JP4626817B2 - 凸版印刷用凸版及び印刷物 - Google Patents
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Description
図1(e)に示すように、従来の高精細印刷用凸版は、ネガ型感光性樹脂よりなる凸部3を含んで構成され、凸部3の突出方向の先端は、有機電子材料を主成分として含むインキが塗布される接触面3Aとして形成されている。そして、凸部3は、その突出方向に沿い接触面3Aから離れるに至るにつれて断面積が次第に大きくなる順テーパ形状となっている。
このような高精細印刷用凸版は、例えば、図1(a)〜(e)に示すアナログ製版工程で作成され、すなわち、露光工程(a)、現像工程(b)、乾燥工程(d)、後露光工程(e)を経て作成される。
露光工程(a)において、図3(a)に示すように、マスク層1の開口1Aから入射した光は感光性樹脂層2の全体に照射され、露光されないのは、黒色で示すマスク層1の裏側のみとなる。このため現像後は、図1(e)に示すように、凸部3は順テーパ形状となっている。
すなわち、請求項1に係る発明は、凸部の突出方向の先端が、有機電子材料を主成分として含むインキが塗布される接触面として形成され、凸版印刷法によって被転写板に印刷する際に使用される高精細印刷用凸版であって、前記凸部は、前記突出方向に沿い前記接触面から離れるに至るにつれて断面積が次第に小さくなる逆テーパ形状となっていることを特徴とする。
また、請求項2に係る発明は、上記凸部がネガ型感光性樹脂により形成され、且つ、該ネガ型感光性樹脂が360nm付近の紫外線に対する吸光係数εが1000mol−1cm−1より大きい、少なくとも一種類以上の樹脂の硬化には関与しない紫外線吸収物質を含んでいることを特徴とする。
また、請求項3に係る発明は、上記凸部は芳香族系有機溶媒に対する体積変化率が10%以下の耐溶剤性を有することを特徴とする。
また、請求項4に係る発明は、上記耐溶剤性を有する凸部が少なくとも水溶性ポリマー主成分として含有すること特徴とする。
また、請求項6に係る発明は、上記電子デバイスが有機EL素子であることを特徴とする。
また、請求項7に係る発明は、請求項5記載の電子デバイスの製造方法により作製される有機EL素子であることを特徴とする。
また、高精細凸版における凸部がネガ型感光性樹脂により形成され、且つ、該ネガ型感光性樹脂が360nm付近の紫外線に対する吸光係数εが1000mol−1cm−1より大きい少なくとも一種類以上の樹脂の硬化には関与しない紫外線吸収物質を含んでいることにより、ネガ型感光性樹脂層内に入射する紫外線を、樹脂の硬化を促進することなく、効率よく吸収することができ、公知の現像工程であってもオーバーハング形状、即ち、逆テーパ形状を形成することが可能となった。
図2に本発明における高精細印刷用凸版の形成過程を示した。凸版の形成工程は、一例として公知の露光工程(a)、現像工程(b)、乾燥工程(d)、後露光工程(e)によるアナログ製版工程を用いることができる。
また、有機発光材料を含む塗工液には、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤、乾燥剤などが添加されても良い。
<実施例>
[発光層形成用塗工液の調製]
高分子蛍光体をキシレンに塗工液濃度が1.0重量%となるように溶解させ、発光層形成用塗工液を調製した。ここで高分子蛍光体とは、ポリ(パラフェニレンビニレン)誘導体からなる発光材料を示す。
[被転写基板の作製]
150mm角、厚さ0.4mmのガラス基板上に表面抵抗率15ΩのITOを成膜した基材(ジオマテック(株)製)に、スピンコーターを用いて正孔輸送層としてポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)を100nm膜厚で成膜した。さらにこの成膜されたPEDOT/PSS薄膜を減圧下100℃で1時間乾燥することで、被転写基板を作製した。
トルエンに対する体積膨張率が1%の耐溶剤性樹脂に紫外線吸収物質を混合した感光性樹脂層を、25μmの厚さの接着材層を塗布した厚さ875μmのPETフィルム上に50μmの厚さで塗布し、凸版のもととなる樹脂材を形成した。この樹脂材にライン幅が100μm、ピッチが400μmのネガ型のフィルムマスクを重ね、公知の露光、現像、乾燥、後露光の工程を経て、目的とする逆テーパ型の凸部を有する高精細印刷用樹脂凸版を作製した。
[有機EL素子の作製]
上記高精細印刷用樹脂凸版を自社製印刷機のシリンダーに両面テープを用いて固定した。これと上記の発光層形成用塗工液を用いて、被転写基板に対し印刷を行った。印刷したパターンは位置精度が±2μm以内だった。発光層の印刷を行った後、130℃で1時間乾燥を行った。乾燥の後、印刷により形成した発光層上にカルシウムを10nm成膜し、さらにその上に銀を300nm真空蒸着して有機EL素子を作製した。この有機EL素子の発光特性を見たところ、パターン箇所内全面で均一な発光が得られた。
トルエンに対する体積膨張率が1%の耐溶剤性樹脂に紫外線吸収物質を混合せず、25μmの厚さの接着材層を塗布した厚さ875μmのPETフィルム上に50μmの厚さで塗布し、凸版のもととなる樹脂材を形成した。この樹脂材にライン幅が100μm、ピッチが400μmのネガ型のフィルムマスクを重ね、公知の露光、現像、乾燥、後露光の工程を経て製版を行ったところ、順テーパ形状の凸版が得られた。この凸版を用いて印刷を行ったところ、凸版の凹部の内部形状を反映した印刷パターンとなってしまい良好な印刷ができなかった。
Claims (7)
- 凸部の突出方向の先端が、有機電子材料を主成分として含むインキが塗布される接触面として形成され、凸版印刷法によって被転写板に印刷する際に使用される高精細印刷用凸版であって、
前記凸部は、前記突出方向に沿い前記接触面から離れるに至るにつれて断面積が次第に小さくなる逆テーパ形状となっている、
ことを特徴とする高精細印刷用凸版。 - 上記凸部がネガ型感光性樹脂により形成され、且つ、該ネガ型感光性樹脂が360nm付近の紫外線に対する吸光係数εが1000mol−1cm−1より大きい、少なくとも一種類以上の樹脂の硬化には関与しない紫外線吸収物質を含んでいることを特徴とする請求項1記載の高精細印刷用凸版。
- 上記凸部は芳香族系有機溶媒に対する体積変化率が10%以下の耐溶剤性を有することを特徴とする請求項1または2記載の高精細印刷用凸版。
- 上記耐溶剤性を有する凸部が少なくとも水溶性ポリマー主成分として含有すること特徴とする請求項3記載の高精細印刷用凸版。
- 請求項1から4に何れかに記載の高精細印刷用凸版を用い、該凸版にインキを供給する工程と、塗工液を被転写体に転写する工程とを有することを特徴とする、電子デバイスの製造方法。
- 上記電子デバイスが有機EL素子であることを特徴とする請求項5記載の電子デバイスの製造方法。
- 請求項5記載の電子デバイスの製造方法により作製される有機EL素子。
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