なる。 In an image display device such as a liquid crystal display, an image is displayed by arranging a large number of liquid crystal pixels in a matrix and controlling the transmission intensity or reflection intensity of incident light for each pixel in accordance with image information to be displayed. This also applies to an organic EL display using an organic EL element as a pixel, but unlike a liquid crystal pixel, the organic EL element is a self-luminous element. Therefore, the organic EL display has advantages such as higher image visibility than the liquid crystal display, no backlight, and a high response speed. Further, the luminance level (gradation) of each light emitting element can be controlled by the value of the current flowing therethrough, and is greatly different from a liquid crystal display or the like in that it is a so-called current control type.
有機ELディスプレイにおいては、液晶ディスプレイと同様、その駆動方式として単純マトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがある。前者は構造が単純であるものの、大型且つ高精細のディスプレイの実現が難しいなどの問題がある為、現在はアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行なわれている。この方式は、各画素回路内部の発光素子に流れる電流を、画素回路内部に設けた能動素子(一般には薄膜トランジスタ,TFT)によって制御するものであり、以下の特許文献に開示がある。
図8は、一般的な有機EL表示装置の構成を示すブロック図である。この表示装置100は、画素回路(PXLC)101がm×nのマトリクス状に配列された画素アレイ部102、水平セレクタ(HSEL)103、ライトスキャナ(WSCN)104、ドライブスキャナ(DSCN)105、水平セレクタ103により選択され輝度情報に応じた信号が供給される信号線DTL101〜DTL10n、ライトスキャナ104により選択駆動される走査線WSL101〜WSL10m、及びドライブスキャナ105により選択駆動される走査線DSL101〜DSL10mを有する。
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a general organic EL display device. The
図9は、図8に示した画素回路の一構成例を示す回路図である。図示する様に、この画素回路101は、基本的にpチャネル型の薄膜電界効果トランジスタ(以下、TFTと言う)で構成されている。すなわち画素回路101は、ドライブTFT111、スイッチングTFT112、サンプリングTFT115、有機EL素子117、保持容量C111を有する。係る構成を有する画素回路101は、信号線DTL101と走査線WSL101,DSL101との交差部に配されている。信号線DTL101はサンプリングTFT115のドレインに接続し、走査線WSL101はサンプリングTFT115のゲートに接続し、他の走査線DSL101はスイッチングTFT112のゲートに接続している。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration example of the pixel circuit shown in FIG. As shown in the figure, the
ドライブTFT111、スイッチングTFT112及び有機EL素子117は、電源電位Vccと接地電位GNDの間で直列に接続されている。すなわちドライブトランジスタ111のソースが電源電位Vccに接続される一方、有機EL素子(発光素子)117のカソードが接地電位GNDに接続されている。一般に、有機EL素子117は整流性がある為ダイオードの記号で表わしている。一方、サンプリングTFT115及び保持容量C111は、ドライブTFT111のゲートに接続している。ドライブTFT111のゲート・ソース間電圧をVgsで表わしている。
The
画素回路101の動作であるが、まず走査線WSL101を選択状態(ここでは低レベル)とし、信号線DTL101に信号を印加すると、サンプリングTFT115が導通して信号が保持容量C111に書き込まれる。保持容量C111に書き込まれた信号電位がドライブトランジスタ111のゲート電位となる。続いて、走査線WSL101を非選択状態(ここでは高レベル)とすると、信号線DTL101とドライブTFT111とは電気的に切り離されるが、ドライブTFT111のゲート電位Vgsは保持容量C111によって安定に保持される。続いて他の走査線DSL101を選択状態(ここでは低レベル)にすると、スイッチングTFT112が導通し、電源電位Vccから接地電位GNDに向かって駆動電流がTFT111,TFT112及び発光素子117を流れる。DSL101が非選択状態になるとスイッチングトランジスタ112がオフし、駆動電流は流れなくなる。スイッチングTFT112は発光素子117の発光時間を制御する為に挿入されたものである。
The operation of the
TFT111及び発光素子117に流れる電流は、TFT111のゲート・ソース間電圧Vgsに応じた値となり、発光素子117はその電流値に応じた輝度で発光し続ける。上記の様に、走査線WSL101を選択して信号線DTL101に与えられた信号を画素回路101の内部に伝える動作を、以下「書き込み」と呼ぶ。上述の様に、一度信号の書き込みを行なえば、次に書き換えられるまでの間、発光素子117は一定の輝度で発光を続ける。
The current flowing through the
上述した様に画素回路101では、ドライブトランジスタであるTFT111のゲート印加電圧を入力信号に応じて変化させることで、EL発光素子117に流れる電流値を制御している。この時、pチャネル型のドライブトランジスタ111のソースは電源電位Vccに接続されており、このTFT111は常に飽和領域で動作している。よって、ドライブトランジスタ111は下記の式(1)に示した値を持つ定電流源となっている。
As described above, in the
Ids=(1/2)・μ・(W/L)・Cox・(Vgs−Vth)2・・・(1)
ここでIdsは飽和領域で動作するトランジスタのドレイン・ソース間に流れる電流を表わしている。又μは移動度、Wはチャネル幅、Lはチャネル長、Coxはゲート容量、Vthはトランジスタの閾電圧を表わしている。式(1)から明らかな様に、飽和領域ではトランジスタのドレイン電流Idsはゲート・ソース間電圧Vgsによって制御される。図9に示したドライブトランジスタ111は、Vgsが一定に保持される為、ドライブトランジスタ111は定電流源として動作し、発光素子117を一定の輝度で発光させることができる。
Ids = (1/2) · μ · (W / L) · Cox · (Vgs−Vth) 2 (1)
Here, Ids represents a current flowing between the drain and source of a transistor operating in the saturation region. Further, μ represents mobility, W represents channel width, L represents channel length, Cox represents gate capacitance, and Vth represents a threshold voltage of the transistor. As apparent from the equation (1), in the saturation region, the drain current Ids of the transistor is controlled by the gate-source voltage Vgs. Since the
図10は、有機EL素子の電流−電圧(I−V)特性の経時変化を示すグラフである。グラフにおいて、実線で示す曲線が初期状態時の特性を示し、破線で示す曲線が経時変化後の特性を示している。一般的に、有機EL素子のI−V特性は、グラフに示す様に時間が経過すると劣化してしまう。これに対して、図9に示した画素回路は、ドライブトランジスタが定電流駆動である為、有機EL素子には定電流Idsが流れ続け、有機EL素子のI−V特性が劣化してもその発光輝度が経時劣化することはない。 FIG. 10 is a graph showing a change with time of current-voltage (IV) characteristics of the organic EL element. In the graph, the curve indicated by the solid line indicates the characteristic in the initial state, and the curve indicated by the broken line indicates the characteristic after change with time. Generally, the IV characteristic of an organic EL element deteriorates over time as shown in the graph. On the other hand, in the pixel circuit shown in FIG. 9, since the drive transistor is driven at a constant current, the constant current Ids continues to flow through the organic EL element. The light emission luminance does not deteriorate with time.
図9に示した画素回路は、pチャネル型のTFTにより構成されているが、nチャネル型のTFTにより構成することができれば、TFT作成において従来のアモルファスシリコン(a−Si)プロセスを用いることが可能になる。これにより、TFT基板の低コスト化が可能となり、開発が期待されている。 The pixel circuit shown in FIG. 9 is configured by a p-channel TFT. However, if the pixel circuit can be configured by an n-channel TFT, a conventional amorphous silicon (a-Si) process can be used for TFT fabrication. It becomes possible. As a result, the cost of the TFT substrate can be reduced, and development is expected.
図11は、図9に示した画素回路のpチャネルTFTをnチャネルTFTに置き換えた構成を示す回路図である。図示する様に、この画素回路101は、nチャネル型のTFT111,112,115、保持容量C111、発光素子である有機EL素子117で構成されている。TFT111はドライブトランジスタ、TFT112はスイッチングトランジスタ、TFT115はサンプリングトランジスタである。又図において、DTL101は信号線を表わし、DSL101及びWSL101は走査線をそれぞれ示している。この画素回路101では、ドライブトランジスタであるTFT111のドレイン側が電源電位Vccに接続され、ソースはEL素子117のアノードに接続されており、ソースフォロワ回路を形成している。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration in which the p-channel TFT of the pixel circuit shown in FIG. 9 is replaced with an n-channel TFT. As shown in the figure, the
図12は、図11に示した画素回路の動作説明に供するタイミングチャートである。走査線WSL101に選択パルスが印加されると、サンプリングトランジスタ115が導通し、信号線DTL101から信号をサンプリングして保持容量C111に書き込む。これにより、ドライブトランジスタ111のゲート電位がサンプリングされた信号電位に保持される。このサンプリング動作は線順次で行なわれる。すなわち1行目の走査線WSL101に選択パルスが印加された後、続いて2行目の走査線WSL102に選択パルスが印加され、以下1水平期間(1H)毎に1行分の画素が選択されていく。WSL101の選択と同時にDSL101も選択される為、スイッチングトランジスタ112がオンする。これにより、ドライブトランジスタ111及びスイッチングトランジスタ112を介して発光素子に駆動電流が流れる為、発光が行なわれる。1フィールド期間(1f)の途中でDSL101は非選択状態となり、スイッチングトランジスタ112はオフになる。これにより発光は停止する。走査線DSL101は1フィールド期間に占める発光時間(デューティ)を制御するものである。
FIG. 12 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG. When a selection pulse is applied to the scanning line WSL101, the
ここで図13の(A)は、初期状態におけるドライブトランジスタ111とEL素子117の動作点を示すグラフである。図において、横軸はドライブトランジスタ111のドレイン・ソース間電圧Vdsを示し、縦軸はドレイン・ソース間電流Idsを示している。図示する様に、ソース電位はドライブトランジスタ111とEL素子117との動作点で決まり、その電圧値はゲート電圧によって異なる値を持つ。ドライブトランジスタ111は飽和領域で駆動されるので、動作点のソース電圧に対応したVgsに関し、前述の式(1)に規定された電流値の駆動電流Idsを流す。
Here, FIG. 13A is a graph showing operating points of the
しかしながら、EL素子のI−V特性は前述した様に経時劣化する。(B)に示す様に、この経時劣化により動作点が変化してしまい、同じゲート電圧を印加してもトランジスタのソース電圧は変化してしまう。これによりドライブトランジスタ111のゲート・ソース間電圧Vgsは変化してしまい、流れる電流値が変動する。同時にEL素子117に流れる電流値も変化する。この様にEL素子117のI−V特性が変化すると、図11に示したソースフォロワ構成の画素回路では、有機EL素子の発光輝度が経時的に変化してしまうという課題がある。
However, the IV characteristic of the EL element deteriorates with time as described above. As shown in (B), the operating point changes due to the deterioration over time, and the source voltage of the transistor changes even when the same gate voltage is applied. As a result, the gate-source voltage Vgs of the
尚、上記課題を回避する為、ドライブトランジスタ111とEL素子117の配置を逆にすることも考えられる。すなわち、ドライブトランジスタ111のソースを接地電位GNDに接続し、ドレインをEL素子117のカソードに接続し、EL素子117のアノードを電源電位Vccに接続する回路構成も考えられるところである。この方式では、図9に示したpチャネルTFT構成の画素回路と同様に、ソースの電位が固定されており、ドライブトランジスタ111は定電流源として駆動し、EL素子のI−V特性の劣化による輝度変化も防止できる。しかしながら、この方式ではドライブトランジスタをEL素子のカソード側に接続する必要があり、このカソード接続は新規にアノード電極及びカソード電極の開発が必要であり、現状の技術では非常に困難であるとされている。以上により、従来の方式では輝度変化のない、nチャネルトランジスタ使用の有機ELディスプレイの実用化は成されていなかった。
In order to avoid the above problem, it may be possible to reverse the arrangement of the
アクティブマトリクス型の有機ELディスプレイは、EL素子の特性変動に加え、画素回路を構成するnチャネル型TFTの閾電圧も経時的に変化する。前述の式(1)から明らかな様に、ドライブトランジスタの閾電圧Vthが変動すると、ドレイン電流Idsが変化してしまう。これにより、同じゲート電圧Vgsを与えても、Vthの変動により発光輝度が変化するという課題がある。 In the active matrix organic EL display, in addition to fluctuations in the characteristics of the EL elements, the threshold voltage of the n-channel TFT constituting the pixel circuit also changes over time. As is clear from the above equation (1), when the threshold voltage Vth of the drive transistor fluctuates, the drain current Ids changes. Thereby, even if the same gate voltage Vgs is given, there is a problem that the light emission luminance changes due to the variation of Vth.
上述した従来の技術の課題に鑑み、本発明は発光素子など電流駆動型の負荷素子(例えば有機EL素子等の電気光学素子)のI−V特性が経時変化しても、発光輝度を一定に保持することが可能な画素回路を提供することを一般的な目的とする。又、画素回路を構成するトランジスタの閾電圧が経時変化しても、安定して負荷素子を駆動可能な画素回路を提供することを一般的な目的とする。加えて、負荷素子の特性変動に対する補償機能及びトランジスタの閾電圧変動に対する補償機能を付加した画素回路において、特にこれら補償機能の付加に必要な回路要素の個数を少なくした画素回路構成を提供することを特定の目的とするものである。 In view of the above-described problems of the prior art, the present invention makes the light emission luminance constant even if the IV characteristic of a current-driven load element such as a light emitting element (for example, an electro-optical element such as an organic EL element) changes with time. It is a general object to provide a pixel circuit that can be held. It is another general object of the present invention to provide a pixel circuit that can stably drive a load element even when a threshold voltage of a transistor constituting the pixel circuit changes with time. In addition, in a pixel circuit to which a compensation function for load element characteristic variation and a compensation function for threshold voltage variation of a transistor are added, a pixel circuit configuration in which the number of circuit elements necessary for adding the compensation function is particularly reduced is provided. For a specific purpose.
係る目的を達成する為に以下の手段を講じた。即ち本発明は、走査線と信号線とが交差する部分に配された画素回路であって、電気光学素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、該電気光学素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該電気光学素子のアノードとの間に挿入されており、該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続している。前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該電気光学素子のアノードに接続し、前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該電気光学素子を電流駆動し、前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該電気光学素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する。 In order to achieve this purpose, the following measures were taken. That is, the present invention is a pixel circuit arranged at a portion where a scanning line and a signal line intersect, and includes an electro-optic element, first and second capacitor elements, a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, A drive transistor having a gate connected to an input node, a source connected to an output node, and a drain connected to a power supply potential of a predetermined level. The electro-optic element has an anode connectable to an output node, a cathode connected to a predetermined cathode potential, and the switching transistor between the output node and the anode of the electro-optic element. And the sampling transistor is connected to the input node and the signal. The first capacitive element and the second capacitive element are connected in series between the input node and the power supply potential, and the first sensing transistor is connected to the input node and the power supply. The second sensing transistor is connected between the output node and an intermediate node located between the first capacitor element and the second capacitor element. The sampling transistor operates when selected by a scanning line, samples an input signal from the signal line and holds it in the first capacitor element, and the switching transistor becomes conductive when selected by the scanning line and drives the drive An output node of the transistor is connected to an anode of the electro-optic element, and the drive transistor drives the electro-optic element in accordance with a signal potential held in the first capacitor element, and the first detection transistor and said second sensing transistor operates when selected by the scanning line, the electrical prior to the current driving of the optical element the drive transistor first the sensed potential to cancel the detected advance the effects the threshold voltage of the held in the capacitor element, the sampling transistor, the switching transistor, wherein First detecting transistor, and the second sensing transistor operates when selected by different scanning lines.
好ましくは、前記信号線から供給される入力信号の最低レベルは、前記電源電位の所定のレベルに一致する様に設定されている。 Preferably, the minimum level of the input signal supplied from the signal line is set to coincide with a predetermined level of the power supply potential.
又本発明は、行状の走査線と、列状の信号線と、両者が交差する部分にマトリクス状に配された画素とからなるアクティブマトリクス装置であって、各画素は、負荷素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、該負荷素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該負荷素子のアノードとの間に挿入されており、該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続している。前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該負荷素子のアノードに接続し、前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該負荷素子を電流駆動し、前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該負荷素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する。
The present invention also provides an active matrix device comprising a row-shaped scanning line, a column-shaped signal line, and pixels arranged in a matrix at a portion where both intersect, each pixel having a load element, a
更に本発明は、行状の走査線と、列状の信号線と、両者が交差する部分にマトリクス状に配された画素とからなる表示装置であって、各画素は、有機エレクトロルミネッセンス素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、該有機エレクトロルミネッセンス素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該有機エレクトロルミネッセンス素子のアノードとの間に挿入されており、該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続している。前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該有機エレクトロルミネッセンス素子のアノードに接続し、前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該有機エレクトロルミネッセンス素子を電流駆動し、前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該有機エレクトロルミネッセンス素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する。 Furthermore, the present invention is a display device comprising row-shaped scanning lines, column-shaped signal lines, and pixels arranged in a matrix at a portion where both intersect, each pixel comprising an organic electroluminescence element, A first transistor and a second capacitor; a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, and five N-channel thin film transistors each including a first detection transistor and a second detection transistor, the gate of the drive transistor being an input node The source is connected to the output node, the drain is connected to a power supply potential of a predetermined level, and the organic electroluminescent element has an anode that can be connected to the output node and a cathode connected to a predetermined cathode potential. And the switching transistor is connected to the output node. The sampling transistor is inserted between the anode of the organic electroluminescence element, the sampling transistor is connected between the input node and the signal line, and the first capacitor element and the second capacitor element are connected to the input A first sensing transistor connected between the input node and the power supply potential, and a second sensing transistor connected between the output node and the first power supply potential. The capacitor is connected to an intermediate node located between the capacitor and the second capacitor. The sampling transistor operates when selected by a scanning line, samples an input signal from the signal line and holds it in the first capacitor element, and the switching transistor becomes conductive when selected by the scanning line and drives the drive The output node of the transistor is connected to the anode of the organic electroluminescent element, and the drive transistor drives the organic electroluminescent element in accordance with the signal potential held in the first capacitive element, and the first detection the transistor and the second sensing transistor operates when selected by the scanning line, the sensed potential to cancel the detected advance the effects the threshold voltage of the drive transistor prior to the current driving the organic electroluminescence element held in the first capacitor element, wherein Pump ring transistor, the switching transistor, the first sensing transistor and the second sensing transistor operates when selected by different scanning lines.
本発明によれば画素回路は、電気光学素子及び保持容量に加え、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとで構成されている。この画素回路は、保持容量のブートストラップ機能を備えており、発光素子など電流駆動型の電気光学素子のI−V特性が経時変化しても、発光輝度を一定に保持することができる。また、第1及び第2検知トランジスタでドライブトランジスタの閾電圧を検出し、その経時変化を回路的に補償することで、安定して電気光学素子を駆動できる。特に本画素回路は、5個のトランジスタで構成されており、回路素子数を少なくした合理的構成となっている。構成素子の個数が少ない分、歩留りが向上し低コスト化が図れる。 According to the present invention, the pixel circuit includes five N-channel thin film transistors including a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, a first detection transistor, and a second detection transistor in addition to the electro-optic element and the storage capacitor. . This pixel circuit has a bootstrap function of a storage capacitor, and can maintain the light emission luminance constant even when the IV characteristic of a current-driven electro-optical element such as a light-emitting element changes with time. Further, the threshold voltage of the drive transistor is detected by the first and second detection transistors, and the change over time is compensated in a circuit, so that the electro-optic element can be driven stably. In particular, this pixel circuit is composed of five transistors, and has a rational configuration with a reduced number of circuit elements. Since the number of constituent elements is small, the yield is improved and the cost can be reduced.
以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。説明の都合上、まず負荷素子である発光素子の特性変動補償機能(ブートストラップ機能)を備えた画素回路を説明し、続いてドライブトランジスタの閾電圧変動補償機能を追加した画素回路を説明し、最後にこれらの補償機能を備えつつ回路要素の構成数を抑えた画素回路を説明する。図1は電気光学素子である発光素子の特性変動に対する補償機能であるブートストラップ機能を備えた画素回路を含む表示装置の構成を示すブロック図である。尚、この画素回路構成は、同一出願人の先願である特願2003−146758(2003年5月23日出願)に記載されているものと同一である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. For convenience of explanation, a pixel circuit having a characteristic variation compensation function (bootstrap function) of a light emitting element that is a load element will be described first, followed by a pixel circuit having a drive transistor threshold voltage variation compensation function added, Finally, a pixel circuit having these compensation functions and having a reduced number of circuit elements will be described. FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a display device including a pixel circuit having a bootstrap function that is a compensation function for characteristic variation of a light-emitting element that is an electro-optical element. This pixel circuit configuration is the same as that described in Japanese Patent Application No. 2003-146758 (filed on May 23, 2003), which is a prior application of the same applicant.
図1に示すように、表示装置100は、画素回路(PXLC)101がマトリクス状に配列された画素アレイ部102、水平セレクタ(HSEL)103、ライトスキャナ(WSCN)104、ドライブスキャナ(DSCN)105、水平セレクタ103により選択され輝度情報に応じた映像信号が供給される信号線DTL101〜DT110n、ライトスキャナ104により選択駆動される走査線WSL101〜WSL10m、およびドライブスキャナ105により選択駆動される走査線DSL101〜DSL10mを有する。なお図1においては、図面の簡単化のために一つの画素回路の具体的な構成を示している。
As shown in FIG. 1, the
本画素回路101は、図1に示すように、nチャネルTFT111〜TFT115、キャパシタC111、有機EL素子(OLED:電気光学素子)からなる発光素子117、およびノードND111,ND112を有する。また、図1において、DTL101は信号線を、WSL101は走査線を、DSL101は別の走査線をそれぞれ示している。これらの構成要素のうち、TFT111が駆動用電界効果トランジスタを構成し、サンプリング用TFT115が第1のスイッチを構成し、TFT114が第2のスイッチを構成し、キャパシタC111が保持容量素子を構成している。
As shown in FIG. 1, the
画素回路101において、TFT111のソースと接地電位GNDとの間に発光素子(OLED)117が接続されている。具体的には、発光素子117のアノードがTFT111のソースに接続され、カソード側が接地電位GNDに接続されている。発光素子117のアノードとTFT111のソースとの接続点によりノードND111が構成されている。TFT111のソースがTFT114のドレインおよびキャパシタC111の第1電極に接続され、TFT111のゲートがノードND112に接続されている。TFTll4のソースが固定電位(本実施形態では接地電位GND)に接続され、TFT114のゲートが走査線DSL101に接続されている。また、キャパシタC111の第2電極がノードND112に接続されている。信号線DTL101とノードND112とにサンプリング用TFT115のソース・ドレインがそれぞれ接続されている。そして、TFT115のゲートが走査線WSL101に接続されている。
In the
このように、本実施形態に係る画素回路101は、ドライブトランジスタとしてのTFT111のゲート・ソース間にキャパシタC111が接続され、TFT111のソース電位をスイッチトランジスタとしてのTFT114を介して固定電位に接続するよう構成されている。
Thus, in the
次に、上記構成の動作を、画素回路の動作を中心に、図2(A)〜(F)および図3(A)〜(F)に関連付けて説明する。なお、図3(A)は画素配列の第1行目の走査線WSL101に印加される走査信号ws〔1〕を、図3(B)は画素配列の第2行目の走査線WSL102に印加される走査信号ws〔2〕を、図3(C)は画素配列の第1行目の走査線DSL101に印加される駆動信号ds〔1〕を、図3(D)は画素配列の第2行目の走査線DSL102に印加される駆動信号ds〔2〕を、図3(E)はTFT111のゲート電位Vg(ノードND112)を、図3(F)はTFT111のソース電位Vs(ノードND111)をそれぞれ示している。
Next, the operation of the above configuration will be described with reference to FIGS. 2A to 2F and FIGS. 3A to 3F, focusing on the operation of the pixel circuit. 3A shows the scanning signal ws [1] applied to the first row scanning line WSL101 of the pixel array, and FIG. 3B shows the scanning signal WSL102 applied to the second row scanning line WSL102 of the pixel array. 3C shows the scanning signal ws [2] to be applied, FIG. 3C shows the driving signal ds [1] applied to the scanning line DSL101 in the first row of the pixel array, and FIG. 3D shows the second signal of the pixel array. FIG. 3E shows the gate potential Vg (node ND112) of the
まず、通常のEL発光素子117の発光状態時は、図3(A)〜(D)に示すように、ライトスキャナ104より走査線WSL101,WSL102,・・への走査信号ws〔1〕,ws〔2〕,・・が選択的にローレベルに設定され、ドライブスキャナ105により走査線DSL101,DSL102,・・への駆動信号ds〔1〕,ds〔2〕,・・が選択的にローレベルに設定される。その結果、画素回路101においては、図2(A)に示すように、TFT115とTFT114がオフした状態に保持される。
First, when the normal EL
次に、EL発光素子117の非発光期間において、図3(A)〜(D)に示すように、ライトスキャナ104より走査線WSL101,WSL102,・・への走査信号ws〔1〕,ws〔2〕,・・がローレベルに保持され、ドライブスキャナ105により走査線DSL101,DSL102,・・への駆動信号ds〔1〕,ds〔2〕,・・が選択的にハイレベルに設定される。その結果、画素回路101においては、図2(B)に示すように、TFT115はオフ状態に保持されたままで、TFT114がオンする。このとき、TFT114を介して電流が流れ、図3(F)に示すように、TFT111のソース電位Vsは接地電位GNDまで下降する。そのため、EL発光素子117に印加される電圧も0Vとなり、EL発光素子117は非発光となる。
Next, during the non-light emitting period of the EL
次に、EL発光素子117の非発光期間において、図3(A)〜(D)に示すように、ドライブスキャナ105により走査線DSL101,DSL102,・・への駆動信号ds〔1〕,ds〔2〕,・・がハイレベルに保持されたまま、ライトスキャナ104より走査線WSL101,WSL102,・・への走査信号ws〔1〕,ws〔2〕,・・が選択的にハイレベルに設定される。その結果、画素回路101においては、図2(C)に示すように、TFT114がオン状態に保持されたままで、TFT115がオンする。これにより、水平セレクタ103により信号線DTL101に伝搬された入力信号(Vin)が保持容量としてのキャパシタC111に書き込まれる。このとき、図3(F)に示すように、ドライブトランジスタとしてのTFT111のソース電位Vsは接地電位レベル(GNDレベル)にあるため、図3(E),(F)に示すように、TFT111のゲート・ソース間の電位差は入力信号の電圧Vinと等しくなる。
Next, during the non-light emission period of the EL
その後、EL発光素子117の非発光期間において、図3(A)〜(D)に示すように、ドライブスキャナ105により走査線DSL101,DSL102,・・への駆動信号ds〔1〕,ds〔2〕,・・がハイレベルに保持されたまま、ライトスキャナ104より走査線WSL101,WSL102,・・への走査信号ws〔1〕,ws〔2〕,・・が選択的にローレベルに設定される。その結果、画素回路101においては、図2(D)に示すように、TFT115がオフ状態となり、保持容量としてのキャパシタC111への入力信号の書き込みが終了する。
Thereafter, during the non-light emitting period of the EL
その後に図3(A)〜(D)に示すように、ライトスキャナ104より走査線WSL101,WSL102,・・への走査信号ws〔1〕,ws〔2〕,・・はローレベルに保持され、ドライブスキャナ105により走査線DSL101,DSL102,・・への駆動信号ds〔1〕,ds〔2〕,・・が選択的にローレベルに設定される。その結果、画素回路101においては、図2(E)に示すように、TFT114がオフ状態となる。TFT114がオフすることで、図3(F)に示すように、ドライブトランジスタとしてのTFT111のソース電位Vsは上昇し、EL発光素子117にも電流が流れる。
Thereafter, as shown in FIGS. 3A to 3D, the scanning signals ws [1], ws [2],... From the
TFT111のソース電位Vsは変動するにもかかわらず、TFT111のゲート・ソース間には容量があるために、図3(E),(F)に示すように、ゲート・ソース電位は常にVinにて保たれている。このとき、ドライブトランジスタとしてのTFT111は飽和領域で駆動しているので、このTFT111に流れる電流値IdsはTFT111のゲート・ソース電圧であるVinにて決められる。この電流IdsはEL発光素子117にも同様に流れ、EL発光素子117は発光する。EL発光素子117の等価回路は図2(F)に示すようになっているため、このときノードND111の電位はEL発光素子117に電流Idsが流れるゲート電位まで上昇する。この電位上昇に伴い、キャパシタ111(保持容量)を介してノードND112の電位も同様に上昇する。これにより、前述した通りTFT111のゲート・ソース電位はVinに保たれる。
Although the source potential Vs of the
ここで一般に、EL発光素子は発光時間が長くなるに従い、そのI−V特性は劣化する。そのため、ドライブトランジスタが同じ電流値を流したとしても、EL発光素子に印加される電位は変化し、ノードND111の電位は下降する。しかしながら、本回路ではドライブトランジスタのゲート・ソース間電位が一定に保たれたままノードND111の電位は下降するので、ドライブトランジスタ(TFT111)に流れる電流は変化しない。よって、EL発光素子に流れる電流も変化せず、EL発光素子のI−V特性が劣化しても、入力電圧Vinに相当した電流が常に流れつづける。 Here, in general, the EL characteristics of the EL light emitting element deteriorate as the light emission time becomes longer. Therefore, even if the drive transistor passes the same current value, the potential applied to the EL light emitting element changes, and the potential of the node ND111 decreases. However, in this circuit, since the potential of the node ND111 decreases while the gate-source potential of the drive transistor is kept constant, the current flowing through the drive transistor (TFT 111) does not change. Therefore, the current flowing through the EL light emitting element does not change, and a current corresponding to the input voltage Vin continues to flow even if the IV characteristics of the EL light emitting element deteriorate.
以上説明したように、本参考形態によれば、ドライブトランジスタとしてのTFT111のソースが発光素子117のアノードに接続され、ドレインが電源電位Vccに接続され、TFT111のゲート・ソース間にキャパシタC111が接続され、TFT111のソース電位をスイッチトランジスタとしてのTFT114を介して固定電位に接続するよう構成されていることから、次の効果を得ることができる。即ちEL発光素子のI−V特性が経時変化しても、輝度劣化の無いソースフォロワー出力が行える。nチャネルトランジスタのソースフォロワー回路が可能となり、現状のアノード・カソード電極を用いたままで、nチャネルトランジスタをEL発光素子の駆動素子として用いることができる。また、nチャネルのみで画素回路のトランジスタを構成することができ、TFT作成においてa−Siプロセスを用いることができるようになる。これにより、TFT基板の低コスト化が可能となる。
As described above, according to this embodiment, the source of the
図4は、図1に示したブートストラップ機能を備えた画素回路に更に閾電圧キャンセル機能を追加した画素回路構成を表わしている。尚、この画素回路は同一出願人の先願である特願2003−159646(2003年6月4日出願)に記載されているものと同一である。理解を容易にする為、図1に示した画素回路と対応する部分には対応する参照番号を付してある。図4の画素回路は基本的に、図1の画素回路に閾電圧キャンセル回路を追加したものである。但し、ブートストラップ回路に含まれるスイッチングトランジスタ114のゲートには、走査線DSL101に代えて走査線WSL101を接続し、回路の簡略化を図っている。基本的に、ブートストラップ回路に含まれるスイッチングトランジスタ114は、映像信号のサンプリングに合わせて開閉制御すれば良いので、この様な簡略化は可能である。勿論、スイッチングトランジスタ114のゲートには、図1の例と同様に別途専用の走査線DSL101を接続しても良い。
FIG. 4 shows a pixel circuit configuration in which a threshold voltage canceling function is further added to the pixel circuit having the bootstrap function shown in FIG. This pixel circuit is the same as that described in Japanese Patent Application No. 2003-159646 (filed on June 4, 2003), which is a prior application of the same applicant. In order to facilitate understanding, portions corresponding to those of the pixel circuit shown in FIG. The pixel circuit of FIG. 4 is basically obtained by adding a threshold voltage cancel circuit to the pixel circuit of FIG. However, the gate of the switching
閾電圧キャンセル回路は、基本的にドライブトランジスタ111、スイッチングトランジスタ112、追加のスイッチングトランジスタ113及び保持容量C111とで構成されている。これらに加え本画素回路は結合容量C112及びスイッチングトランジスタ116を含んでいる。追加されたスイッチングトランジスタ113のソース/ドレインは、ドライブトランジスタ111のゲートとドレインとの間に接続されている。又スイッチングトランジスタ116のドレインはサンプリングトランジスタ115のドレインに接続され、ソースはオフセット電圧Vofsが供給されている。結合容量C112はサンプリングトランジスタ115側のノードND114とドライブトランジスタ側のノードND112との間に介在している。スイッチングトランジスタ113及び116のゲートには閾電圧(Vth)キャンセル用の走査線AZL101が接続されている。
The threshold voltage cancel circuit basically includes a
図5は、図4に示した画素回路の動作説明に供するタイミングチャートである。この画素回路は1フィールド(1f)の間で、Vth補正、信号書込、ブートストラップ動作を順に行なう。Vth補正と信号書込は1fの内非発光期間に行なわれ、ブートストラップ動作は発光期間の先頭で行なわれる。まずVth補正期間では、走査線DSL101がハイレベルにある間に走査線AZL101がハイレベルに立ち上がる。これにより、スイッチングトランジスタ112及び113が同時にオンする為、電流が流れドライブトランジスタ111のゲートに連なるノードND112の電位が上昇する。その後DSL101がローレベルに立ち下がり非発光状態となる。これによりノードND112に蓄積された電荷がスイッチングトランジスタ113を介して放電され、ND112の電位は徐々に低下する。そして、ノードND112とノードND111の電位差がVthとなったところで、ドライブトランジスタ111に電流は流れなくなる。図から明らかな様に、ND112とND111の電位差はVgsに相当し、式(1)からVgs=Vthとなったところで、Idsは0になる。この結果、ND112とND111の電位差Vthが保持容量C111に保持されることになる。
FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG. This pixel circuit sequentially performs Vth correction, signal writing, and bootstrap operation during one field (1f). Vth correction and signal writing are performed during the non-light emission period of 1f, and the bootstrap operation is performed at the beginning of the light emission period. First, in the Vth correction period, the scanning line AZL101 rises to a high level while the scanning line DSL101 is at a high level. As a result, the switching
続いて走査線WSL101が1Hの期間ハイレベルとなってサンプリングトランジスタ115が導通し、信号書込が行なわれる。すなわちDTL101に供給された映像信号Vsigはサンプリングトランジスタ115によってサンプリングされ、結合容量C112を介して保持容量C111に書き込まれる。この結果、保持容量C111の保持電位Vinは、先に書き込まれたVthとVsigの合計になる。但し、Vsigの入力ゲインは100%ではなく、ある程度の損失がある。
Subsequently, the scanning line WSL101 becomes high level for 1H and the
この後DSL101がハイレベルに立ち上がり発光を開始するとともにブートストラップ動作が行なわれる。これにより、ドライブトランジスタ111のゲートに印加される信号電位Vinは発光素子117のI−D特性に応じてΔVだけ上昇する。この様にして、図4の画素回路は、ドライブトランジスタ111のゲートに印加する正味の信号成分に加え、Vth及びΔVを上乗せしている。Vth及びΔVが変化しても常にその影響をキャンセルできるので、発光素子117を安定に駆動可能である。
Thereafter, the
図6は本発明に係る画素回路の実施形態を示す回路図である。図示する様に、本画素回路101は走査線と信号線とが交差する部分に配されている。本画素回路はアクティブマトリクス型の表示装置に適用できる。信号線DTL101は一画素あたり1本であるのに対し、走査線はWSL101、DSL101、AZL101a、AZL101bの計4本が平行に配されている。画素回路101は、基本的に電気光学素子117、保持容量C111、結合容量C113、サンプリングトランジスタ115、ドライブトランジスタ111、スイッチングトランジスタ112、第1検知トランジスタ113、第2検知トランジスタ114からなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備えている。先に説明した図4の参考例に係る画素回路に比べトランジスタ素子が1個少ない。2個の容量素子と5個のトランジスタで構成される画素回路を実現しており、従来に比べ歩留りが向上するとともに低コスト化が図れる。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of a pixel circuit according to the present invention. As shown in the figure, the
ドライブトランジスタ111は、そのゲートが入力ノードND112につながり、そのソースが出力ノードND111につながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位Vccに接続している。電気光学素子117は本実施形態では有機エレクトロルミネッセンス素子からなり、アノード及びカソードを備えた2端子ダイオード型の発光素子である。この電気光学素子117は負荷素子としてドライブトランジスタ111により駆動される。2端子型の電気光学素子117は、そのアノードがドライブトランジスタ111の出力ノードND111に接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位Vcathに接続している。スイッチングトランジスタ112は、ドライブトランジスタ111の出力ノードND111と電気光学素子117のアノードとの間に挿入されている。このスイッチングトランジスタ112のゲートは走査線DSL101に接続している。
サンプリングトランジスタ115はドライブトランジスタ111の入力ノードND112と信号線DTL101との間に接続している。このサンプリングトランジスタ115のゲートは走査線WSL101に接続している。保持容量C111及び結合容量C113は入力ノードND112と電源電位Vccとの間で直列に接続されている。すなわち、保持容量C111は一端が入力ノードND112に接続し、他端が中間ノードND113に接続している。結合容量C113は一端が電源電位Vccに接続し、他端が中間ノードND113に接続している。
The
第1検知トランジスタ113は入力ノードND112と電源電位Vccとの間に接続している。換言すると、この第1検知トランジスタ113はドライブトランジスタ111のゲートとドレインとの間に接続されている。第1検知トランジスタ113のゲートは走査線AZL101aに接続している。一方第2検知トランジスタ114は出力ノードND111と中間ノードND113との間に接続している。前述した様に、出力ノードND111はドライブトランジスタ111のソースであり、中間ノードND113は保持容量C111と結合容量C113の中間接続点である。第2検知トランジスタ114のゲートは別の走査線AZL101bに接続している。
The
係る構成においてサンプリングトランジスタ115は、走査線WSL101によって選択された時動作し、信号線DTL101から入力信号Vsigをサンプリングして保持容量C111に保持する。スイッチングトランジスタ112は走査線DSL101によって選択された時導通してドライブトランジスタ111の出力ノードND111を電気光学素子117のアノードに接続する。ドライブトランジスタ111は保持容量C111に保持された信号電位Vinに応じて電気光学素子117を電流駆動する。
In such a configuration, the
一方第1検知トランジスタ113及び第2検知トランジスタ114はそれぞれ対応する走査線AZL101a,AZL101bによって選択された時動作し、電気光学素子117の電流駆動に先立ってドライブトランジスタ111の閾電圧Vthを検知し、あらかじめその影響をキャンセルする為に検知した電位を保持容量C111に保持しておく。尚、信号線DTL101から供給される入力信号Vsigの最低レベル(黒レベル)は、電源電位Vccの所定のレベルに一致する様に設定されている。
On the other hand, the
本発明に係る画素回路は、トランジスタの素子数が少なくなったことに加え、電源ラインの本数も図4に示した参考例に比べて少なくなっている。図示する様に、本画素回路101に必要な電源系統は電源電位Vccとカソード電位Vcathの2本だけである。これに対して図4に示した参考例の電源系統は、電源電位Vcc、接地電位GND、オフセット電位Vofsの3本が必要である。又接地電位GNDとは別にカソード電位Vcathを設定する場合には4本になってしまう。
In the pixel circuit according to the present invention, the number of transistor elements is reduced, and the number of power supply lines is reduced as compared with the reference example shown in FIG. As shown in the figure, the power supply system required for the
図7を参照して、図6に示した画素回路の動作を詳細に説明する。このタイミングチャートは4本の走査線WSL101,DSL101,AZL101a,AZL101bのレベル変化を1フィールド(1F)に亘って表わしている。又、ドライブトランジスタ111の入力ノードND112及び出力ノードND111の電位変化を1フィールドに亘って表わしている。加えて中間ノードND113の電位変化も点線で表わしてある。1フィールド(1F)はタイミングT1で始まりタイミングT9で終る。
The operation of the pixel circuit shown in FIG. 6 will be described in detail with reference to FIG. This timing chart represents a level change of four scanning lines WSL101, DSL101, AZL101a, and AZL101b over one field (1F). Further, the potential change of the input node ND112 and the output node ND111 of the
当該フィールドに入る前のタイミングT0では、走査線DSL101及びAZL101bがハイレベルにある一方、残りの走査線WSL101及びAZL101aがローレベルである。従ってスイッチングトランジスタ112と第2検知トランジスタ114がオン状態であり、残りのサンプリングトランジスタ115及び第1検知トランジスタ113がオフとなっている。この状態でドライブトランジスタ111のゲートには保持容量C111に保持されている信号電位Vinが印加される。従ってドライブトランジスタ111は信号電位Vinに応じたドレイン電流Idsを電気光学素子117に供給する。この結果、電気光学素子117は入力信号Vsigに応じた輝度で発光する。
At timing T0 before entering the field, the scanning lines DSL101 and AZL101b are at a high level, while the remaining scanning lines WSL101 and AZL101a are at a low level. Therefore, the switching
続いてタイミングT1になると、走査線AZL101aがローレベルからハイレベルに立ち上がる。この結果第1検知トランジスタ113はオフ状態からオン状態に切り替わる。これにより入力ノードND112は電源電位Vccに接続される為、入力ノードND112の電位は急激に電源電位Vccまで上昇する。これに伴い保持容量C111及びオン状態にある第2検知トランジスタ114を介して入力ノードND112と接続している出力ノードND111も連動してその電位が急激に上昇する。この状態であっても入力ノードND112と出力ノードND111の電位差(すなわちドライブトランジスタ111のゲート電位Vgs)はその閾電圧Vthよりも大きいので、引続きドレイン電流Idsが電気光学素子117に向かって流れ続ける。
Subsequently, at timing T1, the scanning line AZL 101a rises from a low level to a high level. As a result, the
更にタイミングT2になると、走査線DSL101がハイレベルからローレベルに切り替わる。この結果スイッチングトランジスタ112がオン状態からオフ状態となり、電気光学素子117が出力ノードND111から切り離される。ドレイン電流Idsは流路を閉ざされ、保持容量C111に流れ込む。保持容量C111を充電する過程で出力ノードND111の電位が上昇する。一方入力ノードND112は第1検知トランジスタ113がオン状態であるので電源電位Vccに固定されている。ND112とND111の電位差がちょうどドライブトランジスタ111の閾電圧Vthまで到達した時、ドレイン電流Idsは流れなくなり、この時の電位が保持容量C111に保持される。換言すると、タイミングチャートでVth補正期間と表わした様に、閾電圧Vthが保持容量C111にサンプリングされたことになる。
Further, at timing T2, the scanning line DSL101 is switched from the high level to the low level. As a result, the switching
続いてタイミングT3に至りVth補正期間が終了すると、走査線AZL101aがハイレベルからローレベルに切り替わる。この結果ドライブトランジスタ111の入力ノードND112は電源電位Vccから切り離される。更にタイミングT4になると走査線AZL101bもハイレベルからローレベルに切り替わる。この結果第2検知トランジスタ114もオフ状態となる。これにより中間ノードND113が出力ノードND111から切り離される。このタイミングT3及びT4における一連の動作により、画素回路111の信号書込の為の準備が完了する。
Subsequently, at timing T3, when the Vth correction period ends, the scanning line AZL 101a is switched from the high level to the low level. As a result, input node ND112 of
タイミングT5に至ると走査線WSL101がローレベルからハイレベルに立ち上がり、入力信号の書込動作が行なわれる。すなわちサンプリングトランジスタ115がオン状態となり、信号線DTL101から供給された入力信号Vsigが保持容量C111にサンプリングされる。実際には保持容量C111と結合容量C113に対して入力信号Vsigの充電が行なわれるが、保持容量C111の容量値に比べて結合容量C113の容量値を十分大きく取ってある。従って、保持容量C111に保持される信号電位VinはほぼVsigに近い。尚、入力信号Vsigの最低レベル(黒レベル)が電源電位Vccと一致する様に設定されているので、入力信号Vsigの正味の値が保持容量C111に書き込まれることになる。この結果、図7のタイミングチャートに示す様に保持容量C111にはドライブトランジスタ111の閾電圧Vthに上積みする形で信号電位Vinが保持されることになる。1本のラインに対する入力信号の書込に割り当てられる1水平走査期間(1H)が経過すると、タイミングT6で走査線WSL101が再びローレベルに戻り、サンプリングトランジスタ115がオフする。
When the timing T5 is reached, the scanning line WSL101 rises from a low level to a high level, and an input signal writing operation is performed. That is, the
タイミングT7に入ると走査線AZL101bがローレベルからハイレベルに切り替わり第2検知トランジスタ114がオン状態となる。これにより保持容量C111の一端が直接出力ノードND111に接続される。すなわち、保持容量C111はドライブトランジスタ111の入力ノードND112と出力ノードND111の間に介在する形となり、発光動作に対する準備が整う。
At timing T7, the scanning line AZL101b is switched from the low level to the high level, and the
タイミングT8に至ると走査線DSL101がローレベルからハイレベルに切り替わる。この結果スイッチングトランジスタ112がオン状態となり、ドライブトランジスタ111の出力ノードND111が直接電気光学素子117のアノードに接続される。これにより、ドライブトランジスタ111のドレイン電流Idsが電気光学素子117に流れ込み、発光動作が行なわれる。ドレイン電流Idsは保持容量C111に保持された信号電位Vinに応じた電流量である。又、ドライブトランジスタ111の閾電圧Vthの変動は、保持容量C111に保持された閾電圧Vthに対応する電位でキャンセルされる。電気光学素子117にドレイン電流Idsが流れ込むと、出力ノードND111の電位は急激に低下する。この時ブートストラップ動作により、入力ノードND112の電位も連動して急激に低下する。しかし保持容量C111に保持された電位Vin+Vthは一定に保たれたままである。従って発光動作中電気光学素子117には信号電位Vinに応じたドレイン電流Idsが流れ続け、且つドライブトランジスタ111の閾電圧Vth補正動作も正しく行なわれる。
When the timing T8 is reached, the scanning line DSL101 switches from the low level to the high level. As a result, the switching
101・・・画素回路、111・・・ドライブトランジスタ、112・・・スイッチングトランジスタ、113・・・第1検知トランジスタ、114・・・第2検知トランジスタ、115・・・サンプリングトランジスタ、117・・・電気光学素子、C111・・・保持容量、C113・・・結合容量
DESCRIPTION OF
Claims (4)
電気光学素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、
該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、
該電気光学素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、
該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該電気光学素子のアノードとの間に挿入されており、
該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、
該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、
該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、
該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続し、
前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、
前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該電気光学素子のアノードに接続し、
前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該電気光学素子を電流駆動し、
前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該電気光学素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、
前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する
画素回路。 A pixel circuit disposed at a portion where the scanning line and the signal line intersect,
An electro-optic element; first and second capacitance elements; and five N-channel thin film transistors each including a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, a first detection transistor, and a second detection transistor,
The drive transistor has a gate connected to an input node, a source connected to an output node, a drain connected to a power supply potential of a predetermined level,
The electro-optic element has an anode connectable to an output node, a cathode connected to a predetermined cathode potential,
The switching transistor is inserted between the output node and the anode of the electro-optic element;
The sampling transistor is connected between the input node and the signal line;
The first capacitor element and the second capacitor element are connected in series between the input node and the power supply potential,
The first sensing transistor is connected between the input node and the power supply potential,
The second sensing transistor is connected between the output node and an intermediate node located between the first capacitive element and the second capacitive element,
The sampling transistor operates when selected by a scanning line, samples an input signal from the signal line, and holds it in the first capacitor element;
The switching transistor is conductive when selected by a scan line to connect the output node of the drive transistor to the anode of the electro-optic element;
The drive transistor drives the electro-optic element in accordance with a signal potential held in the first capacitor;
It said first sensing transistor and the second sensing transistor operates when selected by the scanning line, the detection in order to cancel previously the influence detects the threshold voltage of prior the drive transistor to the current driving the electro-optical element Held potential in the first capacitor element ,
The sampling transistor, the switching transistor, the first detection transistor, and the second detection transistor operate when selected by different scanning lines.
Picture Motokairo.
請求項1記載の画素回路。 The minimum level of the input signal supplied from the signal line is set to match the predetermined level of the power supply potential.
The pixel circuit of 請 Motomeko 1 wherein.
各画素は、負荷素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、
該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、
該負荷素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、
該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該負荷素子のアノードとの間に挿入されており、
該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、
該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、
該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、
該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続し、
前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、
前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該負荷素子のアノードに接続し、
前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該負荷素子を電流駆動し、
前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該負荷素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、
前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する
アクティブマトリクス装置。 An active matrix device comprising a row-shaped scanning line, a column-shaped signal line, and pixels arranged in a matrix at a portion where both intersect,
Each pixel includes a load element, first and second capacitive elements, and five N-channel thin film transistors including a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, a first detection transistor, and a second detection transistor,
The drive transistor has a gate connected to an input node, a source connected to an output node, a drain connected to a power supply potential of a predetermined level,
The load element has an anode connectable to an output node, a cathode connected to a predetermined cathode potential,
The switching transistor is inserted between the output node and the anode of the load element;
The sampling transistor is connected between the input node and the signal line;
The first capacitor element and the second capacitor element are connected in series between the input node and the power supply potential,
The first sensing transistor is connected between the input node and the power supply potential,
The second sensing transistor is connected between the output node and an intermediate node located between the first capacitive element and the second capacitive element,
The sampling transistor operates when selected by a scanning line, samples an input signal from the signal line, and holds it in the first capacitor element;
The switching transistor is conductive when selected by a scan line to connect the output node of the drive transistor to the anode of the load element;
The drive transistor drives the load element in accordance with a signal potential held in the first capacitor element,
Said first sensing transistor and the second sensing transistor operates when selected by the scanning line, and the detection in order to cancel the detected advance the effects the threshold voltage of prior the drive transistor to the current driving of the load element Holding a potential in the first capacitor ;
The sampling transistor, the switching transistor, the first detection transistor, and the second detection transistor operate when selected by different scanning lines.
Active matrix device.
各画素は、有機エレクトロルミネッセンス素子と、第1及び第2の容量素子と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第1検知トランジスタ及び第2検知トランジスタからなる5個のNチャネル薄膜トランジスタとを備え、
該ドライブトランジスタは、そのゲートが入力ノードにつながり、そのソースが出力ノードにつながり、そのドレインが所定のレベルの電源電位に接続し、
該有機エレクトロルミネッセンス素子は、そのアノードが出力ノードに接続可能であり、そのカソードが所定のカソード電位に接続し、
該スイッチングトランジスタは、該出力ノードと該有機エレクトロルミネッセンス素子のアノードとの間に挿入されており、
該サンプリングトランジスタは、該入力ノードと該信号線との間に接続し、
該第1の容量素子及び第2の容量素子は、該入力ノードと該電源電位との間で直列に接続され、
該第1検知トランジスタは、該入力ノードと該電源電位との間に接続し、
該第2検知トランジスタは、該出力ノードと該第1の容量素子及び第2の容量素子の間に位置する中間ノードとの間に接続し、
前記サンプリングトランジスタは走査線によって選択された時動作し、該信号線から入力信号をサンプリングして該第1の容量素子に保持し、
前記スイッチングトランジスタは走査線によって選択された時導通して該ドライブトランジスタの出力ノードを該有機エレクトロルミネッセンス素子のアノードに接続し、
前記ドライブトランジスタは、該第1の容量素子に保持された信号電位に応じて該有機エレクトロルミネッセンス素子を電流駆動し、
前記第1検知トランジスタ及び前記第2検知トランジスタは走査線によって選択された時動作し、該有機エレクトロルミネッセンス素子の電流駆動に先だって該ドライブトランジスタの閾電圧を検知しあらかじめその影響をキャンセルする為に該検知した電位を該第1の容量素子に保持し、
前記サンプリングトランジスタ、前記スイッチングトランジスタ、前記第1検知トランジスタ、及び前記第2検知トランジスタは、それぞれ異なる走査線によって選択された時動作する
表示装置。 A display device comprising a row-shaped scanning line, a column-shaped signal line, and pixels arranged in a matrix at a portion where both intersect,
Each pixel includes an organic electroluminescence element, first and second capacitor elements, and five N-channel thin film transistors including a sampling transistor, a drive transistor, a switching transistor, a first detection transistor, and a second detection transistor,
The drive transistor has a gate connected to an input node, a source connected to an output node, a drain connected to a power supply potential of a predetermined level,
The organic electroluminescence element has an anode that can be connected to an output node, a cathode that is connected to a predetermined cathode potential,
The switching transistor is inserted between the output node and the anode of the organic electroluminescence element,
The sampling transistor is connected between the input node and the signal line;
The first capacitor element and the second capacitor element are connected in series between the input node and the power supply potential,
The first sensing transistor is connected between the input node and the power supply potential,
The second sensing transistor is connected between the output node and an intermediate node located between the first capacitive element and the second capacitive element,
The sampling transistor operates when selected by a scanning line, samples an input signal from the signal line, and holds it in the first capacitor element;
The switching transistor is conductive when selected by a scan line to connect the output node of the drive transistor to the anode of the organic electroluminescent element;
The drive transistor current-drives the organic electroluminescence element according to the signal potential held in the first capacitor element,
Said first sensing transistor and the second sensing transistor operates when selected by the scanning line, said to cancel advance the impact detecting the threshold voltage of prior the drive transistor to the current driving the organic electroluminescence element Holding the detected potential in the first capacitor ;
The sampling transistor, the switching transistor, the first detection transistor, and the second detection transistor operate when selected by different scanning lines.
Viewing equipment.
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