JP4622427B2 - 液晶装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
ここで、「εLC」は前記液晶の比誘電率を、「dOVL」は前記オーバーレイヤーの厚さを、「εOVL」は前記オーバーレイヤーの比誘電率を、「dLC」は前記液晶層の厚さを、「ε0」は真空の誘電率を、「Sadd」は前記補助電極部の面積を夫々示している。
上記の液晶装置の他の一態様では、補助電極は、データ線と同一の導電材料、例えば、クロムなどにより形成することができる。これにより、データ線を形成する工程で補助電極を形成することができ、補助電極を形成するための工程を増やさなくてすむという利点がある。
(液晶表示装置の構成)
まず、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の構成について説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置100の概略構成を模式的に示す平面図である。図1では、主として、液晶表示装置100の電極及び配線の構成を平面図として示している。ここに、液晶表示装置100は、TFD素子を用いたアクティブ・マトリクス駆動方式であって、透過型の液晶表示装置である。また、液晶表示装置100は、画素電極とTFD素子及びデータ線とが絶縁膜にて隔離された構造、いわゆるオーバーレイヤー構造を有する液晶表示装置である。さらに、液晶表示装置100は、垂直配向方式の液晶表示装置であると共に、ノーマリーブラックの表示モードを有する液晶表示装置である。図2は、図1の液晶表示装置100における切断線A−A’に沿った概略断面図を示す。
次に、図1、図3及び図4を参照して、第1実施形態の素子基板91及びカラーフィルタ基板92の電極及び配線の構成について説明する。図3は、素子基板91を正面方向(即ち、図2における上方)から観察したときの素子基板91の電極及び配線などの構成を平面図として示す。図4は、カラーフィルタ基板92を正面方向(即ち、図2における下方)から観察したときのカラーフィルタ基板92の電極の構成を平面図として示す。なお、図3及び図4において、電極や配線以外のその他の要素は説明の便宜上図示を省略している。
次に、図5乃至図7を参照して、第1実施形態に係る画素電極の容量(以下、単に「画素容量」とも称する)の増加方法について説明する。図5は、素子基板91における複数の画素電極10等のレイアウトを示す部分平面図である。なお、図5では、本発明の特徴をなす補助電極70の平面構成の理解を容易にするため、複数の画素電極10のうち画素電極10aのみを破線で示す。図6(a)は、図5における切断線X1−X2に沿った部分断面図である。図6(b)は、図6(a)における破線領域E1付近を拡大して示す部分拡大断面図である。なお、図6は、素子基板91を正面方向(即ち、図2における上方)から観察したときの素子基板91の構成を示している。
CLC=(ε0×εLC×SP)/dLC (式1)
で表される。上記の式1において、「CLC」は、1つの画素電極10の容量、即ち液晶容量を示している。「ε0」は、真空の誘電率を示している。「εLC」は、液晶層4の比誘電率を示している。「SP」は、画素電極10の面積を示している。「dLC」は、液晶層4の厚さ、即ちセルギャップを示している。
Cadd=(εLC×dOVL+εOVL×dLC)/(ε0×εLC×εOVL×Sadd) (式2)
で表される。上記の式2において、「Cadd」は、補助電極70の容量、具体的には各補助電極部70aの容量の総和(本例では、4つの補助電極部70aの各容量の総和に相当)と補助電極部70bの容量との和を示している。「dOVL」は、オーバーレイヤー17の厚さを示している。「εOVL」は、オーバーレイヤー17の比誘電率を示している。「Sadd」は、各補助電極部70aの面積の総和(本例では、4つの補助電極部70aの各面積の総和に相当)と補助電極部70bの面積との和を示している。上記の式2において、その他の要素は上記の式1の要素と同様である。
次に、図8等を参照して、第2実施形態に係る画素容量の増加方法について説明する。
次に、図9及び図10を参照して、第3実施形態に係る画素容量の増加方法について説明する。図9は、第3実施形態の素子基板95における画素電極等のレイアウトを示しており、第1実施形態の図5に対応する部分平面図である。
次に、本発明の第1実施形態による液晶表示装置100を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。なお、第2及び第3実施形態の液晶表示装置も、当該電子機器の表示装置に適用可能である。
Claims (12)
- 一対の基板間に液晶層を挟持してなる垂直配向方式の液晶装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に電気的に接続され付加容量を形成する補助電極と、コンタクトホールを有し前記データ線、前記スイッチング素子及び前記補助電極を覆う絶縁層と、
前記絶縁層上に形成され前記コンタクトホールを通じて前記スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、を備え、
前記補助電極は、複数の補助電極部と、前記補助電極部を接続する接続部とを有し、
前記複数の補助電極部は、画素領域内において前記画素電極と重ならない位置に形成されていることを特徴とする液晶装置。 - 前記一方の基板は、前記補助電極と前記スイッチング素子とを電気的に接続する接続部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記画素領域は、相互に隣接する前記データ線間の領域であって、単一のスイッチング素子及び当該単一のスイッチング素子に電気的に接続された画素電極が形成された領域であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
- 前記画素電極は、多角形又は円形をなす複数の単位電極部と、前記単位電極部の各々の間に配置され、くびれ形状をなす第1接続部とを有し、
前記補助電極部は、画素領域内において、前記データ線と前記第1接続部との間に、且つ、相隣接する単位電極部の間に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記画素電極は、前記スイッチング素子近傍に位置する単位電極部と当該スイッチング素子との間に配置された第2接続部をさらに有し、
前記補助電極部は、画素領域内において当該単位電極部と前記第2接続部との間に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記接続部は、画素電極と重なる位置に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記画素電極は、開口を有し且つ略矩形状の形状に形成されており、
前記補助電極部は、前記開口内に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記補助電極は、前記データ線と一定の間隔をおいて形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記液晶層の比誘電率をεLC、前記液晶層の厚さをdLC、前記オーバーレイヤーの厚さをdOVL、前記オーバーレイヤーの比誘電率をεOVL、真空の誘電率をε0、前記補助電極部の面積をSaddとしたとき、
前記補助電極部の容量Caddは、次式
Cadd=(εLC×dOVL+εOVL×dLC)/(ε0×εLC×εOVL×Sadd)
により規定されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の液晶装置。 - 前記データ線と前記補助電極とは同一の材料により形成されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記液晶層は負の誘電率異方性を有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の液晶装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
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