JP4631597B2 - 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置 - Google Patents

光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4631597B2
JP4631597B2 JP2005238831A JP2005238831A JP4631597B2 JP 4631597 B2 JP4631597 B2 JP 4631597B2 JP 2005238831 A JP2005238831 A JP 2005238831A JP 2005238831 A JP2005238831 A JP 2005238831A JP 4631597 B2 JP4631597 B2 JP 4631597B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photocatalyst
light source
gate valve
valve body
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005238831A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007051743A (ja
Inventor
清典 小熊
秀夫 成田
暢彦 大田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yaskawa Electric Corp
Original Assignee
Yaskawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yaskawa Electric Corp filed Critical Yaskawa Electric Corp
Priority to JP2005238831A priority Critical patent/JP4631597B2/ja
Publication of JP2007051743A publication Critical patent/JP2007051743A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4631597B2 publication Critical patent/JP4631597B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、半導体・液晶製造装置、搬送システムにおいて各装置間または各チャンバ間を仕切るゲートバルブに関する。
従来のゲートバルブとして、図6に示すようなものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
図6において、2は弁体、3は弁箱、4は弁棒、5は開口部、9、9bはOリング、6はベローズ、18はヒータ、19はヒータ用のケーブルである。弁箱3の開口部5の面に、成膜装置などのプロセス装置が取り付けられる。ゲートバルブは、Oリング9を備えた弁体2と、弁体2に接続された弁棒4と、弁棒4に接続されたベローズ6と、図示しない駆動手段(エアシリンダなど)とで構成される。弁体2には、加熱用のヒータ18が内蔵されている。ヒータ18にはケーブル19が取り付けられている。ケーブル19は、弁体2から引き出され、弁棒4内部に納められている。弁体2の開閉動作時には、ケーブル19も弁体2とともに動く。
上述のような真空チャンバに、成膜装置やエッチャなどのプラズマ処理装置が取り付けられている場合、プラズマ処理時に生成した難揮発性有機物が処理室内壁、弁体2表面に付着する。有機物が弁体2表面に蓄積されると、弁体2の開閉動作によって剥離しパーティクルを生じる。また、ゲートバルブが成膜装置や拡散炉などの高温処理装置に取り付けられている場合、プロセス処理後にバルブを開けるとバルブが冷え、弁体2表面に水滴が付着する。水滴は、プロセス処理室の真空度を悪化させ、ロードロック時間を長くする。従来、有機物や水滴の付着を低減するために、弁体2をヒータ18で100〜140℃に加熱している。
このように、従来のゲートバルブを備えた真空チャンバは、ゲートバルブの弁体2を常に加熱しているものである。
特開2001−4505号公報(第5頁、図1)
従来のゲートバルブを備えた真空チャンバは、ゲートバルブの弁体に加熱用ヒータが内蔵されており、弁体は常に加熱されている。したがって、きわめて不経済であり、ランニングコストが高いという問題や、Oリングの寿命が短くなるという問題があった。また、プロセス処理後にバルブを開けると、処理中に使用された腐食性ガスや処理中に生成した活性種が真空チャンバ内に流入する。従来のゲートバルブを備えた真空チャンバは、チャンバ内にゲートバルブの弁体加熱用のケーブルが露出している。したがって、活性種によってケーブルの被覆材が劣化し、弁体の開閉動作によってケーブルの被覆が剥がれ、絶縁不良やパーティクルの発生を引き起こす。このような場合や、弁体内部のヒータが断線した場合は、ケーブルやヒータを交換する必要がある。しかしながら、ケーブルやヒータは、それぞれ弁体内部や弁棒内に取り付けられているので、メンテナンスが困難であるというような問題もあった。さらに、100〜140℃の加熱では、有機物の付着を十分に防止することができないという問題もあった。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、ランニングコストを低減するとともに、容易にメンテナンスを行うことができ、さらに、弁体表面を清浄に保つことのできるゲートバルブを備えた真空チャンバを提供することを目的とする。
上記問題を解決するため、本発明は次のように構成したものである。
請求項1に記載の発明は、弁体と、前記弁体を駆動する弁棒とを有するゲートバルブにおいて、前記弁体は、その少なくとも一部に設けられた透明部材と、前記透明部材の表面に形成した光触媒膜と、前記光触媒膜に光を照射する光源とを設けたものである。
請求項2に記載の発明は、前記透明部材は、前記光源から照射される紫外線から可視光線の全てまたは一部の光を透過するものである。
請求項3に記載の発明は、前記光源を面発光体としたものである。
請求項4に記載の発明は、前記弁体がその内部に前記光源用の電源を備えたものである。
請求項5に記載の発明は、前記弁体の透明部材と隙間を介して対向する固定部材に前記光触媒膜を透過した照射光を検出する光検出器を設けたものである。
請求項6に記載の発明は、前記固定部材が前記弁体を支持する弁箱または真空容器である。
請求項7に記載の発明は、前記光検出器の出力を入力し前記光源の強さを制御する演算器を設けたものである。
請求項8に記載の発明は、前記光源に供給される電流値を検出しその程度により前記光源の寿命を監視する電流計を設けたものである。
請求項9記載の発明は、請求項1から8のいずれかに記載の光触媒被覆ゲートバルブを用いて構成したことを特徴とする真空処理装置である。
請求項1、2に記載の発明によると、弁体の少なくとも一部に透明部材を設け、弁体内に光触媒膜を励起させる光源を備えたので、弁体の状態、すなわち開閉動作中、開状態、閉状態によらず常に光触媒膜に光を照射することができ、難揮発性有機物の除去効果が高い。さらに取り付けるチャンバの形状が制限されないので、ゲートバルブをコンパクトにできる。さらに、ランニングコストを低減するとともに、容易にメンテナンスを行うことができる。
請求項3に記載の発明によると、光源を面発光体としたので、光触媒膜に均一に光を照射することができ、光触媒膜面内における難揮発性有機物の除去効果を均一にすることができる。
請求項4に記載の発明によると、弁体内部に光源用の電源を備えたので、光源と電源をつなぐリード線が弁体以外の箇所に干渉せずに弁体の脱着ができ、メンテナンス性に優れる。
請求項5〜7に記載の発明によると、弁体と対向する固定部材に光検出器を設け、その出力を演算器に入力して制御するので、光触媒膜の光の透過率を求めることができる。したがって、難揮発性有機物の付着量に応じて光触媒膜の活性を制御でき、エネルギ効率が良くなる。
請求項8に記載の発明によると、光源に供給される電流値を検出する電流計を備えているので、光源の劣化などによる性能低下を監視することができる。
請求項9に記載の発明によると、コンパクトでメンテナンスが容易な真空処理装置を得ることができる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
図1は、本発明の光触媒被覆ゲートバルブを示す側断面図である。図において、1は光触媒被覆ゲートバルブ、2a、2bは弁体2の弁体要素、7は透明部材であるガラス板、11は光源、12は光源11用のリード線である。なお、9a、9bはOリング、10は弁体要素2aと2bとを結合するネジ、4aはリード線12を挿入する貫通孔である。他の符号は従来と同じである。
透明部材7は、紫外線から可視光線の全てまたは一部の光を透過するものとして、ガラス板を用いた。このガラス板は弁体要素2aと2bとの間にOリング9bを介してシールされており、ネジ10によって弁体要素2b側から固定されている。
光触媒膜8は、TiOを用いて透明部材7の開口部5側の表面に形成している。
光源11は、弁体要素2bの内部に低圧水銀灯が3個設けられており、これは、400nm以下の波長を発光しTiO膜を励起できる。光源11のリード線12は弁棒4内に設けたリード線12を挿入する貫通孔4aを通って図示しない電源に取り付けられている。
つぎに、本実施例の動作について述べる。
成膜やエッチングなどのプロセス処理が終了すると、弁体2の表面や処理室内壁に難揮発性有機物が付着している。いま、光源11に通電し発光させると、光はガラス板7を透過し、光触媒膜8に照射される。そうすると、TiO膜が励起されその表面に付着していた有機物が二酸化炭素などのガスに分解される。これらのガスはゲートバルブが取り付けられているプロセス装置やロードロックチャンバなどの排気系にて系外に排気される。
本発明が特許文献1と異なる部分は、弁体のシール面側が紫外線から可視光線の全てまたは一部の光を透過する材料で構成されている点、その表面にTiO2膜が形成されている点、および弁体内部に光源を備えた点である。
上記のように、弁体の一部に透明部材と光源を設けた構成にしたので、任意のタイミングで光源を点灯させることができる。したがって、ゲートバルブの開閉動作時やプロセス中などに光触媒膜8に光を照射でき、弁体表面を清浄にすることができる。
なお、本実施例では、光源11を3個用いたが、この数に限るものではない。また、弁体要素2aとガラス板7は別ピースとしたが、ろう付けなどの手段によって接合し一体にても良い。さらに、弁箱3を備えているが、これに限らずロードロックチャンバなどのチャンバでもよい。また、透明部材としてガラス板を用いたが、アクリル、ポリカーボネート、エポキシ樹脂などの紫外線から可視光線の透過率が高い樹脂を用いることもできる。この場合、弁体要素2aを全てこれらの樹脂で構成しても良い。また、光触媒膜8はTiOを用いたが、これに限らずTa、ZnO、SnO、InTaO、NaTaOのうち、1つ以上を用いることができる。また、光源11には低圧水銀灯用いたが、光触媒膜8がTiOの場合、ブラックライト、蛍光灯、紫外光LEDなどの波長が400nm以下の光を発生することができる光源を用いることができる。
図2は本発明の実施例2を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図である。
本実施例は、弁体要素2bの内部に光源11と電源13とを設けたものである。
電源13に電池を用い、電源13およびリード線12が弁体要素2bの内部に設置されている。したがって、弁棒4にはリード線12を通す貫通孔4aは設けられていない。また、透明部材7としてアクリル板を用いた。その他の構成は実施例1と同様である。なお、動作についても実施例1と同じであるため、説明を省略する。
このように、光源11用の電源13およびリード線12が弁体要素2bの内部に設置された構成にしているので、弁体2の脱着が容易でありメンテナンス性に優れる。
図3は本発明の実施例3を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図である。
本実施例は、光源11に有機ELの面発光体を設けたものである。
透明部材7にポリカーボネート板を用い、面発光体の全面をカバーしている。その他の構成は実施例1と同じである。また、動作についても実施例1と同じである。
光源に面発光体を用いたので、光触媒膜8に均一に光を照射することができ、面内での難揮発性有機物の除去効果を均一にすることができる。
図4は、本発明の光触媒被覆ゲートバルブの側断面図である。
図において、15は光検出器、16は演算器、14は光検出器15と演算器16とを接続する信号線である。光触媒膜8とその他の構成は実施例1と同様である。
つぎに、本実施例の動作について述べる。
いま、開口部5が開いているとき、すなわち弁体が光検出器15と対向している時、光検出器15で得られた信号は信号線14を通して演算器16に取り込まれ、吸収率が算出される。開口部5が閉じている時は、信号は遮断される。開口部5が開いている時に透明部材(ガラス板)7の透過率がわかる。さらに、光源の強さと透過率との関係をあらかじめ求めておくことで、透過率に応じて光源11の強度を調整することができる。これにより難揮発性有機物を有効に除去できる。
本発明が特許文献1と異なる部分は、光検出器15と演算器16とを備えている部分である。
上記のような構成にすることにより、開口部5が開いている時にガラス板7の透過率がわかり、透過率に応じて光源11の強度を調整するので、そのエネルギ効率を高めることができる。
図5は、実施例5を示す光触媒被覆ゲートバルブの配線図である。
図において、1は光触媒被覆ゲートバルブ、13は光源11用の電源、17は電流計である。
本実施例は、光源11と電源12との間に、光源13に供給される電流を計測する電流計17を備え、演算器16に電流計17および電源13をそれぞれ信号線14で接続している。その他の構成は実施例4と同様である。
つぎに、本実施例の動作について述べる。
いま、光源11に電力が供給されると、電流計17により電流値を読みとれる。もしこの場合有機物の付着が多ければ、電流計17の電流値が下がるので、電源13の電圧を上げることにより、この強度を厳密に調整する。また、初期の電圧、電流と比較することで、光源11の劣化状況が把握できる。
また、電流計17の出力を演算器16に取り込むことにより、電源13を自動制御することができる。透過率と電流値を比較することにより、電流値が変動しても透過率を正確に求めることができる。
このように、初期の電圧、電流と比較することで、光源11の劣化状況が把握できるので、メンテナンス性に優れる。また、演算器16と電流計17とを接続することで電流値を演算器16に取り込むことができる。また、演算器16と電源12とを接続することで、電源13を自動制御することができる。透過率と電流値を比較することにより、電流値が変動しても透過率を正確に求めることができるので、最適な指令値を電源13に対して送ることができ、エネルギ効率よく光触媒膜の活性を制御できる。
紫外線から可視光線の全てまたは一部の光を透過する透明材料上に光触媒膜が形成されており、膜が形成された面の反対側から光を照射することができるので、真空チャンバのビューポート(のぞき窓)という用途にも適用できる。また、光の透過率を監視できるので、環境浄化装置の用途にも適用できる。
本発明の実施例1を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図 本発明の実施例2を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図 本発明の実施例3を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図 本発明の実施例4を示す光触媒被覆ゲートバルブの側断面図 本発明の実施例5を示す光触媒被覆ゲートバルブの配線図 従来のゲートバルブを示す側断面図
符号の説明
1 光触媒被覆ゲートバルブ
2 弁体
2a、2b 弁体要素
3 弁箱
4 弁棒
4a 貫通孔
5、5a、5b 開口部
6 ベローズ
7 ガラス板
8 光触媒膜
9、9a、9b、9c Oリング
10 ネジ
11 光源
12 リード線
13 電源
14 信号線
15 光検出器
16 演算機
17 電流計
18 ヒータ
19 ケーブル

Claims (9)

  1. 弁体と、前記弁体を駆動する弁棒とを有するゲートバルブにおいて、
    前記弁体は、その少なくとも一部に設けられた透明部材と、前記透明部材の表面に形成した光触媒膜と、前記光触媒膜に光を照射する光源とを設けたことを特徴とする光触媒被覆ゲートバルブ。
  2. 前記透明部材は、前記光源から照射される紫外線から可視光線の全てまたは一部の光を透過するものであることを特徴とする請求項1記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  3. 前記光源は、面発光体であることを特徴とする請求項1記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  4. 前記弁体は、その内部に前記光源用の電源を備えていることを特徴とする請求項1記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  5. 前記弁体の透明部材と隙間を介して対向する固定部材に前記光触媒膜を透過した照射光を検出する光検出器を設けたことを特徴とする請求項1記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  6. 前記固定部材が、前記弁体を支持する弁箱または真空容器であることを特徴とする請求項5記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  7. 前記光検出器の出力を入力し前記光源の強さを制御する演算器を設けたことを特徴とする請求項5記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  8. 前記光源に供給される電流値を検出しその程度により前記光源の寿命を監視する電流計を設けたことを特徴とする請求項1または5記載の光触媒被覆ゲートバルブ。
  9. 請求項1から8のいずれかに記載の光触媒被覆ゲートバルブを用いて構成したことを特徴とする真空処理装置。
JP2005238831A 2005-08-19 2005-08-19 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置 Expired - Fee Related JP4631597B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005238831A JP4631597B2 (ja) 2005-08-19 2005-08-19 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005238831A JP4631597B2 (ja) 2005-08-19 2005-08-19 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007051743A JP2007051743A (ja) 2007-03-01
JP4631597B2 true JP4631597B2 (ja) 2011-02-16

Family

ID=37916320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005238831A Expired - Fee Related JP4631597B2 (ja) 2005-08-19 2005-08-19 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4631597B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101442775B1 (ko) * 2008-04-14 2014-09-23 주성엔지니어링(주) 분리형 블레이드 및 이를 포함하는 슬롯밸브
AT12957U1 (de) * 2011-09-14 2013-02-15 Vat Holding Ag Ventil, insbesondere Vakuumventil
CN114729701A (zh) * 2020-02-04 2022-07-08 株式会社国际电气 控制阀、基板处理装置及半导体器件的制造方法
KR20230136954A (ko) * 2022-03-21 2023-10-04 주식회사 아스트로텍 진공 게이트 밸브 및 이를 구비하는 진공 시스템

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11227940A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Ebara Corp 基材又は基板用収納容器
JP2000051332A (ja) * 1998-08-03 2000-02-22 Daikin Ind Ltd 空気清浄機
JP2001004505A (ja) * 1999-06-22 2001-01-12 Sumitomo Metal Ind Ltd ゲートバルブ,それを備える試料処理装置及び試料処理方法
JP2002106726A (ja) * 2000-09-28 2002-04-10 Isuzu Ceramics Res Inst Co Ltd 水栓バルブ
JP2005249025A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Yaskawa Electric Corp 光触媒被覆ゲートバルブ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11227940A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Ebara Corp 基材又は基板用収納容器
JP2000051332A (ja) * 1998-08-03 2000-02-22 Daikin Ind Ltd 空気清浄機
JP2001004505A (ja) * 1999-06-22 2001-01-12 Sumitomo Metal Ind Ltd ゲートバルブ,それを備える試料処理装置及び試料処理方法
JP2002106726A (ja) * 2000-09-28 2002-04-10 Isuzu Ceramics Res Inst Co Ltd 水栓バルブ
JP2005249025A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Yaskawa Electric Corp 光触媒被覆ゲートバルブ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007051743A (ja) 2007-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI390552B (zh) Excimer lamp device
JP4631597B2 (ja) 光触媒被覆ゲートバルブおよびこれを備えた真空処理装置
EP2288578B1 (en) Photochemical reactor and photochemical processing system
JP6142797B2 (ja) 光照射装置
JP5258241B2 (ja) Uv照射チャンバーをクリーニングする方法
TWI532966B (zh) 具有多個紫外線-燈之紫外線光源及使用紫外光對產品進行技術處理的裝置
JP5408499B2 (ja) 光照射装置
TWI710528B (zh) 水處理裝置
JP2008251913A (ja) 耐紫外線材料、ならびにこれを用いたシール部材、緩衝部材、遮光部材、光源装置、及び処理装置
JP4666205B2 (ja) ゲートバルブおよびそれを備えた真空チャンバ
JP5003976B2 (ja) オゾン分解装置及びプロセスシステム
JP4280922B2 (ja) 光触媒被覆ゲートバルブ
KR101553735B1 (ko) 광 조사 장치
JP4045682B2 (ja) 紫外線照射による基板処理装置
CN102476110A (zh) 一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置
JP2015122341A (ja) レーザ装置
JP2009202138A (ja) 紫外線照射装置
US20090289552A1 (en) Ultraviolet lamp system with cooling air filter
JP2003144912A (ja) 紫外線照射装置及びその運用方法
KR20160125684A (ko) 오존생성장치 세정시스템
JP2010118370A (ja) エキシマ照射装置
KR101068127B1 (ko) 엑시머 자외선을 이용한 세정장치
JP2001217216A (ja) 紫外線照射方法及び装置
JP2008246450A (ja) ドライ洗浄装置及びドライ洗浄方法
KR20100076371A (ko) 수처리용 펄스 자외선 램프 고정장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100908

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100916

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100930

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101019

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101101

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141126

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees