JP5003976B2 - オゾン分解装置及びプロセスシステム - Google Patents
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Description
O(1D)は励起状態の原子状酸素を表し、非常に酸化力が強い反面、生成後すぐにオゾンと再結合し酸素分子になりやすい。実施形態1〜3に係るオゾン分解装置の光源にはこの波長帯を含むものを用いる。また、対象オゾンガス濃度は、0.1%から〜100%とする。
初めに本実施形態に係るオゾン分解装置14を評価するための装置構成及びオゾン処理を行うときのプロセスシステム1とオゾン分解装置14との関係を示す。次に、オゾン分解装置14の概要を説明し、動作結果について述べる。本実施例は光励起オゾン酸化にオゾン濃度計を用いた系においてSi基板を酸化する例である。
I:透過検出強度(波長254nm),I0:入射光照度,D:光路長,σ0:吸収断面積(σ0=1.1×10-17[cm2]),n:オゾン数密度
予め濃度が分かっているオゾンガスを校正用として用い、nを変えてIとI0の関係を調べておく。このIとI0の関係を用いて、濃度が分からないオゾンガスのI0を測定することでこのオゾンガスのnを求めることができる。オゾン濃度(%)はオゾン数密度nと圧力計32の圧力値に基づく算出される。
本実施形態では、実施形態1で得られた光分解に関する知見を考慮し、実施形態1に係る光分解式のオゾン分解装置の改良型を提供する。ここで本実施形態のオゾン分解装置の設計に反映させる実施形態1から得られた光分解式に関する知見は以下の通りである。
実施形態3に係るオゾン分解装置3は実施形態2に係るオゾン分解装置2を改良したものである。オゾン分解装置2は実施形態1で得られた光分解の特性を考慮したものであるのに対し、オゾン分解装置3は構造の単純化、メンテナンス等を考慮したより実用的なものとなっている。
本実施形態では、実施形態1で得られた光分解に関する知見を考慮し、実施形態1に係る光分解式のオゾン分解装置の改良型を提供する。ここで本実施形態のオゾン分解装置の設計に反映させる実施形態1から得られた光分解式に関する知見は以下の通りである。
本実施形態では、実施形態1で得られた光分解に関する知見を考慮し、実施形態1に係る光分解式のオゾン分解装置の改良型を提供する。ここで本実施形態のオゾン分解装置の設計に反映させる実施形態1から得られた光分解式に関する知見は以下の通りである。
図12(a)は実施形態6に係るオゾン分解装置6の構成を示した概略断面図である。図12(b)はオゾン分解装置6のA−A断面図である。図12(c)はオゾン分解装置6のB−B断面図である。
図13(a)は実施形態7に係るオゾン分解装置7の構成を示した概略断面図である。図13(b)はオゾン分解装置7のA−A断面図である。
図14(a)は発明の実施形態8に係るオゾン分解装置8の構成を示した概略断面図である。図14(b)はオゾン分解装置のA−A断面図である。図14(c)はオゾン分解装置のB−B断面図。
14,2,3,4,5,6,7,8…オゾン分解装置
41,51,61,71,81,91,101,111…筐体
43,56,66,73,74,86,96,106,116…紫外光光源
44,53,54a,54b,76…光透過管(光透過部材)、76a,76b…管部
46,77,84,94,104,114…ガス流迂回板(ガス流迂回部材)
63,64a,64b,83,93,103,113…光透過板(光透過部材)
Claims (8)
- オゾンガスを流通させるガス流路と、
このガス流路内のオゾンガスのガス流に対して紫外光を透過させる光透過部材と、
前記ガス流を迂回させるガス流迂回部材と
を備え、
前記光透過部材は円筒状を成し、この部材は前記紫外光を照射する光源を格納する円筒状の筐体内に同軸に格納され、
前記ガス流迂回部材は前記ガス流路内に複数配置され、
前記筐体の内面は鏡面処理されたこと
を特徴とするオゾン分解装置。 - 前記光透過部材は円筒状の管体を成し、この管体の下流側管部に照射される紫外光の照度は当該管体の上流側管部に照射される紫外光よりも高く制御されること
を特徴とする請求項1に記載のオゾン分解装置。 - 前記管体は異径配管を成しこの配管の下流側配管部は上流側配管部よりも大径であること
を特徴とする請求項2に記載のオゾン分解装置。 - 前記下流側配管部での紫外光の配管軸方向の照射幅は前記上流側配管部での紫外光の配管軸方向の照射幅よりも短く設定されたこと
を特徴とする請求項3に記載のオゾン分解装置。 - 前記ガス流迂回部材は円板状を成しその主面が前記ガス流路の軸と垂直となるように当該ガス流路内に配置されたこと
を特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のオゾン分解装置。 - 前記ガス流路の内圧は1000Pa以下であること
を特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のオゾン分解装置。 - 200nm以下の波長帯域の光を前記オゾンガスのガス流に照射させない光遮蔽板を備えたこと
を特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のオゾン分解装置。 - オゾンガスを用いて基板の酸化処理を行うプロセスシステムにおいて、
前記基板の酸化処理に供したオゾンガスが供給される請求項1から7のいずれか1項に記載のオゾン分解装置を備えたことを特徴とするプロセスシステム。
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