JP4631129B2 - テトラブロモビスフェノールａの連続晶析方法 - Google Patents
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- C07C37/84—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by crystallisation
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は合成樹脂用難燃剤として広く使用されているテトラブロモビスフェノールＡ（以下、ＴＢＡと記す。）の晶析方法に関する。詳しくは、ＴＢＡのメタノール溶液から連続法にて高品質のＴＢＡ結晶を取得する効果的、効率的な晶析方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＴＢＡは通常、低級アルキルアルコール、ハロゲン化炭化水素等の有機溶媒を用いて、ビスフェノールＡと臭素との反応により製造される。この時、取り扱いが容易で、特に不純物の生成が比較的少ないことから、工業的溶媒としてメタノールが選ばれ、また臭素は理論量に対し若干過剰に用いられる。そして、通常、メタノール溶液中のＴＢＡは、この溶液に貧溶媒である水等を添加することにより、結晶として得られる。
【０００３】
このようなＴＢＡの製造方法としては、例えば、特公昭４１−３３７６号公報には、好適なアルコールとしてメタノールを用い、該メタノール溶液中のビスフェノールＡに対して理論量以上の臭素を反応させ、次いで反応液の温度を高め、副生する臭化水素と残留臭素をメタノールと反応させ臭化メチルとして蒸留回収した後、ＴＢＡのメタノール溶液に水を添加する回分式でＴＢＡ結晶を晶析させる方法が開示されている。
【０００４】
また、特公昭５３−２０４９４号公報にも、メタノール溶媒中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液の温度を高め、残留臭素を臭化水素と共に臭化メチルとして回収する方法が開示されている。そしてこの方法では、ＴＢＡのメタノール溶液に硫酸を添加する回分式で、ＴＢＡ結晶を晶析させる。硫酸を添加すると、水添加と比較して着色が少ないＴＢＡ結晶が得られると述べられている。
【０００５】
さらに、特開平２−２７０８３３号公報には、メタノール溶液中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液を加温して残留臭素を臭化メチルとして回収、さらに回収できなかった残留臭素を亜硫酸ナトリウムで還元した後、水添加等の常法でＴＢＡを晶析させる方法が開示されている。
【０００６】
これらの方法はいずれも過剰臭素を溶媒であるメタノールと反応させ臭化メチルとして回収している。この臭化メチルは、かつては有用な副産物で燻蒸剤等として利用されたが、近年オゾン層破壊の原因物質とされ、その生成の回避が望まれている。また、いずれの方法においても、ＴＢＡの晶析は、そのメタノール溶液に水又は硫酸を添加する回分式であり、その生産効率は低く、結晶品質も十分でない。
【０００７】
臭化メチルを併産しない方法としては、例えば、特開平２−１９６７４７号公報には、メタノール溶液中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液の残留臭素をヒドラジン水溶液を用いて臭化水素に還元した後、水を添加して回分式でＴＢＡ結晶を晶析させる方法が開示されている。この方法は臭化メチルを併産することが無く、地球環境上好ましい方法と言える。また、ヒドラジンによって残留臭素を完全に還元でき臭化水素に変換できる。しかしながら、水添加によるＴＢＡ晶析は、回分式であり生産効率が低く、その品質も十分でない。
【０００８】
また、特開平３−２４６２４５号公報には、ビスフェノールＡの臭素化反応液をヒドラジン水溶液で還元処理後、生成したＴＢＡのメタノール溶液に回分式で水添加による晶析を−１５〜１５℃の温度で実施することにより、加水分解性臭素及び無機臭素イオン含量の低減されたＴＢＡ結晶が得られると開示されている。しかしながら、この方法も回分式であることから生産効率が低く、又、低温晶析である為、得られる結晶は微細で、濾過、洗浄負荷が大きくなる。
【０００９】
特開平４−９３４６号公報に記載の方法も、前記特開平３−２４６２４５号公報に記載の方法と基本的には同じであるが、晶析工程での添加水量が、反応溶媒に対して３０〜１００重量％であり、且つ晶析水の滴下速度が反応溶媒に対して５〜４０重量％／時間である時、不純物である加水分解性臭素及び無機臭素イオン含量が低減されたＴＢＡ結晶が得られると開示している。しかしながら、この方法も回分式であり、生産効率が低く、又、回収率が低い問題を抱えている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、臭化メチルを併産しない方法は既に提案されているが、ＴＢＡ結晶を回収する方法はいずれも、ＴＢＡメタノール溶液に水又は硫酸を添加する回分式であり、生産効率は低く、また得られるＴＢＡ結晶の品質は十分でなかった。このため、貧溶媒であり、取り扱いが容易な水を用いて、ＴＢＡのメタノール溶液から効果的、効率的に高品位のＴＢＡを晶析させる方法が強く望まれている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するため、特にＴＢＡのメタノール溶液から水を用いてＴＢＡ結晶を析出させる方法について、鋭意検討した。
【００１２】
その結果、ＴＢＡのメタノール溶液と水による連続二段法でＴＢＡを晶析させることにより、これまでの問題点をすべて解決できるという、実に驚くべき新事実を見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１３】
即ち、本発明は、ＴＢＡのメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部が析出したスラリーを得、次いで該スラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、ＴＢＡを実質的に全量析出させることを特徴とするＴＢＡの連続晶析方法である。
【００１４】
以下本発明をさらに詳細に説明する。
【００１５】
本発明の方法において、ＴＢＡのメタノール溶液とは、ＴＢＡとメタノールを含有する溶液であり、その組成は特に限定しない。通常、ＴＢＡが１０〜３０重量％、メタノールが７０〜９０重量％である。ＴＢＡとメタノール以外に少量の水や臭素化有機物を含んでもよい。
【００１６】
本発明の方法において、ＴＢＡのメタノール溶液としては、ビスフェノールＡ（以後、ＢＰＡと記す。）をメタノール系溶媒中で臭素を用いて臭素化し、そして過剰臭素をヒドラジン等の還元剤で処理した液がより好ましい対象となる。ここで、メタノール系溶媒とは、メタノールを主成分とする溶媒を意味し、水等の臭素化反応に直接関与しない成分を含んでいてもよい。具体的には例えば、メタノール溶媒や、１５重量％以下の水を含有するメタノール水溶液が挙げられ、これにＢＰＡを溶解し、化学量論以上の臭素を加え反応させ、ＴＢＡを生成させる。なお、水の含有量が１５重量％を越えると臭素化反応の途中で、生成したＴＢＡの一部が結晶として析出し、この時臭素を取り込み結晶が着色する場合がある。反応溶媒中のＢＰＡの濃度は、特に限定するものではあいが、通常５〜３０重量％程度で実施される。臭素化反応温度は通常３０℃以下であり、また反応に使用される臭素量は、通常ＢＰＡに対して４〜５（モル比）であり、好ましくは４．１〜４．５（モル比）である。この反応液には過剰臭素が含まれるため、通常、ヒドラジン、ヒドロキシアミン等の窒素系還元剤、硫化物、水硫化物、イオウ、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、亜二チオン酸塩、亜硫酸ガス等のイオウ系還元剤、ナトリウムボロハイドライド等の水素化物等の還元剤で処理され、過剰臭素は臭化水素に転化される。これらの還元剤は単独でも二種以上混合して使用してもよく、また水溶液として使用してもよい。好ましい還元剤は、還元力が強く、少量で済み、ＴＢＡ結晶の析出が無いものであり、具体的にはヒドラジンが例示される。還元後の代表的な組成は、ＴＢＡ １０〜２５重量％、トリブロモビスフェノールＡ ０．５〜１重量％、臭化水素酸 ５〜１５重量％、水 ０〜７重量％、メタノール ５２〜８４重量％である。また副反応生成物としてトリブロモフェノール等も少量含まれる。
【００１７】
次に本発明の方法は、ＴＢＡのメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部が晶析したスラリーを得ることを必須とする。
【００１８】
本発明の方法において水は、ＴＢＡの晶析に対して貧溶媒として作用し、その添加量によりメタノールに溶解しているＴＢＡの析出量を調節できる。水の添加量が多い場合はＴＢＡ結晶の析出率が増すものの、結晶成長は低下し、その粒径は小さく、また結晶の純度がやや低下する。一方、水の添加量が少ない場合、ＴＢＡの結晶成長は向上し、２００μｍ以上の単一結晶が容易に得られ、また、その結晶純度は向上するものの、ＴＢＡ結晶の析出率が低くなる。水の添加量は、晶析槽内の母液の水分濃度に対応し、この水分濃度を基に設定するのが好ましい。なお、本発明において母液とは、晶析スラリー中の液相部分を意味する。
【００１９】
当然のことながら母液中の水分濃度は、ＴＢＡのメタノール溶液中の水分にも関係する。母液中の水分濃度は、この第１晶析槽でのＴＢＡの晶析率を調節する最大の因子である。第１晶析槽でのＴＢＡ晶析率は７０〜９５％に制御することが望ましく、そのためには、母液中の水分濃度は１２〜３５重量％に制御することが好ましい。なお、本発明において晶析率とは、ＴＢＡのメタノール溶液中の溶解ＴＢＡ量に対する析出ＴＢＡ結晶の割合をいう。ＴＢＡ結晶の晶析率は、水の添加量と母液水分濃度、母液ＴＢＡ濃度の測定により容易に求められる。
【００２０】
ＴＢＡ晶析率が７０〜９５重量％の範囲内では、単一結晶であり、かつ１００〜４００μｍの高純度のＴＢＡ結晶が容易に得られる。この結晶は次の第２晶析槽で種晶として働き、新しい核発生を抑制し、より成長した高品質のＴＢＡ結晶が高い回収率で得られることになる。母液中の水分濃度が低く、ＴＢＡ晶析率が７０％よりも低くなると、第２晶析槽での晶析負荷が増し、また結晶粒径が過大になり、第２晶析槽で微結晶や凝集晶が発生し、濾過性の低下、純度の低下につながる。逆に母液中の水分濃度が高く、ＴＢＡ晶析率が９５％よりも高くなると、得られる結晶は微細で凝集性が強く、純度が低下することになる。ただしこのＴＢＡ晶析率は、母液中の水分濃度以外にＴＢＡのメタノール溶液の組成や晶析濾液の組成にも関係するため、母液中の水分濃度のみで一義的に決定することは難しい。
【００２１】
また本発明の方法においては、ＴＢＡのメタノール溶液に臭素が含まれていても構わない。この場合、ＴＢＡのメタノール溶液、水及び還元剤を各々別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡ結晶の一部を析出させる。
【００２２】
ここでいう還元剤とは、臭素を臭化水素に還元できるものであれば特に限定されず、例えば、ヒドラジン、ヒドロキシアミン等の窒素系還元剤、硫化物、水硫化物、イオウ、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、亜二チオン酸塩、亜硫酸ガス等のイオウ系還元剤、ナトリウムボロハイドライド等の水素化物等が挙げられる。これら還元剤は、単独又は二種以上混合して使用してもよく、また水溶液として使用してもよい。これらの還元剤のうち、臭素との反応性、析出するＴＢＡ結晶の品質、入手のし易さ、操作性、そして経済性から、好ましくは、ヒドラジン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウム及び亜硫酸ガスからなる群より選ばれる少なくとも一種である。これらの還元力は強く、速やかに残留臭素を臭化水素に還元できる。使用する還元剤の濃度について特に限定はなく、飽和水溶液でも希薄水溶液でもよく、亜硫酸ガスではそのままガス状で導入してもよい。
【００２３】
還元剤の添加量は、ＴＢＡのメタノール溶液中の残留臭素に対して若干還元当量以下、例えば、０．９５倍還元当量程度でも構わないが、残留臭素を完全に臭化水素に転化でき、より高品質のＴＢＡ結晶を得ることができるため、還元当量以上であることが好ましい。より好ましい添加量は１．０５〜１．３０倍還元当量である。
【００２４】
還元剤添加量の調節は定量ポンプで行ってもよいが、ＴＢＡ晶析時の母液の酸化還元電位で制御してもよく、この場合、運転操作が容易で、その精度が高くなるため、より好ましい方法である。酸化還元電位による制御では、６００ｍＶ（ｖｓ ＳＣＥ）以下が好ましい。６００ｍＶ以下では母液中に臭素は存在せず、完全に臭化水素に転化でき、また析出した結晶に臭素は取り込まれず、高品質のＴＢＡ結晶を得ることができる。還元剤投入量が残留臭素の還元当量未満である場合、６００ｍＶより高い酸化還元電位を示し、臭素が一部未還元で残り、その一部がＴＢＡ結晶に移行し、品質がやや低下する。還元剤の添加量が多くても、ＴＢＡ結晶品質に特に問題はないが、経済性が低下する。好ましい還元剤添加量は前記したとおり１．０５〜１．３０倍当量であり、酸化還元電位にして約５５０〜約４００ｍＶである。本発明において、酸化還元電位の測定方法としては、特に限定するものではないが、例えば、白金や金電極と比較電極の組み合わせや、それらが組み合わさった複合電極等、一般的に用いられる酸化還元電極を用いて測定すればよい。
【００２５】
ＴＢＡのメタノール溶液に臭素が含まれている場合、水の添加は、ＴＢＡのメタノール溶液や還元剤とは別に行うが、その一部又は全部を予めＴＢＡのメタノール溶液や還元剤に加えておくこともできる。ＴＢＡのメタノール溶液に加える場合は、ＴＢＡ結晶が析出しない範囲であればよく、また還元剤が水溶性のときには、これに全量加えてもよい。
【００２６】
添加する水分量は、前述のＴＢＡメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給する場合と同様、該第１晶析槽でのＴＢＡ晶析率を調節する最大の因子であり、母液中の水分濃度で管理できる。ここでのＴＢＡ晶析率は７０〜９５％に制御することが望ましく、そのためには母液中の水分濃度は１２〜３５重量％に制御することが好ましい。ＴＢＡ晶析率は７０〜９５％にすると、単一結晶で１００〜４００μｍの高純度のＴＢＡ結晶が容易に得られる。
【００２７】
以下、ＴＢＡのメタノール溶液と水、又はＴＢＡのメタノール溶液、水及び還元剤を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部の晶析を行う場合の諸条件について示す。
【００２８】
晶析温度は、特に限定しないが、１０〜４０℃が好ましく、２０〜３５℃が特に好ましい。低温では結晶の成長性が低下し、結晶粒径が小さくなる。そしてＴＢＡ結晶の濾過性が悪化し、濾過時間の延長、結晶洗浄効率の低下（品質の低下）などを招く。一方、高温では結晶の成長性は大きいものの、メタノールの蒸発、メタノールと臭化水素との反応による臭化メチルの生成、また還元剤を用いる場合、ＳＯ2等の還元ガスの揮散などの課題がある。
【００２９】
晶析時の攪拌は、ＴＢＡスラリーを均一流動できる強度でよく、特に制限はない。
【００３０】
またスラリーの滞在時間は、通常０．５〜１０時間、好ましくは１〜５時間である。短いと生産性は大きくなるが、結晶成長は低下し、微細結晶、さらには凝集結晶が生成しやすくなる。滞在時間が長いと結晶成長はよく、粒径の大きい、ＴＢＡ結晶が得られる。しかし、５時間以上では、結晶成長の向上は殆どなくなり、むしろ生産性の低下、装置の大型化につながり、工業的に有利でない。
【００３１】
第１晶析槽でＴＢＡの一部を晶析させて得たＴＢＡスラリーは、連続的に抜き出してもよいし、また晶析槽が一杯になった後、全量又は一部を抜き出してもよい。前者は、連続導入・連続抜き出しの形式となり、後者は連続導入・間欠抜き出し（半回分式）の形式となる。運転操作性、生産性からは前者が好ましい。
【００３２】
こうして第１晶析槽では、単一結晶で１００〜４００μｍのＴＢＡ結晶が効率よく得られる。この結晶は純度が高く、合成樹脂用難燃剤としてその低減が要求されるアルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素等を殆ど含まない。しかしながら、ＴＢＡの晶析率が高くない。これは、次の第２晶析によって補うことができる。
【００３３】
即ち、本発明の方法は、第１晶析槽で得られたＴＢＡスラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、ＴＢＡを実質的に全量析出させることを必須とする。
【００３４】
本発明の方法において、実質的に全量析出とは、工業的に実施可能な晶析率であり、第１晶析槽に供給するＴＢＡに対して９７％以上、好ましくは９９％以上、さらに好ましくは９９．０〜９９．９％の晶析率であることをいう。この晶析率は主に添加水量、即ち母液中の水分濃度で調節できる。水分濃度を高くすれば晶析率を高く、水分濃度を低くすれば、晶析率を低くすることができる。晶析率９９．０〜９９．９％にするための水分濃度は通常４０〜６０重量％である。晶析率が低いと第２晶析槽でのＴＢＡ結晶の成長はよく、核発生はないが、回収率が低く経済性にやや劣る。晶析率が高いと回収率はよく、経済性に優れるが、ＴＢＡの結晶成長は低下し、核発生による微結晶や凝集結晶の生成につながる。なお、ＴＢＡ結晶の晶析率は、水の添加量と母液水分濃度、母液ＴＢＡ濃度の測定により容易に求められる。
【００３５】
本発明の方法において第２晶析槽での晶析温度は、第１晶析槽の場合と同じ理由により、通常１０〜４０℃、好ましくは２０〜４０℃であり、さらには２０〜３０℃が特に好ましい。
【００３６】
晶析槽の攪拌も同様、ＴＢＡスラリーを均一流動できる強度であればよい。
【００３７】
またスラリーの滞在時間は、通常０．３〜５時間、望ましくは０．５〜２時間である。第２晶析槽でのＴＢＡ結晶の析出量は、第１晶析槽のそれと比べて少なく、またＴＢＡ結晶量は多いので（結晶表面積 大）滞在時間は短くても、核発生は防げ、第１晶析槽から供給されるＴＢＡ結晶の成長が図れる。また滞在時間が短いと不純物の取り込みが抑制でき、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素を低く抑えることができる。これも、本発明者らがはじめて見出した重要な知見である。滞在時間が短すぎると微結晶や凝集結晶の生成、滞在時間が長すぎると装置の大型化のみならず、かえって品質低下につながる。
【００３８】
晶析形式も第１晶析槽と同様、ＴＢＡスラリーと水の連続導入・ＴＢＡスラリーの連続抜き出しでも、連続導入・間欠抜き出し（半回分式）のいずれでもよい。運転操作性、生産性、そして結晶純度から前者が好ましい。
【００３９】
晶析槽の形式は、第１晶析槽、第２晶析槽とも完全混合式、ドラフトチューブ式、分級式、いずれも適用できる。
【００４０】
また本発明の方法において、さらに第３以上の晶析槽を設け、さらに晶析率を高めてもよく、第１、第２、さらに第３以上の晶析槽で適宜晶析率を配分してもよい。
【００４１】
こうして、単一結晶で１００〜４００μｍの高純度ＴＢＡ結晶が高収率で得られる。
【００４２】
このＴＢＡ結晶のスラリーは遠心濾過機、加圧濾過機等で固液分離し、ＴＢＡ湿ケークと濾液を得る。ＴＢＡ結晶の破砕抑制、結晶の洗浄性向上等から遠心濾過機を用いるのが好ましい。また、ＴＢＡ湿ケークはメタノールと水の混合溶液で洗浄するのが好ましく、ＴＢＡ結晶の溶解を抑制しつつ、付着母液を十分除くことができる。その後、通常の方法、例えば通気乾燥、減圧乾燥等を行いＴＢＡ製品を得る。
【００４３】
【実施例】
以下に本発明の方法を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４４】
ＴＢＡ結晶の評価法
（１）アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ
ＴＢＡ結晶１７ｇを１．５Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液８０ｍｌに溶解し、３０℃で１５分間撹拌、これをＡＰＨＡ基準比色法（ＪＩＳ−Ｋ６７２７）に準拠し、吸光光度計を用いて測定した。
【００４５】
（２）加水分解性臭素
ＴＢＡ結晶を０．１Ｎ−水酸化カリウム・メタノール溶液に溶解し、７０℃で１５分間加熱した時に脱離する臭素イオン量を硝酸銀水溶液にて電位差滴定し、この値から遊離の臭素イオン量（無機臭素イオン量（注１）とも言い、別に求める）を差し引き、ＴＢＡの重量に対するｐｐｍで表した。
【００４６】
（注１）無機臭素イオン量：ＴＢＡをアセトンに溶解し、遊離の臭素イオンを硝酸銀水溶液にて電位差滴定し、ＴＢＡの重量に対するｐｐｍで表したもの。
【００４７】
（３）結晶純度
ＴＢＡ結晶をアセトニトリルに溶解し、ＨＰＬＣにおいて逆相カラムを用いて分離、紫外検出器にて各ピークの面積比より算出した。
【００４８】
参考例 ＴＢＡのメタノール溶液の調製
攪拌翼、温度計を設置し、ジャケット及び抜き出し口付き３Ｌセパラブルフラスコの液温を１５℃に保ちながら、１２％ＢＰＡのメタノール溶液（水３．５％を含む）を２８０ｇ／Ｈｒ、臭素を１００ｇ／Ｈｒで連続フィードした。そして液量を２．３ｋｇに調節しながら反応液を抜き出し口から連続的に抜き出した（なお、この溶液を実施例２で使用した）。反応液中の過剰臭素をヒドラジンで還元後、ＴＢＡメタノール溶液を得、これを実施例１〜実施例７、比較例１に供した。ヒドラジン還元後のＴＢＡメタノール溶液の組成は、ＴＢＡ ２０．１％、トリブロモビスフェノールＡ ０．５％、臭化水素酸 １４．２％、水 ２．７％、メタノール６２．５％であった。
【００４９】
実施例１
温度計、撹拌翼、冷却管、ジャケット及び抜き出し口付き、３Ｌガラス製晶析槽（第１晶析槽）及び１Ｌガラス製晶析槽（第２晶析槽）にそれぞれ、ＴＢＡのメタノール溶液をそれぞれ２０３１ｇ及び１０３９ｇ張り込み、撹拌し液温が３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。第１晶析槽の３Ｌガラス製晶析槽に、前記ＴＢＡメタノール溶液を毎時６００ｇ、水を毎時７７ｇで連続導入した。導入量と同量のＴＢＡスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し、第２晶析槽である１Ｌガラス製晶析槽に導入した。また第２晶析槽には水を毎時３６２ｇで連続導入し、第１晶析槽と同様、導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出した。１２時間の連続運転後、抜き出したスラリーを固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ３．００時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．０％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１６．３重量％及び５４．５重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ２４、加水分解性臭素１０ｐｐｍ、平均粒径２５０ミクロンの単一結晶であった。
【００５０】
実施例２
温度計、撹拌翼、冷却管、酸化還元電極を設置し、ジャケット及び抜き出し口を備えた３Ｌガラス製晶析槽（第１晶析槽）及び１Ｌガラス製晶析槽（第２晶析槽）にそれぞれ、ＴＢＡメタノール溶液をそれぞれ２０３１ｇ及び１０３９ｇ張り込み、撹拌し液温が３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。第１晶析槽の３Ｌガラス製晶析槽に、前記ＴＢＡメタノールの反応液（過剰臭素を含む）を毎時６００ｇ、水を毎時１８ｇ、１４％亜硫酸ナトリウム水溶液を毎時６９ｇ（臭素に対して１．０７当量）で連続導入した。導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し、第２晶析槽の１Ｌガラス製晶析槽に導入した。また第２晶析槽には水を毎時３６２ｇで連続導入し、第１晶析槽と同様、導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出した。第１晶析槽内の酸化還元電位は４７０〜４８０ｍＶ（ｖｓＳＣＥ）を示していた。１２時間の連続運転後、抜き出したスラリーを固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ３．０時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．０％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．３重量％及び５４．３重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ２６、加水分解性臭素１９ｐｐｍ、平均粒径２５０ミクロンの単一結晶であった。
【００５１】
実施例３
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時８７０ｇ、水を毎時１１２ｇ、第２晶析槽には水を毎時５１８ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ２．１時間及び０．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．７％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．２重量％及び５５．５重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度１００％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ３１、加水分解性臭素１２ｐｐｍ、平均粒径２３０μｍの単一結晶であった。
【００５２】
実施例４
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時１０７１ｇ、水を毎時１２７ｇ、第２晶析槽には水を毎時６００ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．２時間及び０．８時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．１％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１７．３重量％及び５５．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ２９、加水分解性臭素１６ｐｐｍ、平均粒径２２０μｍの単一結晶であった。
【００５３】
実施例５
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時９３７ｇ、水を毎時５０ｇ、第２晶析槽には水を毎時２６３ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．９時間及び２．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８６．５％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１５．４重量％及び５５．０重量％であった。そして、こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ６５、加水分解性臭素５２ｐｐｍ、平均粒径２２０μｍの単一結晶であった。
【００５４】
実施例６
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時１３６６ｇ、水を毎時３０７ｇ、第２晶析槽には水を毎時８２７ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ０．５時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９０．０％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．３重量％及び５５．０重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ７５、加水分解性臭素７５ｐｐｍ、平均粒径２００μｍの単一結晶であった。
【００５５】
実施例７
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時７８２ｇ、水を毎時１７６ｇ、第２晶析槽には水を毎時４７４ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．０時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９５．１％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ３５．０重量％及び５４．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ６８、加水分解性臭素５５ｐｐｍ、平均粒径１８０μｍの単一結晶であった。
【００５６】
実施例８
実施例２と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノールの反応液を毎時６００ｇ、水を毎時３９ｇ、１４％亜硫酸ナトリウム水溶液を毎時６８ｇ（臭素に対して１．０５当量）、第２晶析槽には水を毎時３４０ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。第１晶析槽内の酸化還元電位は４７０〜５００ｍＶ（ｖｓ ＳＣＥ）を示していた。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ２．１時間及び０．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９２．０％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ２０．０重量％及び５４．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度１００％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ３４、加水分解性臭素２６ｐｐｍ、平均粒径２３０μｍの単一結晶であった。
【００５７】
比較例１
撹拌翼、冷却管、ジャケット及び抜き出し口付き、２Ｌガラス製晶析槽に前記ＴＢＡメタノール溶液を１６５４ｇ張り込み、撹拌し液温を３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。前記ＴＢＡメタノール溶液を毎時８８８ｇ、水を毎時７６６ｇで連続導入した。導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。滞在時間は１．０時間、晶析率は９９．７％、母液水分濃度は５０重量％であった。こうして得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ１００、加水分解性臭素１１７ｐｐｍ、平均粒径１００ミクロンの凝集晶であった。
【００５８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明に依れば、ＴＢＡのメタノール溶液から、効率的、効果的、且つ経済的にＴＢＡ結晶を晶析さえ得る。以下その効果を列記する。
【００５９】
（１）晶析を連続式で行なうことにより、プロセスがシンプルであり効率的である。
【００６０】
（２）得られるＴＢＡ結晶は、単一結晶で、１００〜４００μｍと大きく、その取り扱いは容易で高品質である。
【００６１】
（３）得られるＴＢＡ結晶は高品質であり、合成樹脂用難燃剤に要求されるアルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素が低減できる。
【００６２】
（４）汎用で安価な還元剤が使用でき、臭化メチルを併産せず環境にやさしく経済性が高い。
【発明の属する技術分野】
本発明は合成樹脂用難燃剤として広く使用されているテトラブロモビスフェノールＡ（以下、ＴＢＡと記す。）の晶析方法に関する。詳しくは、ＴＢＡのメタノール溶液から連続法にて高品質のＴＢＡ結晶を取得する効果的、効率的な晶析方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＴＢＡは通常、低級アルキルアルコール、ハロゲン化炭化水素等の有機溶媒を用いて、ビスフェノールＡと臭素との反応により製造される。この時、取り扱いが容易で、特に不純物の生成が比較的少ないことから、工業的溶媒としてメタノールが選ばれ、また臭素は理論量に対し若干過剰に用いられる。そして、通常、メタノール溶液中のＴＢＡは、この溶液に貧溶媒である水等を添加することにより、結晶として得られる。
【０００３】
このようなＴＢＡの製造方法としては、例えば、特公昭４１−３３７６号公報には、好適なアルコールとしてメタノールを用い、該メタノール溶液中のビスフェノールＡに対して理論量以上の臭素を反応させ、次いで反応液の温度を高め、副生する臭化水素と残留臭素をメタノールと反応させ臭化メチルとして蒸留回収した後、ＴＢＡのメタノール溶液に水を添加する回分式でＴＢＡ結晶を晶析させる方法が開示されている。
【０００４】
また、特公昭５３−２０４９４号公報にも、メタノール溶媒中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液の温度を高め、残留臭素を臭化水素と共に臭化メチルとして回収する方法が開示されている。そしてこの方法では、ＴＢＡのメタノール溶液に硫酸を添加する回分式で、ＴＢＡ結晶を晶析させる。硫酸を添加すると、水添加と比較して着色が少ないＴＢＡ結晶が得られると述べられている。
【０００５】
さらに、特開平２−２７０８３３号公報には、メタノール溶液中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液を加温して残留臭素を臭化メチルとして回収、さらに回収できなかった残留臭素を亜硫酸ナトリウムで還元した後、水添加等の常法でＴＢＡを晶析させる方法が開示されている。
【０００６】
これらの方法はいずれも過剰臭素を溶媒であるメタノールと反応させ臭化メチルとして回収している。この臭化メチルは、かつては有用な副産物で燻蒸剤等として利用されたが、近年オゾン層破壊の原因物質とされ、その生成の回避が望まれている。また、いずれの方法においても、ＴＢＡの晶析は、そのメタノール溶液に水又は硫酸を添加する回分式であり、その生産効率は低く、結晶品質も十分でない。
【０００７】
臭化メチルを併産しない方法としては、例えば、特開平２−１９６７４７号公報には、メタノール溶液中のビスフェノールＡを臭素化して得た反応液の残留臭素をヒドラジン水溶液を用いて臭化水素に還元した後、水を添加して回分式でＴＢＡ結晶を晶析させる方法が開示されている。この方法は臭化メチルを併産することが無く、地球環境上好ましい方法と言える。また、ヒドラジンによって残留臭素を完全に還元でき臭化水素に変換できる。しかしながら、水添加によるＴＢＡ晶析は、回分式であり生産効率が低く、その品質も十分でない。
【０００８】
また、特開平３−２４６２４５号公報には、ビスフェノールＡの臭素化反応液をヒドラジン水溶液で還元処理後、生成したＴＢＡのメタノール溶液に回分式で水添加による晶析を−１５〜１５℃の温度で実施することにより、加水分解性臭素及び無機臭素イオン含量の低減されたＴＢＡ結晶が得られると開示されている。しかしながら、この方法も回分式であることから生産効率が低く、又、低温晶析である為、得られる結晶は微細で、濾過、洗浄負荷が大きくなる。
【０００９】
特開平４−９３４６号公報に記載の方法も、前記特開平３−２４６２４５号公報に記載の方法と基本的には同じであるが、晶析工程での添加水量が、反応溶媒に対して３０〜１００重量％であり、且つ晶析水の滴下速度が反応溶媒に対して５〜４０重量％／時間である時、不純物である加水分解性臭素及び無機臭素イオン含量が低減されたＴＢＡ結晶が得られると開示している。しかしながら、この方法も回分式であり、生産効率が低く、又、回収率が低い問題を抱えている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、臭化メチルを併産しない方法は既に提案されているが、ＴＢＡ結晶を回収する方法はいずれも、ＴＢＡメタノール溶液に水又は硫酸を添加する回分式であり、生産効率は低く、また得られるＴＢＡ結晶の品質は十分でなかった。このため、貧溶媒であり、取り扱いが容易な水を用いて、ＴＢＡのメタノール溶液から効果的、効率的に高品位のＴＢＡを晶析させる方法が強く望まれている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するため、特にＴＢＡのメタノール溶液から水を用いてＴＢＡ結晶を析出させる方法について、鋭意検討した。
【００１２】
その結果、ＴＢＡのメタノール溶液と水による連続二段法でＴＢＡを晶析させることにより、これまでの問題点をすべて解決できるという、実に驚くべき新事実を見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１３】
即ち、本発明は、ＴＢＡのメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部が析出したスラリーを得、次いで該スラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、ＴＢＡを実質的に全量析出させることを特徴とするＴＢＡの連続晶析方法である。
【００１４】
以下本発明をさらに詳細に説明する。
【００１５】
本発明の方法において、ＴＢＡのメタノール溶液とは、ＴＢＡとメタノールを含有する溶液であり、その組成は特に限定しない。通常、ＴＢＡが１０〜３０重量％、メタノールが７０〜９０重量％である。ＴＢＡとメタノール以外に少量の水や臭素化有機物を含んでもよい。
【００１６】
本発明の方法において、ＴＢＡのメタノール溶液としては、ビスフェノールＡ（以後、ＢＰＡと記す。）をメタノール系溶媒中で臭素を用いて臭素化し、そして過剰臭素をヒドラジン等の還元剤で処理した液がより好ましい対象となる。ここで、メタノール系溶媒とは、メタノールを主成分とする溶媒を意味し、水等の臭素化反応に直接関与しない成分を含んでいてもよい。具体的には例えば、メタノール溶媒や、１５重量％以下の水を含有するメタノール水溶液が挙げられ、これにＢＰＡを溶解し、化学量論以上の臭素を加え反応させ、ＴＢＡを生成させる。なお、水の含有量が１５重量％を越えると臭素化反応の途中で、生成したＴＢＡの一部が結晶として析出し、この時臭素を取り込み結晶が着色する場合がある。反応溶媒中のＢＰＡの濃度は、特に限定するものではあいが、通常５〜３０重量％程度で実施される。臭素化反応温度は通常３０℃以下であり、また反応に使用される臭素量は、通常ＢＰＡに対して４〜５（モル比）であり、好ましくは４．１〜４．５（モル比）である。この反応液には過剰臭素が含まれるため、通常、ヒドラジン、ヒドロキシアミン等の窒素系還元剤、硫化物、水硫化物、イオウ、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、亜二チオン酸塩、亜硫酸ガス等のイオウ系還元剤、ナトリウムボロハイドライド等の水素化物等の還元剤で処理され、過剰臭素は臭化水素に転化される。これらの還元剤は単独でも二種以上混合して使用してもよく、また水溶液として使用してもよい。好ましい還元剤は、還元力が強く、少量で済み、ＴＢＡ結晶の析出が無いものであり、具体的にはヒドラジンが例示される。還元後の代表的な組成は、ＴＢＡ １０〜２５重量％、トリブロモビスフェノールＡ ０．５〜１重量％、臭化水素酸 ５〜１５重量％、水 ０〜７重量％、メタノール ５２〜８４重量％である。また副反応生成物としてトリブロモフェノール等も少量含まれる。
【００１７】
次に本発明の方法は、ＴＢＡのメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部が晶析したスラリーを得ることを必須とする。
【００１８】
本発明の方法において水は、ＴＢＡの晶析に対して貧溶媒として作用し、その添加量によりメタノールに溶解しているＴＢＡの析出量を調節できる。水の添加量が多い場合はＴＢＡ結晶の析出率が増すものの、結晶成長は低下し、その粒径は小さく、また結晶の純度がやや低下する。一方、水の添加量が少ない場合、ＴＢＡの結晶成長は向上し、２００μｍ以上の単一結晶が容易に得られ、また、その結晶純度は向上するものの、ＴＢＡ結晶の析出率が低くなる。水の添加量は、晶析槽内の母液の水分濃度に対応し、この水分濃度を基に設定するのが好ましい。なお、本発明において母液とは、晶析スラリー中の液相部分を意味する。
【００１９】
当然のことながら母液中の水分濃度は、ＴＢＡのメタノール溶液中の水分にも関係する。母液中の水分濃度は、この第１晶析槽でのＴＢＡの晶析率を調節する最大の因子である。第１晶析槽でのＴＢＡ晶析率は７０〜９５％に制御することが望ましく、そのためには、母液中の水分濃度は１２〜３５重量％に制御することが好ましい。なお、本発明において晶析率とは、ＴＢＡのメタノール溶液中の溶解ＴＢＡ量に対する析出ＴＢＡ結晶の割合をいう。ＴＢＡ結晶の晶析率は、水の添加量と母液水分濃度、母液ＴＢＡ濃度の測定により容易に求められる。
【００２０】
ＴＢＡ晶析率が７０〜９５重量％の範囲内では、単一結晶であり、かつ１００〜４００μｍの高純度のＴＢＡ結晶が容易に得られる。この結晶は次の第２晶析槽で種晶として働き、新しい核発生を抑制し、より成長した高品質のＴＢＡ結晶が高い回収率で得られることになる。母液中の水分濃度が低く、ＴＢＡ晶析率が７０％よりも低くなると、第２晶析槽での晶析負荷が増し、また結晶粒径が過大になり、第２晶析槽で微結晶や凝集晶が発生し、濾過性の低下、純度の低下につながる。逆に母液中の水分濃度が高く、ＴＢＡ晶析率が９５％よりも高くなると、得られる結晶は微細で凝集性が強く、純度が低下することになる。ただしこのＴＢＡ晶析率は、母液中の水分濃度以外にＴＢＡのメタノール溶液の組成や晶析濾液の組成にも関係するため、母液中の水分濃度のみで一義的に決定することは難しい。
【００２１】
また本発明の方法においては、ＴＢＡのメタノール溶液に臭素が含まれていても構わない。この場合、ＴＢＡのメタノール溶液、水及び還元剤を各々別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡ結晶の一部を析出させる。
【００２２】
ここでいう還元剤とは、臭素を臭化水素に還元できるものであれば特に限定されず、例えば、ヒドラジン、ヒドロキシアミン等の窒素系還元剤、硫化物、水硫化物、イオウ、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、亜二チオン酸塩、亜硫酸ガス等のイオウ系還元剤、ナトリウムボロハイドライド等の水素化物等が挙げられる。これら還元剤は、単独又は二種以上混合して使用してもよく、また水溶液として使用してもよい。これらの還元剤のうち、臭素との反応性、析出するＴＢＡ結晶の品質、入手のし易さ、操作性、そして経済性から、好ましくは、ヒドラジン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウム及び亜硫酸ガスからなる群より選ばれる少なくとも一種である。これらの還元力は強く、速やかに残留臭素を臭化水素に還元できる。使用する還元剤の濃度について特に限定はなく、飽和水溶液でも希薄水溶液でもよく、亜硫酸ガスではそのままガス状で導入してもよい。
【００２３】
還元剤の添加量は、ＴＢＡのメタノール溶液中の残留臭素に対して若干還元当量以下、例えば、０．９５倍還元当量程度でも構わないが、残留臭素を完全に臭化水素に転化でき、より高品質のＴＢＡ結晶を得ることができるため、還元当量以上であることが好ましい。より好ましい添加量は１．０５〜１．３０倍還元当量である。
【００２４】
還元剤添加量の調節は定量ポンプで行ってもよいが、ＴＢＡ晶析時の母液の酸化還元電位で制御してもよく、この場合、運転操作が容易で、その精度が高くなるため、より好ましい方法である。酸化還元電位による制御では、６００ｍＶ（ｖｓ ＳＣＥ）以下が好ましい。６００ｍＶ以下では母液中に臭素は存在せず、完全に臭化水素に転化でき、また析出した結晶に臭素は取り込まれず、高品質のＴＢＡ結晶を得ることができる。還元剤投入量が残留臭素の還元当量未満である場合、６００ｍＶより高い酸化還元電位を示し、臭素が一部未還元で残り、その一部がＴＢＡ結晶に移行し、品質がやや低下する。還元剤の添加量が多くても、ＴＢＡ結晶品質に特に問題はないが、経済性が低下する。好ましい還元剤添加量は前記したとおり１．０５〜１．３０倍当量であり、酸化還元電位にして約５５０〜約４００ｍＶである。本発明において、酸化還元電位の測定方法としては、特に限定するものではないが、例えば、白金や金電極と比較電極の組み合わせや、それらが組み合わさった複合電極等、一般的に用いられる酸化還元電極を用いて測定すればよい。
【００２５】
ＴＢＡのメタノール溶液に臭素が含まれている場合、水の添加は、ＴＢＡのメタノール溶液や還元剤とは別に行うが、その一部又は全部を予めＴＢＡのメタノール溶液や還元剤に加えておくこともできる。ＴＢＡのメタノール溶液に加える場合は、ＴＢＡ結晶が析出しない範囲であればよく、また還元剤が水溶性のときには、これに全量加えてもよい。
【００２６】
添加する水分量は、前述のＴＢＡメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給する場合と同様、該第１晶析槽でのＴＢＡ晶析率を調節する最大の因子であり、母液中の水分濃度で管理できる。ここでのＴＢＡ晶析率は７０〜９５％に制御することが望ましく、そのためには母液中の水分濃度は１２〜３５重量％に制御することが好ましい。ＴＢＡ晶析率は７０〜９５％にすると、単一結晶で１００〜４００μｍの高純度のＴＢＡ結晶が容易に得られる。
【００２７】
以下、ＴＢＡのメタノール溶液と水、又はＴＢＡのメタノール溶液、水及び還元剤を別々に連続して第１晶析槽に供給し、ＴＢＡの一部の晶析を行う場合の諸条件について示す。
【００２８】
晶析温度は、特に限定しないが、１０〜４０℃が好ましく、２０〜３５℃が特に好ましい。低温では結晶の成長性が低下し、結晶粒径が小さくなる。そしてＴＢＡ結晶の濾過性が悪化し、濾過時間の延長、結晶洗浄効率の低下（品質の低下）などを招く。一方、高温では結晶の成長性は大きいものの、メタノールの蒸発、メタノールと臭化水素との反応による臭化メチルの生成、また還元剤を用いる場合、ＳＯ2等の還元ガスの揮散などの課題がある。
【００２９】
晶析時の攪拌は、ＴＢＡスラリーを均一流動できる強度でよく、特に制限はない。
【００３０】
またスラリーの滞在時間は、通常０．５〜１０時間、好ましくは１〜５時間である。短いと生産性は大きくなるが、結晶成長は低下し、微細結晶、さらには凝集結晶が生成しやすくなる。滞在時間が長いと結晶成長はよく、粒径の大きい、ＴＢＡ結晶が得られる。しかし、５時間以上では、結晶成長の向上は殆どなくなり、むしろ生産性の低下、装置の大型化につながり、工業的に有利でない。
【００３１】
第１晶析槽でＴＢＡの一部を晶析させて得たＴＢＡスラリーは、連続的に抜き出してもよいし、また晶析槽が一杯になった後、全量又は一部を抜き出してもよい。前者は、連続導入・連続抜き出しの形式となり、後者は連続導入・間欠抜き出し（半回分式）の形式となる。運転操作性、生産性からは前者が好ましい。
【００３２】
こうして第１晶析槽では、単一結晶で１００〜４００μｍのＴＢＡ結晶が効率よく得られる。この結晶は純度が高く、合成樹脂用難燃剤としてその低減が要求されるアルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素等を殆ど含まない。しかしながら、ＴＢＡの晶析率が高くない。これは、次の第２晶析によって補うことができる。
【００３３】
即ち、本発明の方法は、第１晶析槽で得られたＴＢＡスラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、ＴＢＡを実質的に全量析出させることを必須とする。
【００３４】
本発明の方法において、実質的に全量析出とは、工業的に実施可能な晶析率であり、第１晶析槽に供給するＴＢＡに対して９７％以上、好ましくは９９％以上、さらに好ましくは９９．０〜９９．９％の晶析率であることをいう。この晶析率は主に添加水量、即ち母液中の水分濃度で調節できる。水分濃度を高くすれば晶析率を高く、水分濃度を低くすれば、晶析率を低くすることができる。晶析率９９．０〜９９．９％にするための水分濃度は通常４０〜６０重量％である。晶析率が低いと第２晶析槽でのＴＢＡ結晶の成長はよく、核発生はないが、回収率が低く経済性にやや劣る。晶析率が高いと回収率はよく、経済性に優れるが、ＴＢＡの結晶成長は低下し、核発生による微結晶や凝集結晶の生成につながる。なお、ＴＢＡ結晶の晶析率は、水の添加量と母液水分濃度、母液ＴＢＡ濃度の測定により容易に求められる。
【００３５】
本発明の方法において第２晶析槽での晶析温度は、第１晶析槽の場合と同じ理由により、通常１０〜４０℃、好ましくは２０〜４０℃であり、さらには２０〜３０℃が特に好ましい。
【００３６】
晶析槽の攪拌も同様、ＴＢＡスラリーを均一流動できる強度であればよい。
【００３７】
またスラリーの滞在時間は、通常０．３〜５時間、望ましくは０．５〜２時間である。第２晶析槽でのＴＢＡ結晶の析出量は、第１晶析槽のそれと比べて少なく、またＴＢＡ結晶量は多いので（結晶表面積 大）滞在時間は短くても、核発生は防げ、第１晶析槽から供給されるＴＢＡ結晶の成長が図れる。また滞在時間が短いと不純物の取り込みが抑制でき、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素を低く抑えることができる。これも、本発明者らがはじめて見出した重要な知見である。滞在時間が短すぎると微結晶や凝集結晶の生成、滞在時間が長すぎると装置の大型化のみならず、かえって品質低下につながる。
【００３８】
晶析形式も第１晶析槽と同様、ＴＢＡスラリーと水の連続導入・ＴＢＡスラリーの連続抜き出しでも、連続導入・間欠抜き出し（半回分式）のいずれでもよい。運転操作性、生産性、そして結晶純度から前者が好ましい。
【００３９】
晶析槽の形式は、第１晶析槽、第２晶析槽とも完全混合式、ドラフトチューブ式、分級式、いずれも適用できる。
【００４０】
また本発明の方法において、さらに第３以上の晶析槽を設け、さらに晶析率を高めてもよく、第１、第２、さらに第３以上の晶析槽で適宜晶析率を配分してもよい。
【００４１】
こうして、単一結晶で１００〜４００μｍの高純度ＴＢＡ結晶が高収率で得られる。
【００４２】
このＴＢＡ結晶のスラリーは遠心濾過機、加圧濾過機等で固液分離し、ＴＢＡ湿ケークと濾液を得る。ＴＢＡ結晶の破砕抑制、結晶の洗浄性向上等から遠心濾過機を用いるのが好ましい。また、ＴＢＡ湿ケークはメタノールと水の混合溶液で洗浄するのが好ましく、ＴＢＡ結晶の溶解を抑制しつつ、付着母液を十分除くことができる。その後、通常の方法、例えば通気乾燥、減圧乾燥等を行いＴＢＡ製品を得る。
【００４３】
【実施例】
以下に本発明の方法を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４４】
ＴＢＡ結晶の評価法
（１）アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ
ＴＢＡ結晶１７ｇを１．５Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液８０ｍｌに溶解し、３０℃で１５分間撹拌、これをＡＰＨＡ基準比色法（ＪＩＳ−Ｋ６７２７）に準拠し、吸光光度計を用いて測定した。
【００４５】
（２）加水分解性臭素
ＴＢＡ結晶を０．１Ｎ−水酸化カリウム・メタノール溶液に溶解し、７０℃で１５分間加熱した時に脱離する臭素イオン量を硝酸銀水溶液にて電位差滴定し、この値から遊離の臭素イオン量（無機臭素イオン量（注１）とも言い、別に求める）を差し引き、ＴＢＡの重量に対するｐｐｍで表した。
【００４６】
（注１）無機臭素イオン量：ＴＢＡをアセトンに溶解し、遊離の臭素イオンを硝酸銀水溶液にて電位差滴定し、ＴＢＡの重量に対するｐｐｍで表したもの。
【００４７】
（３）結晶純度
ＴＢＡ結晶をアセトニトリルに溶解し、ＨＰＬＣにおいて逆相カラムを用いて分離、紫外検出器にて各ピークの面積比より算出した。
【００４８】
参考例 ＴＢＡのメタノール溶液の調製
攪拌翼、温度計を設置し、ジャケット及び抜き出し口付き３Ｌセパラブルフラスコの液温を１５℃に保ちながら、１２％ＢＰＡのメタノール溶液（水３．５％を含む）を２８０ｇ／Ｈｒ、臭素を１００ｇ／Ｈｒで連続フィードした。そして液量を２．３ｋｇに調節しながら反応液を抜き出し口から連続的に抜き出した（なお、この溶液を実施例２で使用した）。反応液中の過剰臭素をヒドラジンで還元後、ＴＢＡメタノール溶液を得、これを実施例１〜実施例７、比較例１に供した。ヒドラジン還元後のＴＢＡメタノール溶液の組成は、ＴＢＡ ２０．１％、トリブロモビスフェノールＡ ０．５％、臭化水素酸 １４．２％、水 ２．７％、メタノール６２．５％であった。
【００４９】
実施例１
温度計、撹拌翼、冷却管、ジャケット及び抜き出し口付き、３Ｌガラス製晶析槽（第１晶析槽）及び１Ｌガラス製晶析槽（第２晶析槽）にそれぞれ、ＴＢＡのメタノール溶液をそれぞれ２０３１ｇ及び１０３９ｇ張り込み、撹拌し液温が３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。第１晶析槽の３Ｌガラス製晶析槽に、前記ＴＢＡメタノール溶液を毎時６００ｇ、水を毎時７７ｇで連続導入した。導入量と同量のＴＢＡスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し、第２晶析槽である１Ｌガラス製晶析槽に導入した。また第２晶析槽には水を毎時３６２ｇで連続導入し、第１晶析槽と同様、導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出した。１２時間の連続運転後、抜き出したスラリーを固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ３．００時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．０％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１６．３重量％及び５４．５重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ２４、加水分解性臭素１０ｐｐｍ、平均粒径２５０ミクロンの単一結晶であった。
【００５０】
実施例２
温度計、撹拌翼、冷却管、酸化還元電極を設置し、ジャケット及び抜き出し口を備えた３Ｌガラス製晶析槽（第１晶析槽）及び１Ｌガラス製晶析槽（第２晶析槽）にそれぞれ、ＴＢＡメタノール溶液をそれぞれ２０３１ｇ及び１０３９ｇ張り込み、撹拌し液温が３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。第１晶析槽の３Ｌガラス製晶析槽に、前記ＴＢＡメタノールの反応液（過剰臭素を含む）を毎時６００ｇ、水を毎時１８ｇ、１４％亜硫酸ナトリウム水溶液を毎時６９ｇ（臭素に対して１．０７当量）で連続導入した。導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し、第２晶析槽の１Ｌガラス製晶析槽に導入した。また第２晶析槽には水を毎時３６２ｇで連続導入し、第１晶析槽と同様、導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出した。第１晶析槽内の酸化還元電位は４７０〜４８０ｍＶ（ｖｓＳＣＥ）を示していた。１２時間の連続運転後、抜き出したスラリーを固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ３．０時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．０％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．３重量％及び５４．３重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ２６、加水分解性臭素１９ｐｐｍ、平均粒径２５０ミクロンの単一結晶であった。
【００５１】
実施例３
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時８７０ｇ、水を毎時１１２ｇ、第２晶析槽には水を毎時５１８ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ２．１時間及び０．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．７％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．２重量％及び５５．５重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度１００％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ３１、加水分解性臭素１２ｐｐｍ、平均粒径２３０μｍの単一結晶であった。
【００５２】
実施例４
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時１０７１ｇ、水を毎時１２７ｇ、第２晶析槽には水を毎時６００ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．２時間及び０．８時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８９．１％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１７．３重量％及び５５．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ２９、加水分解性臭素１６ｐｐｍ、平均粒径２２０μｍの単一結晶であった。
【００５３】
実施例５
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時９３７ｇ、水を毎時５０ｇ、第２晶析槽には水を毎時２６３ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．９時間及び２．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ８６．５％及び９９．７％、母液中の水分濃度はそれぞれ１５．４重量％及び５５．０重量％であった。そして、こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ６５、加水分解性臭素５２ｐｐｍ、平均粒径２２０μｍの単一結晶であった。
【００５４】
実施例６
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時１３６６ｇ、水を毎時３０７ｇ、第２晶析槽には水を毎時８２７ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ０．５時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９０．０％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ１８．３重量％及び５５．０重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ７５、加水分解性臭素７５ｐｐｍ、平均粒径２００μｍの単一結晶であった。
【００５５】
実施例７
実施例１と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノール溶液を毎時７８２ｇ、水を毎時１７６ｇ、第２晶析槽には水を毎時４７４ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ１．０時間及び１．０時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９５．１％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ３５．０重量％及び５４．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度９９．９％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ６８、加水分解性臭素５５ｐｐｍ、平均粒径１８０μｍの単一結晶であった。
【００５６】
実施例８
実施例２と同様の装置、操作で連続晶析を行った。第１晶析槽にＴＢＡメタノールの反応液を毎時６００ｇ、水を毎時３９ｇ、１４％亜硫酸ナトリウム水溶液を毎時６８ｇ（臭素に対して１．０５当量）、第２晶析槽には水を毎時３４０ｇでそれぞれ連続導入し、第２晶析槽からＴＢＡスラリーを連続的に抜き出した。第１晶析槽内の酸化還元電位は４７０〜５００ｍＶ（ｖｓ ＳＣＥ）を示していた。スラリーを上記と同様に処理しＴＢＡ結晶を得た。第１晶析槽及び第２晶析槽の滞在時間はそれぞれ２．１時間及び０．５時間、ＴＢＡメタノール溶液に対する晶析率はそれぞれ９２．０％及び９９．８％、母液中の水分濃度はそれぞれ２０．０重量％及び５４．９重量％であった。こうして第２晶析槽から得られたＴＢＡ結晶は、純度１００％、アルカリ溶融色度ＡＰＨＡ３４、加水分解性臭素２６ｐｐｍ、平均粒径２３０μｍの単一結晶であった。
【００５７】
比較例１
撹拌翼、冷却管、ジャケット及び抜き出し口付き、２Ｌガラス製晶析槽に前記ＴＢＡメタノール溶液を１６５４ｇ張り込み、撹拌し液温を３０℃になるようにジャケットに恒温水を流した。前記ＴＢＡメタノール溶液を毎時８８８ｇ、水を毎時７６６ｇで連続導入した。導入量と同量のスラリーを抜き出し口より連続的に抜き出し固液分離、湿結晶をメタノール水溶液で洗浄後、９０℃で２時間乾燥し、ＴＢＡ結晶の乾燥品を得た。滞在時間は１．０時間、晶析率は９９．７％、母液水分濃度は５０重量％であった。こうして得られたＴＢＡ結晶の乾燥品は、アルカリ溶解色度ＡＰＨＡ１００、加水分解性臭素１１７ｐｐｍ、平均粒径１００ミクロンの凝集晶であった。
【００５８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明に依れば、ＴＢＡのメタノール溶液から、効率的、効果的、且つ経済的にＴＢＡ結晶を晶析さえ得る。以下その効果を列記する。
【００５９】
（１）晶析を連続式で行なうことにより、プロセスがシンプルであり効率的である。
【００６０】
（２）得られるＴＢＡ結晶は、単一結晶で、１００〜４００μｍと大きく、その取り扱いは容易で高品質である。
【００６１】
（３）得られるＴＢＡ結晶は高品質であり、合成樹脂用難燃剤に要求されるアルカリ溶解色度ＡＰＨＡ、加水分解性臭素が低減できる。
【００６２】
（４）汎用で安価な還元剤が使用でき、臭化メチルを併産せず環境にやさしく経済性が高い。
Claims (7)
- テトラブロモビスフェノールＡのメタノール溶液と水を別々に連続して第１晶析槽に供給し、母液中の水分濃度を１２〜３５重量％に制御することにより晶析率が７０〜９５％であるテトラブロモビスフェノールＡのスラリーを得、次いで該スラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、母液中の水分濃度を４０〜６０重量％に制御することにより晶析率が９７．０〜９９．９％であるテトラブロモビスフェノールＡを析出させることを特徴とするテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- テトラブロモビスフェノールＡのメタノール溶液が、メタノール系溶媒中でビスフェノールＡを臭素で臭素化し、次いで還元剤で処理して得られた溶液であることを特徴とする請求項１に記載のテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- 還元剤がヒドラジンであることを特徴とする請求項２に記載のテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- 臭素を含んだテトラブロモビスフェノールＡのメタノール溶液、水及び還元剤を各々別々に連続して第１晶析槽に供給し、母液中の水分濃度を１２〜３５重量％に制御することにより晶析率が７０〜９５％であるテトラブロモビスフェノールＡのスラリーを得、次いで該スラリーと水を別々に連続して第２晶析槽に供給し、母液中の水分濃度を４０〜６０重量％に制御することにより晶析率が９７．０〜９９．９％であるテトラブロモビスフェノールＡを析出させることを特徴とするテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- 臭素を含んだテトラブロモビスフェノールＡのメタノール溶液が、メタノール系溶媒中でビスフェノールＡを臭素で臭素化した溶液であることを特徴とする請求項４に記載のテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- 還元剤が、ヒドラジン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウム及び亜硫酸ガスからなる群より選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
- 第１晶析槽及び第２晶析槽で得られるテトラブロモビスフェノールＡの結晶が単一結晶であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のテトラブロモビスフェノールＡの連続晶析方法。
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