JP4624237B2 - イオン発生器 - Google Patents
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Description
下部ケースは、側面部分に形成され、基板部を下方から支持する基板受け部を含んでいる。第1突起部と下部ケースの側面部分とは、上部ケースが下部ケースに装着された状態で所定の間隔をもって隔てられている。所定の間隔は、第1突起部と下部ケースの側面部分との隙間に導入された樹脂材が毛細管現象により上方に吸い上げられる間隔である。
これにより、決められた充填材をあらかじめ用意することなく、充填量調整部により充填作業を行ないながら目視で容易に所定量の充填材を導入することができる。
これにより、基板部を結露から守ることができて、イオン発生素子の安定した動作を確保することができる。
Claims (7)
- 有底の下部ケースと、
前記下部ケースの底の部分に設けた開口部に固定され、前記下部ケースの外へ向かってイオンを発生するイオン発生素子と、
前記イオン発生素子の上方に配設され、前記イオン発生素子と電気的に接続されて前記イオン発生素子を駆動するための駆動回路が形成された基板部と、
前記下部ケースに装着され、前記下部ケースとで前記基板部を挟み込んで前記基板部を覆う上部ケースと、
前記上部ケースと前記下部ケースとで前記基板部を挟み込んだ状態で、前記基板部に設けられた切欠きと、前記切欠きに対応するように前記上部ケースに形成された凹み部とによって形成され、前記下部ケースの底と前記基板部との間の空間に連通して所定の充填材を導入するための導入口部と
を備え、
前記下部ケースは、
側面部分に形成され、前記基板部を下方から支持する基板受け部と、
底の部分から前記基板受け部に向かって延在するように前記側面部分に形成され、導入される前記充填材を毛細管現象により前記基板受け部にまで吸い上げるための溝部と
を備えた、イオン発生器。 - 前記上部ケースから前記下部ケースに向かって突出するように前記上部ケースに設けられ、導入される前記充填材に到達して前記充填材に埋め込まれる部分を含む第1突起部を備えた、請求項1記載のイオン発生器。
- 有底の下部ケースと、
前記下部ケースの底の部分に設けた開口部に固定され、前記下部ケースの外へ向かってイオンを発生するイオン発生素子と、
前記イオン発生素子の上方に配設され、前記イオン発生素子と電気的に接続されて前記イオン発生素子を駆動するための駆動回路が形成された基板部と、
前記下部ケースに装着され、前記下部ケースとで前記基板部を挟み込んで前記基板部を覆う上部ケースと、
前記上部ケースと前記下部ケースとで前記基板部を挟み込んだ状態で、前記基板部に設けられた切欠きと、前記切欠きに対応するように前記上部ケースに形成された凹み部とによって形成され、前記下部ケースの底と前記基板部との間の空間に連通して所定の充填材を導入するための導入口部と
前記上部ケースから前記下部ケースに向かって突出するように前記上部ケースに設けられ、導入される前記充填材に到達して前記充填材に埋め込まれる部分を含む第1突起部と
を備え、
前記下部ケースは、側面部分に形成され、前記基板部を下方から支持する基板受け部を含み、
前記第1突起部と前記下部ケースの側面部分とは、前記上部ケースが前記下部ケースに装着された状態で所定の間隔をもって隔てられ、
前記所定の間隔は、前記第1突起部と前記下部ケースの前記側面部分との隙間に導入された前記樹脂材が毛細管現象により上方に吸い上げられる間隔である、イオン発生器。 - 前記第1突起部には、前記充填材に埋め込まれる部分にカギ状部が形成されている、請求項2または3に記載のイオン発生器。
- 前記上部ケースにおける前記導入口部の部分に露出し、前記下部ケースの側に向かって突出する第2突起部を有し、前記第2突起部の位置と前記充填材の表面の位置とを確認することにより所定量の充填材を充填するための充填量調整部を備えた、請求項1〜4のいずれかに記載のイオン発生器。
- 前記充填材は、前記イオン発生素子とその近傍に位置する下部ケースの部分を封止するように充填される、請求項1〜5のいずれかに記載のイオン発生器。
- 前記基板部には防湿材が塗布された、請求項1〜6のいずれかに記載のイオン発生器。
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---|---|---|---|---|
JP2004039377A (ja) * | 2002-07-02 | 2004-02-05 | Yazaki Corp | 電子部品の端子接続部分への防湿剤塗布構造 |
JP2004311630A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Rb Controls Co | 電子装置およびその製造方法 |
JP2005210174A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 増幅器 |
JP2006222045A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Rb Controls Co | イオン発生装置およびその製造方法 |
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- 2005-10-25 JP JP2005309825A patent/JP4624237B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2004039377A (ja) * | 2002-07-02 | 2004-02-05 | Yazaki Corp | 電子部品の端子接続部分への防湿剤塗布構造 |
JP2004311630A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Rb Controls Co | 電子装置およびその製造方法 |
JP2005210174A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 増幅器 |
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