JP4620836B2 - Wafer manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウエハーの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図8は、従来の非接触ICカードの概略を示す図である。
従来の非接触ICカードは、カードと同程度の大きさのアンテナ130及びアンテナ130に接続された非接触用ICチップ110を備えており、アンテナ130に誘起された交流信号によりチップ駆動電圧供給及びデータ送受信が行われる。
非接触ICチップ110は、アンテナ接続用端子111,112のように、少なくとも2個のアンテナ接続用の端子を備えており、アンテナ接続用端子111,112とアンテナ130とを金ワイヤー、導電接着剤、異方性導電シート等で接続することにより非接触ICモジュールの作製を行い、非接触ICモジュールをカード内に挟み込むことによりカード化が行われている。
【0003】
図9は、従来の非接触ICチップ110におけるアンテナ接続用端子111,112の配置例を示す図である。
非接触ICチップ110は、2つのアンテナ接続用端子111,112に印加される交流信号を整流し、駆動電圧供給、交流信号の振幅変調、位相変調、周波数変調等を感知することによりデータ受信を行うので、非接触ICチップ110内部の配線を簡易化するために、アンテナ接続用端子111,112が近接している〔図9(a)〕場合が多かった。
また、アンテナとの接続を考慮し接続箇所を極力遠ざける際には、チップのコーナー部周辺〔図9(b)〕又は対角線上〔図9(c)〕に接続用端子111,112を配置することが行われていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の非接触ICチップ110は、図9(b),図9(c)に示すようにチップのコーナー部周辺にアンテナ接続用端子111,112を配置したとしても、図10に示すように、非接触ICチップ110と同程度の小型のアンテナ130Bを用いる場合には、アンテナ130の両端を外側に引き出してアンテナ接続用端子111,112との接続を行う必要があった。この場合、アンテナ130Bが交差する部分では、短絡が生じないように、何らかの絶縁処理を要し、アンテナ形成工程が複雑になるという問題があった。
【0005】
本発明の課題は、チップの大きさと同程度のアンテナを使用する場合であっても、アンテナを交差させる必要がないウエハーの製造方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
【0007】
請求項1の発明は、非接触ICチップ及びアンテナを備える非接触ICモジュールを有するウエハーの製造方法であって、前記非接触ICチップは、電磁波により外部と非接触で電力及び/又は情報の授受を行うICチップであり、外周付近に設けられた外周部アンテナ接続端子と、前記外周部アンテナ接続端子とは別の端子であって、外周付近に設けられたチップ上端子と、中央部付近に設けられた中央部アンテナ接続端子と、前記チップ上端子と前記中央部アンテナ接続端子とを電気的に接続する導電膜とを備え、前記アンテナは、アンテナシート上にコイル状に形成され、前記コイル状の両端が、前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に対応する範囲に配置され、前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に電気的に接続され、前記アンテナシートの外形が、前記非接触ICチップの外形と同程度、又は前記非接触ICチップの外形よりも小さいことを特徴とし、このウエハー上に絶縁膜を形成し、その絶縁膜上に積層することにより、このウエハーに形成された前記非接触ICチップの前記チップ上端子と前記中央部アンテナ接続端子に対応する領域との間に前記導電膜を形成する導電膜形成工程と、前記導電膜形成工程で形成した前記導電膜上に設けられ前記中央部アンテナ接続端子に対応する領域に孔部を有する絶縁膜を積層し、その孔部を介して前記導電膜に導通した前記中央部アンテナ接続端子を形成する中央部アンテナ接続端子形成工程と、前記中央部アンテナ接続端子形成工程で前記中央部アンテナ接続端子が形成された前記非接触ICチップの前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に、前記アンテナの前記コイル状の両端を電気的に接続することにより、前記非接触ICチップ上に前記アンテナを形成し、ウエハーの段階で前記非接触ICモジュールを形成するアンテナ接続工程とを備えること、を特徴とするウエハーの製造方法である。
【0008】
請求項2の発明は、請求項1に記載のウエハーの製造方法において、前記導電膜(25)は、メッキ法によって形成することを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0009】
請求項3の発明は、請求項1に記載のウエハーの製造方法において、前記導電膜(25)は、スクリーン印刷法によって形成することを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0010】
請求項4の発明は、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記非接触ICチップは、接触通信が可能な接触端子を備えていることを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0011】
請求項5の発明は、請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記外周部アンテナ接続端子及び/又は前記中央部アンテナ接続端子(11,12,21B,22B)は、小突起であるバンプが形成されていることを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0013】
請求項6の発明は、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記アンテナ(30)は、前記非接触ICチップの一つの面内に設けられていることを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0015】
請求項7の発明は、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記非接触ICチップ(10)と前記アンテナ(30)とは、異方性導電シート(33)又は異方性導電ペーストを用いて接続することを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0016】
請求項8の発明は、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記非接触ICチップと前記アンテナとは、導電性接着剤を用いて接続することを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0017】
請求項9の発明は、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のウエハーの製造方法において、前記非接触ICチップと前記アンテナとは、絶縁性接着剤を用いて接続することを特徴とするウエハーの製造方法である。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、図面等を参照しながら、本発明の実施の形態について、更に詳しく説明する。
(第1実施形態)
図1は、本実施形態における非接触ICチップ10を示す図である。
非接触ICチップ10は、チップの大きさが4mm×5mmであって、電磁波により非接触でデータ及び電力の授受を行い情報処理を行う集積回路である。
非接触ICチップ10は、外周付近に設けられた外周部アンテナ接続端子12と、中央部付近に設けられた中央部アンテナ接続端子11とを有し、各アンテナ接続端子には、厚み20μmの金メッキによるバンプ処理を施して、バンプを設けている。
【0020】
図2は、非接触ICモジュール40を示す図である。図2(a)は、正面からの透視図であり、図2(b)は、膜構成を説明するための断面図である。
非接触ICモジュール40は、非接触ICチップ10とアンテナシート32とを異方性導電シート33により接続して形成されている。
【0021】
アンテナシート32は、ポリイミド基板31上に、アンテナ30を形成したシートである。
アンテナ30は、外形サイズが、接続する非接触ICチップ10のサイズ4mm×5mm内に収まるサイズのコイル(配線幅:10μm、間隔:10μm、厚み:18μm、巻数:50T)であって、コイルの両端が外周部アンテナ接続端子12及び中央部アンテナ接続端子11に対応する位置となるようになっている。したがってアンテナのコイルが交差する部分を設ける必要がなく、エッチングや印刷等の一工程でアンテナ30を簡単に形成することができる。
【0022】
図3は、非接触ICモジュール40を備える非接触ICカード50を示す図である。
非接触ICカード50は、センターコアシート51を有し、センターコアシート51の両面に、コアシート52、53及び保護シート54,55が積層されて形成されている。
センターコアシート51は、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリプロピレン(PP)などの材料からなり、膜厚が400μmであるセンターコアシート51に、打ち抜きにより形成されたICモジュール用孔に、非接触型ICモジュール40が配置されている。
【0023】
コアシート52,53及び保護シート54,55は、膜厚をそれぞれ例えば150μm、50μmとし、材料としては、センターコアシート51と同様に例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリプロピレン(PP)などを用いることができる。
センターコアシート51、コアシート52,53及び保護シート54,55の積層体は、融着又は接着剤による接着などによりラミネートされ、カードサイズに打ち抜かれる。
【0024】
本実施形態によれば、外周部アンテナ接続端子12と、中央部アンテナ接続端子11とを有する非接触ICチップ10を用いた非接触ICモジュール40を作製し、これを用いて非接触ICカード50としたので、アンテナ30の形成工程が容易になるとともに、非接触ICチップ10とアンテナ30との接続をウエハー単位で行うことができ、接続工程を容易に速く行うことができる。
【0025】
(第2実施形態)
図4は、本実施形態における非接触ICチップ20を示す図である。
非接触ICチップ20は、チップの大きさが4mm×5mmであって、電磁波により非接触でデータ及び電力の授受を行い情報処理を行う集積回路である。
非接触ICチップ20は、外周付近にチップ上端子である2つのアンテナ接続端子21A.22Aが設けられている。
【0026】
本実施形態では、非接触ICチップ20のアンテナ接続端子21Aの位置を再配置することにより、第1実施形態における非接触ICチップ10の中央部アンテナ接続端子11に相当するアンテナ端子を設けた。
図5は、アンテナ接続端子21Aの位置を再配置する過程を示す断面図である。
【0027】
図5(a)は、再配置の作業を行う前における非接触ICチップ20のアンテナ接続端子21A付近の断面図である。非接触ICチップ20には、アンテナ接続端子21Aと、保護膜23が設けられている。
【0028】
図5(b)は、図5(a)の状態の非接触ICチップ20に、絶縁膜24を形成した状態を示す図である。絶縁膜24は、ポリイミド等の絶縁素材をコーティングして形成されており、アンテナ接続端子21A及び22Aを除く特定箇所に設けられている。
【0029】
図5(c)は、図5(b)の状態の非接触ICチップ20に、導電膜25を形成した状態を示す図である。導電膜25は、非接触ICチップ20の外周付近にあるアンテナ接続端子21Aを再配線して中央部付近の中央部アンテナ接続端子21Bの位置に移動する金メッキ等により形成された膜である。
【0030】
図5(d)は、図5(c)の状態の非接触ICチップ20に、絶縁膜26を形成した状態を示す図である。絶縁膜26は、導電膜25の中央部アンテナ接続端子21Bに相当する位置、すなわちチップ中央部付近及びアンテナ接続端子22Aのみを残して形成されるレジスト等の膜である。
【0031】
図5(e)は、図5(d)の状態の非接触ICチップ20に、バンプ用導電膜21Bを形成した状態を示す図である。バンプ用導電膜21Bは、金メッキ等により形成された膜であり、絶縁膜26よりもわずかに突出させ、バンプを形成している。尚、このアンテナ接続端子の位置を再配置する工程は、ウェハー段階で行うことが望ましい。
【0032】
図6は、図5に示した工程を経て、得られた非接触ICチップ20を示す図である。図6(a)は、上面図であり、図6(b)は、側面方向の断面図である。このように、導電膜25を形成することにより、外周部にあったアンテナ接続端子21Aが、中央部アンテナ接続端子21Bに再配置されている。
【0033】
図7は、図6に示した非接触ICチップ20の上に、アンテナ30を形成した非接触ICモジュールを示す図である。この図のように、非接触ICチップ20の上に、ポリイミド基板上に形成されたアンテナ30(配線幅:10μm、間隔:10μm、厚み:18μm、巻数:50T)を異方性導電シートを介して接続して、非接触ICモジュールを作製した。導電膜25を設けたことにより中央部付近に端子を形成することができたので、アンテナ30は、コイルが交差する部分を設ける必要がないアンテナとすることができた。
【0034】
本実施形態によれば、導電膜25を形成して、端子の再配線を行うことにより、アンテナ接続端子がチップ外周部に設けられているICチップを用いた場合でも、アンテナ形成工程が容易になるとともに、チップとアンテナとの接続をウエハー単位で行うことが可能となり、アンテナの接続工程を容易に速く行うことができる。
【0035】
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
(1)各実施形態において、異方性導電シートを用いてICチップとアンテナとの接続を行う例を示したが、これに限らず、例えば、異方性導電ペースト、絶縁ペースト、金ワイヤー等を用いて接続しても構わない。
【0036】
(2)各実施形態において、アンテナのサイズがICチップのサイズよりも小さく、ICチップ上にアンテナを形成する例を示したが、これに限らず、例えば、アンテナのサイズがICチップのサイズよりも大きくてもよい。
【0037】
(3)各実施形態において、非接触ICチップのアンテナ接続端子について、本発明を適用した例を示したが、これに限らず、例えば、接触端子も備えた、接触/非接触共用ICチップのアンテナ接続端子に本発明を適用してもよい。
【0038】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、本発明によれば、外周部アンテナ接続端子と、中央部アンテナ接続端子とを備えるので、アンテナを交差させることなく形成することができ、アンテナの接続をウエハー単位で簡単に行うことができる。
また、チップ上端子と中央部アンテナ接続端子とを電気的に接続する導電膜によって、アンテナ端子を再配線するので、アンテナ接続端子を外周部にのみ有するICチップであっても、アンテナを交差させることなく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】非接触ICチップ10を示す図である。
【図2】非接触ICモジュール40を示す図である。
【図3】非接触ICモジュール40を備える非接触ICカード50を示す図である。
【図4】非接触ICチップ20を示す図である。
【図5】アンテナ接続端子21Aの位置を再配置する過程を示す断面図である。
【図6】図5に示した工程を経て、得られた非接触ICチップ20を示す図である。
【図7】図6に示した非接触ICチップ20の上に、アンテナ30を形成した非接触ICモジュールを示す図である。
【図8】従来の非接触ICカードの概略を示す図である。
【図9】従来の非接触ICチップ110におけるアンテナ接続用端子111,112の配置例を示す図である。
【図10】従来技術において、非接触ICチップ110と同程度の小型のアンテナ130Bを用いる場合を示す図である。
【符号の説明】
10,20 非接触ICチップ
11 中央部アンテナ接続端子
12 外周部アンテナ接続端子
25 導電膜
30 アンテナ
40 非接触ICモジュール
50 非接触ICカード[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a manufacturing method of c Eha.
[0002]
[Prior art]
FIG. 8 is a diagram showing an outline of a conventional non-contact IC card.
The conventional non-contact IC card includes an antenna 130 of the same size as the card and a
The
[0003]
FIG. 9 is a diagram illustrating an arrangement example of the
The
Further, when the connection location is kept as far as possible in consideration of the connection with the antenna, the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, even if the conventional
[0005]
An object of the present invention, in a case of using a chip size and comparable antennas is to provide a method of manufacturing requires a rather Eha to cross the antenna.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The present invention solves the above problems by the following means. In addition, in order to make an understanding easy, although the code | symbol corresponding to embodiment of this invention is attached | subjected and demonstrated, it is not limited to this .
[0007]
The invention according to
[0008]
The invention of
[0009]
The invention of
[0010]
According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a wafer according to any one of the first to third aspects, the non-contact IC chip includes a contact terminal capable of contact communication. This is a wafer manufacturing method .
[0011]
The invention of
[0013]
According to a sixth aspect of the present invention, in the wafer manufacturing method according to any one of the first to fifth aspects, the antenna (30) is provided in one surface of the non-contact IC chip. It is a manufacturing method of the wafer characterized by the above-mentioned.
[0015]
According to a seventh aspect of the present invention, in the wafer manufacturing method according to any one of the first to fifth aspects, the non-contact IC chip (10) and the antenna (30) are anisotropically conductive. a method for producing a wafer, characterized in that for connecting with the sheet (33) or anisotropic conductive paste.
[0016]
The invention of claim 8 is a method of manufacturing a wafer according to any one of
[0017]
The invention of claim 9 is a method of manufacturing a wafer according to any one of
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a
The
The
[0020]
FIG. 2 is a diagram showing the
The
[0021]
The
The
[0022]
FIG. 3 is a view showing a
The
The center core sheet 51 is made of a material such as polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polypropylene (PP), and the like. A non-contact
[0023]
The
A laminated body of the center core sheet 51, the
[0024]
According to this embodiment, the
[0025]
(Second Embodiment)
FIG. 4 is a diagram showing the
The
The
[0026]
In the present embodiment, the antenna terminal corresponding to the central antenna connection terminal 11 of the
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a process of rearranging the position of the antenna connection terminal 21A.
[0027]
FIG. 5A is a cross-sectional view of the vicinity of the antenna connection terminal 21A of the
[0028]
FIG. 5B is a diagram showing a state in which the insulating
[0029]
FIG. 5C is a diagram showing a state in which the
[0030]
FIG. 5D is a view showing a state in which an insulating
[0031]
FIG. 5E is a diagram illustrating a state in which the bump conductive film 21B is formed on the
[0032]
FIG. 6 is a diagram showing the
[0033]
FIG. 7 is a diagram showing a non-contact IC module in which an
[0034]
According to the present embodiment, by forming the
[0035]
(Deformation)
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications and changes are possible, and these are also within the equivalent scope of the present invention.
(1) In each embodiment, although the example which connects an IC chip and an antenna using an anisotropic conductive sheet was shown, it is not restricted to this, For example, anisotropic conductive paste, insulating paste, gold wire, etc. You may connect using.
[0036]
(2) In each embodiment, the antenna size is smaller than the IC chip size and the antenna is formed on the IC chip. However, the present invention is not limited to this. For example, the antenna size is larger than the IC chip size. May be larger.
[0037]
(3) In each embodiment, the example in which the present invention is applied to the antenna connection terminal of the non-contact IC chip has been described. However, the present invention is not limited to this example. The present invention may be applied to the antenna connection terminal.
[0038]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, since the outer peripheral antenna connection terminal and the central antenna connection terminal are provided, the antenna can be formed without crossing the antenna, and the antenna connection can be easily performed on a wafer basis. Can be done.
In addition, since the antenna terminal is rewired by the conductive film that electrically connects the on-chip terminal and the central antenna connection terminal, even if the IC chip has the antenna connection terminal only at the outer peripheral portion, the antenna is crossed. It can form without.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a
FIG. 2 shows a
3 is a diagram showing a
4 is a view showing a
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a process of rearranging the position of the antenna connection terminal 21A.
6 is a view showing a
7 is a diagram showing a non-contact IC module in which an
FIG. 8 is a diagram showing an outline of a conventional non-contact IC card.
9 is a diagram illustrating an arrangement example of
FIG. 10 is a diagram showing a case where a small antenna 130B of the same level as the
[Explanation of symbols]
10, 20 Non-contact IC chip 11 Central antenna connection terminal 12 Outer periphery
Claims (9)
前記非接触ICチップは、
電磁波により外部と非接触で電力及び/又は情報の授受を行うICチップであり、
外周付近に設けられた外周部アンテナ接続端子と、
前記外周部アンテナ接続端子とは別の端子であって、外周付近に設けられたチップ上端子と、
中央部付近に設けられた中央部アンテナ接続端子と、
前記チップ上端子と前記中央部アンテナ接続端子とを電気的に接続する導電膜とを備え、
前記アンテナは、
アンテナシート上にコイル状に形成され、
前記コイル状の両端が、前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に対応する範囲に配置され、前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に電気的に接続され、
前記アンテナシートの外形が、前記非接触ICチップの外形と同程度、又は前記非接触ICチップの外形よりも小さいことを特徴とし、
このウエハー上に絶縁膜を形成し、その絶縁膜上に積層することにより、このウエハーに形成された前記非接触ICチップの前記チップ上端子と前記中央部アンテナ接続端子に対応する領域との間に前記導電膜を形成する導電膜形成工程と、
前記導電膜形成工程で形成した前記導電膜上に設けられ前記中央部アンテナ接続端子に対応する領域に孔部を有する絶縁膜を積層し、その孔部を介して前記導電膜に導通した前記中央部アンテナ接続端子を形成する中央部アンテナ接続端子形成工程と、
前記中央部アンテナ接続端子形成工程で前記中央部アンテナ接続端子が形成された前記非接触ICチップの前記外周部アンテナ接続端子及び前記中央部アンテナ接続端子に、前記アンテナの前記コイル状の両端を電気的に接続することにより、前記非接触ICチップ上に前記アンテナを形成し、ウエハーの段階で前記非接触ICモジュールを形成するアンテナ接続工程とを備えること、
を特徴とするウエハーの製造方法。 A method of manufacturing a wafer having a non-contact IC module including a non-contact IC chip and an antenna,
The non-contact IC chip is
It is an IC chip that exchanges power and / or information without contact with the outside by electromagnetic waves,
An outer peripheral antenna connection terminal provided near the outer periphery;
A terminal different from the outer peripheral antenna connection terminal, the on-chip terminal provided near the outer periphery,
A center antenna connection terminal provided near the center;
A conductive film that electrically connects the on-chip terminal and the central antenna connection terminal;
The antenna is
Formed in a coil shape on the antenna sheet,
Both ends of the coil shape are arranged in a range corresponding to the outer peripheral antenna connection terminal and the central antenna connection terminal, and are electrically connected to the outer peripheral antenna connection terminal and the central antenna connection terminal,
The outer shape of the antenna sheet is about the same as the outer shape of the non-contact IC chip, or smaller than the outer shape of the non-contact IC chip,
By forming an insulating film on the wafer and laminating on the insulating film, a space between the on-chip terminal of the non-contact IC chip formed on the wafer and a region corresponding to the central antenna connection terminal is formed. Forming a conductive film on the conductive film;
The center that is provided on the conductive film formed in the conductive film formation step and that has a hole in a region corresponding to the central antenna connection terminal is laminated, and the center that is electrically connected to the conductive film through the hole. A central antenna connection terminal forming step for forming a partial antenna connection terminal;
The coiled ends of the antenna are electrically connected to the outer peripheral antenna connection terminal and the central antenna connection terminal of the non-contact IC chip on which the central antenna connection terminal is formed in the central antenna connection terminal formation step. An antenna connection step of forming the antenna on the non-contact IC chip by connecting to each other and forming the non-contact IC module at a wafer stage,
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記導電膜は、メッキ法によって形成すること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer according to claim 1,
Forming the conductive film by a plating method;
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記導電膜は、スクリーン印刷法によって形成すること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer according to claim 1,
The conductive layer may be formed by screen printing,
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記非接触ICチップは、接触通信が可能な接触端子を備えていること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer of any one of Claim 1- Claim 3,
The non-contact IC chip includes a contact terminal capable of contact communication;
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記外周部アンテナ接続端子及び/又は前記中央部アンテナ接続端子は、小突起であるバンプが形成されていること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer according to any one of claims 1 to 4,
The outer peripheral antenna connection terminal and / or the central antenna connection terminal is formed with bumps that are small protrusions,
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記アンテナは、前記非接触ICチップの一つの面内に設けられていること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
The antenna is provided in one surface of the non-contact IC chip;
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記非接触ICチップと前記アンテナとは、異方性導電シート又は異方性導電ペーストを用いて接続すること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
Wherein the non-contact IC chip and the antenna, be connected using an anisotropic conductive sheet or an anisotropic conductive paste,
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記非接触ICチップと前記アンテナとは、導電性接着剤を用いて接続すること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
Wherein the non-contact IC chip and the antenna, be connected using a conductive adhesive,
A method for producing a wafer characterized by the above.
前記非接触ICチップと前記アンテナとは、絶縁性接着剤を用いて接続すること、
を特徴とするウエハーの製造方法。In the manufacturing method of the wafer given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
Wherein the non-contact IC chip and the antenna, connecting with the insulating adhesive,
A method for producing a wafer characterized by the above.
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