JP4624178B2 - 離型層の形成方法およびシリコンインゴットの製造方法 - Google Patents
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Description
セラミック粒子としては、シリコンインゴットへの不純物の混入を抑える観点から、二酸化珪素また、窒化珪素が好ましく、さらに、離型性を考慮して二酸化珪素と窒化珪素との混合粒子を用いたほうが好ましい。また、二酸化珪素や窒化珪素は凝集しやすく、強く結びついてしまい、その結果、硬い粗大粒子を形成しやすい。また、このような粗大粒子は離型層2中での凝集力が弱く、鋳型1との付着性も悪くて剥離し易いため、離型層2が剥離してシリコン融液中に混入して異物になるといった問題があった。しかし、スラリーに架橋助剤を含有させることにより当該問題を効果的に抑制することができた。また、二酸化珪素の平均粒径は0.1〜40μm程度の粒子、また窒化珪素の平均粒径は0.1〜5μm程度の粒子が用いられる。
2・・・離型層
Claims (5)
- シリコンインゴット形成用鋳型の内表面にスラリーを塗布・乾燥して成る離型層の形成方法であって、
前記スラリーは、セラミック粒子、ポリビニルアルコールを用いた有機バインダー、及びポリエチレングリコールを用いた架橋助剤を含有してなり、前記架橋助剤は前記有機バインダーに対して少量としたことを特徴とする離型層の形成方法。 - 前記セラミック粒子は、二酸化珪素又は窒化珪素からなることを特徴とする請求項1記載の離型層の形成方法。
- 前記架橋助剤は、前記セラミック粒子に対して、0.05質量%以上3質量%以下の割合で含有されることを特徴とする請求項1又は2に記載の離型層の形成方法。
- 前記スラリーは、スプレーにより塗布されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の離型層の形成方法。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の離型層の形成方法を用いて、内表面に離型層が形成されたシリコンインゴット形成用鋳型内で、シリコン融液を凝固させてシリコンインゴットを製造することを特徴とするシリコンインゴットの製造方法。
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