JP2006222346A - 露光装置、基準反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
露光装置、基準反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006222346A JP2006222346A JP2005035774A JP2005035774A JP2006222346A JP 2006222346 A JP2006222346 A JP 2006222346A JP 2005035774 A JP2005035774 A JP 2005035774A JP 2005035774 A JP2005035774 A JP 2005035774A JP 2006222346 A JP2006222346 A JP 2006222346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflectance
- measurement sensor
- reflectance measurement
- reference reflector
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 マスクMのパターンを投影光学系PLを介して感光性基板P上に露光する露光装置において、前記感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサ19と、前記反射率計測センサの校正を行うために用いられ、前記感光性基板を載置する基板ステージPST上とは別の位置に配置される基準反射板26と、必要に応じて前記基準反射板を前記基板ステージ上に設置する設置手段と、前記設置手段により設置された前記基準反射板の反射率を前記反射率計測センサにより計測し、計測された前記反射率に基づいて前記反射率計測センサの校正値を算出する算出手段20と、前記算出手段により算出された前記校正値に基づいて前記反射率計測センサの校正を行う校正手段とを備える。
【選択図】 図1
Description
Claims (12)
- マスクのパターンを投影光学系を介して外径が500mmより大きい感光性基板上に露光する露光装置において、
前記感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサと、
前記反射率計測センサの校正を行うために用いられ、前記感光性基板を載置する基板ステージ上とは別の位置に配置される基準反射板と、
必要に応じて前記基準反射板を前記基板ステージ上に設置する設置手段と、
前記設置手段により設置された前記基準反射板の反射率を前記反射率計測センサにより計測し、計測された前記反射率に基づいて前記反射率計測センサの校正値を算出する算出手段と、
前記算出手段により算出された前記校正値に基づいて前記反射率計測センサの校正を行う校正手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記校正手段により校正が行われた前記反射率計測センサにより前記基板ステージ上に載置された前記感光性基板の反射率を計測し、計測された前記反射率に基づいて前記投影光学系の光学特性を調整する調整手段を備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記基準反射板の反射面は、反射率の異なる2つ以上の領域を有することを特徴とする請求項1または請求項2記載の露光装置。
- 前記基準反射板は、前記感光性基板を前記基板ステージ上にロードするローダ部の近傍に配置され、
前記設置手段は、前記ローダ部の近傍から前記基板ステージ上に前記基準反射板を搬送することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記投影光学系の近傍に前記基準反射板を保持するアームを更に備え、
前記設置手段は、前記アームを移動させることにより前記アームに保持されている前記基準反射板を反射率計測位置に移動させることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記反射率計測センサによる前記基準反射板の反射率の計測値に基づき、前記基準反射板の反射率が所定の範囲内にないと判別された場合、その旨を報知する報知手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の露光装置。
- 感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサの校正を行うために用いられる基準反射板であって、
反射率の異なる少なくとも2つの反射領域を備え、前記感光性基板が載置される基板ステージ上の前記感光性基板と交換可能な形状であることを特徴とする基準反射板。 - マスクのパターンを投影光学系を介して感光性基板上に露光する露光装置に用いられる反射率計測センサの校正方法であって、
前記感光性基板の反射率を計測する反射率計測センサの校正を行うために用いられ、前記感光性基板を載置する基板ステージ上とは別の位置に配置される基準反射板を、反射率計測位置に設置する設置工程と、
前記設置工程により設置された前記基準反射板の反射率を前記反射率計測センサにより計測し、計測された前記反射率に基づいて前記反射率計測センサの校正値を算出する算出工程と、
前記算出工程により算出された前記校正値を記憶する記憶工程と、
前記記憶工程により記憶された前記校正値に基づいて前記反射率計測センサの校正を行う校正工程と、
を含むことを特徴とする反射率計測センサの校正方法。 - 前記設置工程は、前記感光性基板を前記基板ステージ上にロードするローダ部の近傍に配置される前記基準反射板を、前記ローダ部の近傍から前記基板ステージ上の前記反射率計測位置に搬送する工程を含むことを特徴とする請求項8記載の反射率計測センサの校正方法。
- 前記設置工程は、前記投影光学系の近傍に配置され、前記基準反射板を保持するアームを移動させることにより前記アームに保持されている前記基準反射板を前記反射率計測位置に移動させる工程を含むことを特徴とする請求項8記載の反射率計測センサの校正方法。
- 請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 - 請求項8乃至請求項10の何れか一項に記載の反射率計測センサの校正方法により校正された反射率計測センサを備える露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005035774A JP4622568B2 (ja) | 2005-02-14 | 2005-02-14 | 露光方法、露光装置、反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005035774A JP4622568B2 (ja) | 2005-02-14 | 2005-02-14 | 露光方法、露光装置、反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006222346A true JP2006222346A (ja) | 2006-08-24 |
JP4622568B2 JP4622568B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=36984428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005035774A Expired - Fee Related JP4622568B2 (ja) | 2005-02-14 | 2005-02-14 | 露光方法、露光装置、反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4622568B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008153402A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2011232268A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Japan Aerospace Exploration Agency | 校正機能を備えた反射率及び反射濃度の計測方法及びそれを実施するシステム |
JP2012127824A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Toyota Motor Corp | 標準ゲージ、測定器の測定精度保証方法、標準ゲージの製造方法、及び、測定器の性能評価方法 |
JP2017040593A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | 海洋総合開発株式会社 | 物質識別装置 |
CN106829822A (zh) * | 2017-04-25 | 2017-06-13 | 上海振华重工(集团)股份有限公司 | 一种板材件翻转设备 |
CN112098415A (zh) * | 2020-08-06 | 2020-12-18 | 杭州电子科技大学 | 一种杨梅品质无损检测方法 |
WO2021042120A1 (en) * | 2019-08-27 | 2021-03-04 | Viavi Solutions Inc. | Optical measurement device including internal spectral reference |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236429A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH1092722A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11260706A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Nikon Corp | 照度計、照度計測方法及び露光装置 |
-
2005
- 2005-02-14 JP JP2005035774A patent/JP4622568B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236429A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH1092722A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11260706A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Nikon Corp | 照度計、照度計測方法及び露光装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008153402A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2011232268A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Japan Aerospace Exploration Agency | 校正機能を備えた反射率及び反射濃度の計測方法及びそれを実施するシステム |
JP2012127824A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Toyota Motor Corp | 標準ゲージ、測定器の測定精度保証方法、標準ゲージの製造方法、及び、測定器の性能評価方法 |
JP2017040593A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | 海洋総合開発株式会社 | 物質識別装置 |
CN106829822A (zh) * | 2017-04-25 | 2017-06-13 | 上海振华重工(集团)股份有限公司 | 一种板材件翻转设备 |
WO2021042120A1 (en) * | 2019-08-27 | 2021-03-04 | Viavi Solutions Inc. | Optical measurement device including internal spectral reference |
US11287317B2 (en) | 2019-08-27 | 2022-03-29 | Viavi Solutions Inc. | Optical measurement device including internal spectral reference |
US11920979B2 (en) | 2019-08-27 | 2024-03-05 | Viavi Solutions Inc. | Optical measurement device including internal spectral reference |
EP4365576A3 (en) * | 2019-08-27 | 2024-07-17 | Viavi Solutions Inc. | Optical measurement device including internal spectral reference |
CN112098415A (zh) * | 2020-08-06 | 2020-12-18 | 杭州电子科技大学 | 一种杨梅品质无损检测方法 |
CN112098415B (zh) * | 2020-08-06 | 2022-11-18 | 杭州电子科技大学 | 一种杨梅品质无损检测方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4622568B2 (ja) | 2011-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI396053B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
JP4622568B2 (ja) | 露光方法、露光装置、反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 | |
US20090233195A1 (en) | Linewidth measuring method, image-forming-state detecting method, adjustment method, exposure method, and device manufacturing method | |
US20090263736A1 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
JP2008300821A (ja) | 露光方法、および電子デバイス製造方法 | |
JP4924421B2 (ja) | センサの校正方法、露光方法、露光装置、デバイス製造方法、および反射型マスク | |
JP6347849B2 (ja) | センサシステム、基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 | |
TWI480923B (zh) | 最佳化方法及微影單元 | |
JP2008263194A (ja) | 露光装置、露光方法、および電子デバイス製造方法 | |
JP2008263193A (ja) | 露光方法、および電子デバイス製造方法 | |
JPWO2008132799A1 (ja) | 計測方法、露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP2010272878A (ja) | リソグラフィ投影装置およびデバイス製造方法 | |
JP4405462B2 (ja) | 較正用基板およびリソグラフィ装置の較正方法 | |
US20090174873A1 (en) | Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method | |
TW200540574A (en) | Method of measurement, method for providing alignment marks, and device manufacturing method | |
US20090201479A1 (en) | Laser light source control method, laser light source device, and exposure apparatus | |
JP2007115784A (ja) | 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場 | |
JP4141984B2 (ja) | リソグラフィック装置較正方法、整列方法、コンピュータ・プログラム、リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 | |
TWI288227B (en) | Lithographic apparatus, method of calibration, device manufacturing method, and device manufactured thereby | |
TWI411887B (zh) | 判定曝光設定的方法、微影曝光裝置、電腦程式及資料載體 | |
JP4797764B2 (ja) | 露光装置の較正方法及び露光装置 | |
JP5405615B2 (ja) | リソグラフィ方法及びアセンブリ | |
JP2010181861A (ja) | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP2007173807A (ja) | デバイス製造方法およびコンピュータプログラム製品 | |
KR100781099B1 (ko) | 리소그래피 시스템의 평가방법, 기판처리장치의 조정방법,리소그래피 시스템, 및 노광장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100611 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100816 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101005 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101018 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4622568 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |