JP4639761B2 - 偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 - Google Patents
偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4639761B2 JP4639761B2 JP2004326719A JP2004326719A JP4639761B2 JP 4639761 B2 JP4639761 B2 JP 4639761B2 JP 2004326719 A JP2004326719 A JP 2004326719A JP 2004326719 A JP2004326719 A JP 2004326719A JP 4639761 B2 JP4639761 B2 JP 4639761B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizer
- light
- columnar body
- aluminum
- polarizer according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Description
この吸収型の偏光子は、偏光方向の直交する2つの光で吸光度が異なることを利用して偏光作用をもたせたものである。例えば、液晶表示装置で使用している偏光子には、ポリビニルアルコール等の高分子フィルムを配向したものに、ヨウ素や染料等の二色性分子で染色したものが知られており、二色性分子が高分子フィルムの配向方向に揃うために偏光作用を示す。この偏光子は、高分子フィルムからなり、価格が安く大面積化が容易であるため、液晶表示装置用の偏光フィルムとして大量に使用されている。吸収型の偏光子としては、この他に、形状に異方性がある銀や銅などの金属をガラス中に分散させた偏光子が知られている。この偏光子は、ガラスを延伸して作製するため、大きなサイズは得られず最大サイズが数十mm2程度という制約があるが、消光比、透過率が高く、また、湿度、温度等の耐環境性に優れ、さらに、レーザー耐性にも優れるため、光通信用デバイス部品、特にアイソレータ用の偏光子などとして用いられている。
そこで、二色性色素を用いた偏光子の耐熱性を改善するため、偏光子を貼り付ける透明基板材料として、従来のガラスから熱伝導率の大きいサファイア結晶を用いることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、サファイア結晶は、結晶育成に時間がかかり、また大型結晶の育成が難しいために値段が高いという問題がある。このため、サファイア基板を用いずにすむ、耐熱性が高い偏光子が望まれていた。
ガラス中に析出した球状のハロゲン化銀を約400度程度で延伸後、還元処理することにより、形状異方性のある銀がガラス内に形成される。銀の形状は延伸方向に一軸異方性を有する楕円球とされている。銅の場合も同様にして作製される。いずれにおいても、楕円球の長軸方向と短軸方向とで異なる共鳴吸収波長を示し、長軸方向の共鳴吸収波長が短軸方向より長波長に存在する。これら共鳴吸収波長の違いが偏光子に利用され、長軸方向の共鳴吸収波長が最大となるときの波長が偏光子の中心波長になる。この波長で消光比が最大となる。また、長軸方向と短軸方向の長さの比を変えることにより、共鳴吸収波長を変えることができるため、消光波長の異なる偏光子が作製できる(例えば、非特許文献1参照)。
ところで、銀や銅は、周知のように金属であり、またガラス内に分散されているため、耐熱性に優れる特徴がある。しかしながら、使用波長が近赤外に限定される。つまり、これは、銀や銅が、短軸方向の共鳴吸収が可視光域に存在し、可視波長域では透過率が低いためである。特に、青色域では透過率が低く、可視光域用の偏光子には使用できないという問題がある。
また別の問題として、上記ガラス組成を用いる場合にはスパッタリングや蒸着等の方法が適用できないこともある。このため、前述の特許文献2には、上記アルミニウム粒子を充填する方法として、化学溶液沈積法が提案されている。しかしながら、この方法は湿式法であるため、ガラス化時の体積収縮が大きく、基板反りが生じやすいこと、またガラス化温度が550℃から600℃と高く、アルミニウムの融点660℃に近いため、アルミニウムの変形や、意図しない変質が生ずる可能性が高い。
一方、スパッタリング法や蒸着法は、成膜条件により応力を調整することが可能であること、成膜温度を室温より設定可能であり、400℃程度まで上げれば実用上十分な膜が成膜でき、上記問題を避けることができる。さらに、成膜方法も簡便なため好ましい充填方法であるが、アルカリ土類アルミノ硼酸塩系ガラスのような多元系組成の場合、組成制御が難しく、適用が難しいという問題がある。また、上記した特許文献2には、偏光子の消光比を高めるため、アルミニウム粒子をガラス材料で充填後、これら工程を反復することが記載されているが、この場合には上記の基板の反り、アルミニウムの変形や意図しない変質が更に生ずる可能性が高い。
また、本発明の偏光子は、吸収体としてアルミニウムが用いられるが、アルミニウムは短軸方向の吸収波長を紫外域にすることが可能であるため、青色、緑色、赤色用いずれにおいても、透過率の高い偏光子を作製することができる。
図1は、本発明の偏光子を示すものであり、この偏光子は、透明基板1と、柱状体2と、酸化膜3と、誘電体4とを備えている。
本偏光子の作成方法においては加熱延伸をしないため、透明基板1の基材は、アルカリ土類アルミナ硼酸塩系ガラスに限定されず、例えば、一般的なガラス組成として用いられている珪素塩をベースとするガラスを使用することができる。
柱状体2は、アルミニウムを吸収体として用いており、この柱状体2のアルミニウム表面に酸化膜が形成されている。このアルミニウムは、短軸方向の吸収波長を紫外域にすることが可能であるため、青色、緑色、赤色用いずれにおいても、透過率の高い偏光子を作製することができる。
酸化膜3は、アルミニウム表面に形成されており、この酸化膜3はAl2O3(アルミナ)であることが好ましい。Al2O3は、不動態であり、化学的に極めて安定である。この結果、酸化膜3の周囲を充填する誘電体4としては、選択できる充填材料が多くなり、スパッタリングや蒸着等簡便な成膜方法を使用することができる。Al2O3は、例えば、大気中で放置することにより成膜できる。この場合、約5nmから10nm厚の無定形のAl2O3が形成される。膜厚を増やしたい場合には、加熱または酸素濃度を挙げて酸化処理をすればよい。350℃以上で熱処置することにより、γ−Al2O3を形成するが、γ−Al2O3または無定形のAl2O3いずれであってもよい。Al2O3を形成する方法としては、非常に簡便であることから、大気中、室温下で自然放置する方法が特に好ましい。酸化膜3の厚さは、5nmから100nmが好ましい。このような範囲内の厚さで酸化膜3を成膜するのは、以下のような理由からである。即ち、5nmより小さいと、酸化膜3の厚さ制御が難しい。また、100nmより大きいと、用いる充填材の屈折率が酸化膜3の屈折率と異なる場合、散乱が大きく、透過率が低下する。また、表面に酸化膜3を形成する別の効果として、アルミニウムの柱状体2のサイズを実効的に小さくできることがある。粒子サイズが小さくなると、光の散乱は小さくなるため、透過率の低下を低減できる。
柱状体2とは、具体的には、直方体、楕円柱体、台形柱体である。これら形状について、図2(A)〜(C)に記載する。
これらの図2(A)〜(C)において、X、Y、Zの方向を、図のようにそれぞれ直交するようにとる。X方向、Y方向、Z方向の長さをそれぞれ、x0、y0、z0とし、図2(C)においては、底面がx0、y0とすると、直方体、楕円柱体の体積は、それぞれ、x0×y0×z0、x0×y0×z0×π/4であり、四角錐の体積x0×y0×z0/3より大きい。台形柱体においても、同様に四角錐の体積より大きく、いずれの場合も、粒子1個あたりの吸収能が四角錐に比べて大きい。このため、所望の消光比を得る場合、粒子密度が等しい場合には膜厚を少なくすることができる。すなわち、成膜回数が少なくても、同一消光比を得ることができるため、優れている。
先に示したアルミニウムの柱状体2と同一になるように、偏光子の方向をX、Y、Zとする。
図1(A)は、X−Z方向からの断面図である。透明基板1の上にアルミニウムの柱状体2が付与されているとともに、この柱状体2であるアルミニウム表面は酸化膜3に覆われており、さらに透明誘電体4により充填されている。
図1(B)は、真上から見た図である。光はX−Y平面に垂直なZ方向に進み、入射偏光はX、Y方向に平行な2つの方向である。ここで、柱状体2のX、Y、Z方向の長さをx1、y1、z1とする。偏光子として機能するためには、アルミニウム直方体の長さは、X方向とY方向で異なる必要がある。このとき共鳴吸収が最大になる波長は、下記に示す(1)式が最大になる波長で表される。
次に、先の誘電体4の誘電率をεD1とし、εD1<εD2である誘電体材料を用いた場合を考える。x1、y1、z1のまま、誘電体4をεD2に変える。所望のεD2を選択することにより、共鳴吸収波長をλaからλbに長波長シフトさせることができる。この場合、直方体サイズには変化がない。サイズの小さい方が光散乱が少ないため、誘電体4の誘電率が高い方が好ましい。ところで、透明な誘電体4において、誘電率は屈折率の平方根に等しいため、「誘電率が大きいことは屈折率が大きい」ことと同義である。可視光域では誘電率の変わりに、屈折率が用いられることが多い。屈折率としては、2以上であることが好ましい。このような誘電体4としては、チタン酸化物、タンタル酸化物が好ましい。
また、アルミニウムの柱状体2を形成後、充填する誘電体4の屈折率のみを変えることにより、青、緑、赤用の偏光子を作り分けることもできる。以下に説明する偏光子の作製方法において、最後の充填材料のみ変更することにより、青、緑、赤用の偏光子を作り分けることが可能である。
図3(A)は、Y方向の反電界係数Lyと共鳴吸収波長の関係を示している。誘電体4の屈折率は1.9とした。反電界係数を小さくすることにより、共鳴吸収波長が大きくなる。Y方向とX方向の長さの比(以下、「アスペクト比」ともいう)y1/x1が大きくなると、反電界係数Lyは小さくなる。すなわち、アスペクト比を大きくすることにより、可視光域で短波長から長波長にシフトさせることができる。
図3(B)は、反電界係数Lx、Lyを、それぞれ、0.446、0.108としたときの、誘電体屈折率と共鳴吸収波長の関係を示している。Y方向の共鳴吸収波長はX方向の共鳴吸収波長より大きく、紫外域から可視光域にある。屈折率が大きくなると共鳴吸収波長は大きくなり、屈折率が約1.7以上で共鳴吸収波長は400nmを越える。このときX方向の吸収は紫外域にあるため、可視光域で偏光子として機能する。
図3(C)は、反電界係数Lx、Lyを、それぞれ、0.472、0.058とした場合の、誘電体屈折率と共鳴吸収波長の関係を示している。図3(B)と同様に、可視光域で偏光子として機能することが分かる。青色用偏光子としてY方向の共鳴収集波長を450nmとした場合、誘電体屈折率はLy=0.108(図3(B))では約2となり、Ly=0.058(図3(C))では約1.4となる。前述のように反電界係数Lyが大きい方がアスペクト比が小さいため、X方向の長さが等しいとすると、Ly=0.108の方がLy=0.058より柱状体のサイズは小さい。屈折率の大きい誘電体を用いた場合、柱状体のサイズを小さくできる。その結果、光散乱の小さい偏光子を得ることができる。また、図3(C)から、誘電体屈折率が1.4、1.7、2.1のとき、Y方向の共鳴吸収波長は、それぞれ、約450nm、約550nm、約650nmである。これらの波長は、それぞれ、青、緑、赤用の偏光子に対応しており、柱状体2のサイズが同一であっても、誘電体4の屈折率を変えれば、偏光子を作り分けることが可能であることを示している。
図4(A)に記載のように、透明基板1の上に、アルミニウム21を所定の厚さ成膜し、その上にレジスト22を成膜する。その後、図4(B)のように、レジスト22をパターングし、続いてレジスト22が除去された部分のアルミニウム21をエッチングし、図4(C)の断面形状を得る。さらに、図4(D)のように、レジスト22を除去し、透明基板1上にパターニングされた柱状構造のアルミニウム21のみが残る。続いて、このアルミニウム21を酸化し、図4(E)のように、表面に酸化膜3を形成し、さらに凹部を透明な誘電体4にて充填する。
その後、レジスト22を剥離し、図4(B)のように、パターンを得ることができる。続いて、塩素ガスを用いて反応性イオンエッチング法または反応性イオンビームエッチング法にてアルミニウムエッチングする。塩素ガス中に選択比、すなわちアルミニウムエッチング速度/レジストエッチング速度が大きくなるようなガスを添加して用いても良い。このようなガスとしては、例えば三臭化ホウ素が挙げられる。続いて、アルミニウム表面を酸化し、酸化膜を形成する。レジスト22が成膜された面、すなわち、図4(A)のアルミニウム21とレジスト22の界面には、レジストコート時に、既にアルミニウム表面に酸化膜3が形成されている場合があるので、少なくともエッチングにより生じた新しいアルミニウム表面を酸化処理することが、本酸化膜を形成する目的である。大気圧下で、室温に放置することにより、約10nm厚のAl2O3が形成されるので、この酸化膜3をそのまま用いることができる。また、このとき加熱しても良く、さらに大気中に取り出さず、チャンバー内に酸素ガスを所定量添加し、エッチング後、そのまま表面を酸化処理しても良い。この後、スパッタリング法、蒸着法により誘電体4を充填し、図4(F)の構造の偏光子を得る。所望の消光比を得るために、更に、図4(A)から図4(D)を繰り返し行えばよい。
図5(A)に示すように、透明基板11の上にアルミニウム21を成膜後、その上に紫外線硬化材23を滴下する。この紫外線硬化材23は、その後、スピンコートしてもよい。続いて、図5(B)に示すように、表面に離型剤51が処理された金型5を紫外線硬化材23の上から押し付け、紫外線UVを照射する。これにより、紫外線硬化材23を硬化させて樹脂とした後、金型5を離型し、図5(C)に記載のレジストパターンを得る。金型5の凸部にも、紫外線硬化材23が残渣として一部残り、残渣を除去するためのエッチングを行う。酸素雰囲気下で反応性イオンエッチングまたは反応性イオンビームエッチングを行い、図5(D)のようなパターンを得る。以上、ナノインプリントによるレジストパターニング法について説明した。これ以降の作製方法は、図4(D)以降の作業工程と同様である。
柱状体2のX、Y、Z方向の長さを、それぞれ、x0、y0、z0とし、y0>x0であるとすると、長軸長すなわちy0は、偏光すべき光の波長より短いことが好ましい。波長より長いと反射率が大きくなり、透過光量が小さくなるためである。また、光散乱が少ないことから、柱状体2のX、Y方向の長さx0、y0は、いずれもサイズが小さいことが好ましいが、作製時の加工条件の安定性を考えると、x0は20nm以上とすることが好ましい。x方向の長さがx0=30nmの場合には、アルミニウムエッチング後に、x方向の長さが50nmになるようにし、その後の酸化膜3の厚さが10nmになるように、表面を酸化処理する。
本作製方法は、表面酸化膜の形成によりアルミニウムの長さが短くなり、柱状体2の微細化に寄与する。ナノサイズの加工は歩留まりが悪いという課題を緩和できる。柱状体2のY、Z方向の長さy0、z0は、用いる誘電体4の誘電率および目的とする波長に応じて決めることができる。また、アルミニウムの各柱状体2間の距離については、近すぎると反射が生じ、遠すぎると膜厚が厚くなるため、柱状体2間の相互作用がないような最小距離とするのが良い。この最小距離は、柱状体2のサイズに応じて変化するため、所望のx0、y0、z0において適宜に決めればよい。
2、21 (アルミニウム)柱状体
22 レジスト
23 紫外線硬化材(レジスト)
3 酸化膜
4 誘電体
5 金型
51 離型剤
UV 紫外線
Claims (10)
- 透明基板と、
前記透明基板上に互いに独立して複数配置したアルミニウムの柱状体と、
前記柱状体の表面に形成した酸化膜と、
前記透明基板上の前記柱状体間を充填する透明な誘電体と、を備え、
前記柱状体は、前記透明基板面をX−Y平面とするとき、Y方向となる長軸長さがX方向の長さよりも長いとともに、前記長軸長さが偏光すべき光の波長よりも短く、
前記柱状体であるアルミニウムが吸収体として用いられる吸収型の偏光子。 - 前記柱状体は、直方体、楕円柱体または台形柱体である請求項1に記載の偏光子。
- 前記柱状体は、高さが前記長軸長さ以下である請求項1又は2に記載の偏光子。
- 前記酸化膜は、Al2O3である請求項1から3のいずれか1項に記載の偏光子。
- 前記酸化膜のAl2O3は、大気中、室温条件において成膜されている請求項4に記載の偏光子。
- 前記柱状体のX方向の長さが、20nm以上である請求項1から5いずれか1項に記載の偏光子。
- 前記酸化膜は、厚さが5nm以上100nm以下である請求項1から6のいずれか1項に記載の偏光子。
- 前記透明な誘電体は、屈折率が2以上である請求項1から7のいずれか1項に記載の偏光子。
- 前記光は可視光域を含む波長域である請求項1から8のいずれか1項に記載の偏光子。
- 光源と、前記光源からの光を少なくとも2つの異なる色の光に分離する色分離手段と、前記色分離手段によって分離された光をそれぞれ変調する複数のライトバルブと、前記色分離手段によって分離された光を前記各々のライトバルブに導く複数の反射ミラーと、前記複数のライトバルブの入射側または出射側、もしくは両方に配置された偏光子と、前記複数のライトバルブから出射した光を合成する色合成手段と、合成された光を拡大投影する投影手段とを備える透過型プロジェクタ装置において、
前記偏光子として請求項1から9のいずれか1項に記載の偏光子を用いることを特徴とする透過型液晶プロジェクタ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004326719A JP4639761B2 (ja) | 2004-11-10 | 2004-11-10 | 偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004326719A JP4639761B2 (ja) | 2004-11-10 | 2004-11-10 | 偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006138945A JP2006138945A (ja) | 2006-06-01 |
JP4639761B2 true JP4639761B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=36619835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004326719A Expired - Fee Related JP4639761B2 (ja) | 2004-11-10 | 2004-11-10 | 偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4639761B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4559998B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2010-10-13 | 財団法人光産業技術振興協会 | 偏光板 |
JP2008003189A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 光ファイバ一体型光アイソレータ |
CN101622557A (zh) * | 2007-01-12 | 2010-01-06 | 东丽株式会社 | 偏振片和使用该偏振片的液晶显示装置 |
JP2012002972A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Seiko Epson Corp | 偏光素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器 |
JP2012002971A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Seiko Epson Corp | 偏光素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器 |
WO2012091142A1 (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1073722A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Sony Corp | 偏光光学素子及びその製造方法 |
JP2003066229A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Kyocera Corp | 縞状偏光子 |
JP2004245871A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Seiko Epson Corp | 電気光学変調装置及びその製造方法並びにプロジェクタ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1597616A4 (en) * | 2003-02-10 | 2008-04-09 | Nanoopto Corp | UNIVERSAL BROADBAND POLARIZER, DEVICES COMPRISING THE POLARIZER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE POLARIZER |
-
2004
- 2004-11-10 JP JP2004326719A patent/JP4639761B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1073722A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Sony Corp | 偏光光学素子及びその製造方法 |
JP2003066229A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Kyocera Corp | 縞状偏光子 |
JP2004245871A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Seiko Epson Corp | 電気光学変調装置及びその製造方法並びにプロジェクタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006138945A (ja) | 2006-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6100492B2 (ja) | 偏光素子、プロジェクター及び偏光素子の製造方法 | |
JP6164339B2 (ja) | 偏光素子、及び透過型液晶プロジェクター | |
JP4935209B2 (ja) | 偏光素子及びその製造方法 | |
KR102364526B1 (ko) | 편광판, 및 편광판의 제조 방법 | |
CN105388551B (zh) | 无机偏光板及其制造方法 | |
WO2012118204A1 (ja) | 偏光素子 | |
CN111929760B (zh) | 偏光板、和偏光板的制造方法、束结构的制造方法 | |
JP2010066571A (ja) | 偏光素子及びその製造方法、並びに液晶プロジェクタ | |
US8830585B2 (en) | Optical element, polarization filter, optical isolator, and optical apparatus | |
JP5936727B2 (ja) | 偏光素子 | |
JPWO2019004435A1 (ja) | 偏光板、およびそれを用いた画像表示装置ならびに移動体 | |
JP5206029B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP4639761B2 (ja) | 偏光子及び透過型液晶プロジェクタ装置 | |
JP2007052315A (ja) | 光学素子の製造方法、投射型表示装置 | |
JP5359128B2 (ja) | 偏光素子及びその製造方法 | |
JP2009216745A (ja) | 偏光素子 | |
JP2006178186A (ja) | 偏光制御素子、偏光制御素子の製造方法、偏光制御素子の設計方法、電子機器 | |
CN109975910B (zh) | 偏振光板及其制造方法以及光学设备 | |
US11543573B2 (en) | Polarizing plate and optical apparatus containing same | |
Zhou | Photonic devices fabricated with photonic area lithographically mapped process | |
CN117980788A (zh) | 偏振板、光学设备以及偏振板的制造方法 | |
JP2019152872A (ja) | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060425 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071001 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101012 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101115 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |