JP4622568B2 - 露光方法、露光装置、反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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- ステージ上に載置された外径が500mmより大きい感光性基板に投影光学系を介して露光光を照射する露光方法において、
互いに反射率が異なる第1及び第2領域を有する反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置する設置工程と、
前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置された前記反射板の前記第1領域により反射された前記露光光の第1光量および前記第2領域により反射された前記露光光の第2光量を順次検出する第1検出工程と、
前記ステージ上に設置された前記感光性基板により反射された前記露光光の第3光量を検出する第2検出工程と、
前記第1、第2及び第3光量の検出結果に基づいて、前記投影光学系の調整を行う調整工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記第1、第2及び第3光量の検出結果に基づいて、前記ステージ上に載置された前記感光性基板の反射率を算出する算出工程を含み、
前記調整工程は、前記算出工程により算出された前記感光性基板の反射率に基づいて、前記投影光学系の調整を行うことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。 - 前記設置工程は、前記感光性基板のサイズと略同一のサイズを有する前記反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置することを特徴とする請求項1または2に記載の露光方法。
- ステージ上に載置された外径が500mmより大きい感光性基板に投影光学系を介して露光光を照射する露光装置において、
互いに反射率が異なる第1及び第2領域を有する反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置する設置手段と、
前記ステージ上に設置された前記反射板または前記感光性基板により反射された前記露光光の光量を検出する計測センサと、
前記投影光学系の光学特性を調整する調整機構と、
前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置された前記反射板の前記第1領域により反射された前記露光光の第1光量および前記第2領域により反射された前記露光光の第2光量を前記計測センサに順次検出させ、前記ステージ上に載置された前記感光性基板により反射された前記露光光の第3光量を前記計測センサに検出させ、前記第1、第2及び第3光量の検出結果に基づき、前記調整機構に前記投影光学系の光学特性を調整させる制御を行う制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記計測センサの前記第1、第2及び第3光量の検出結果に基づいて、前記ステージ上に載置された前記感光性基板の反射率を算出し、該感光性基板の反射率に基づいて、前記調整機構に投影光学系の光学特性を調整させる制御を行うことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- ステージ上に載置された外径が500mmより大きい感光性基板に投影光学系を介して露光光を照射する露光装置において、
前記ステージ上に載置された前記感光性基板により反射される前記露光光を検出して前記感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサと、
互いに反射率が異なる第1及び第2領域を有する反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置する設置手段と、
前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置された前記反射板の前記第1領域により反射された前記露光光の第1光量および前記第2領域により反射された前記露光光の第2光量を前記反射率計測センサに順次検出させ、前記第1及び第2光量の検出結果に基づいて前記反射率計測センサの校正値を算出し、該校正値に基づいて前記反射率計測センサを校正する制御を行う制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記投影光学系の光学特性を調整する調整機構を備え、
前記制御部は、前記校正値に基づいて校正した前記反射率計測センサによって、前記ステージ上に載置された前記感光性基板の反射率を計測し、該感光性基板の反射率に基づいて前記調整機構に前記投影光学系の光学特性を調整させる制御を行うことを特徴とする請求項6に記載の露光装置。 - 前記設置手段は、前記感光性基板のサイズと略同一のサイズを有する前記反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置することを特徴とする請求項4〜7のいずれか一項に記載の露光装置。
- 互いに反射率が異なる第1及び第2領域を有し、請求項4〜7のいずれか一項に記載の露光装置によって、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置されることを特徴とする反射板。
- 前記感光性基板のサイズと略同一のサイズを有することを特徴とする請求項9に記載の反射板。
- ステージ上に載置された外径が500mmより大きい感光性基板に投影光学系を介して露光光を照射する露光装置の前記ステージ上に載置された前記感光性基板により反射される前記露光光を検出して前記感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサの校正方法であって、
互いに反射率が異なる第1及び第2領域を有する反射板を、前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置する設置工程と、
前記ステージ上の前記感光性基板が載置される位置に設置された前記反射板の前記第1領域により反射された前記露光光の第1光量および前記第2領域により反射された前記露光光の第2光量を前記反射率センサによって順次検出する検出工程と、
前記第1及び第2光量の検出結果に基づいて前記反射率計測センサの校正値を算出する算出工程と、
を含むことを特徴とする反射率計測センサの校正方法。 - 請求項4〜8のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、外径が500mmより大きい感光性基板を露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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