JP4619171B2 - 角度測定装置 - Google Patents

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Description

本発明は、角度測定装置に関する。
従来から知られている角度測定装置としてオートコリメーション法を利用してワークの傾角を検出するものがある。
その構成は、コリメータレンズにより平行光とされた投光素子からの光をハーフミラーを介してワークに照射し、このワークからの正反射光をハーフミラー及び集光レンズを介して撮像を有する撮像手段に照射するようになっている。そして、撮像面上の集光中心の位置に基づいてワークの傾角を測定するものである(特許文献1)。
この種の角度測定装置では、計測を誤差なく正確に行うためには、撮像面上における集光中心の位置を正確に特定することが必要であるため、撮像面上の全画素に関する受光量情報から集光中心を検出することとしている。
ところで、上記角度測定装置においては、2つのワークの傾角を同時に測定するいわゆる2面測定法が知られている。これは、2つのワークに同時に光を照射して、撮像面に各ワークの反射光をそれぞれ集光させる。そして、撮像面上の各集光位置に基づいて両ワークの傾角、或いは相対角度を算出するものである。この場合に、ワークで反射した各反射光の集光中心の算出方法としては、例えば、以下のような方法がある。
まず、撮像面5上において、各反射光の受光スポットを取り囲むように受光領域1、2をそれぞれ決定する。次に得られた各受光領域2、3内の全画素に基づいて各反射光の集光中心(受光スポットSの中心位置)C1、C2をそれぞれ算出する(図12参照)。
特開2001−304831公報
係る2面測定法は、例えば、両ワークの平行度の測定に使用されるが、この場合には、撮像面上に形成される両反射光の集光中心位置が近くなるため、撮像面上に形成される各反射光の受光スポット同士が互いに重なってしまう。すると、一方側の受光領域内に、他方側のワークで反射した反射光の受光スポットの一部が含まれてしまい、これが測定誤差の原因となる。
受光スポット同士が互いに重なるような場合であっても、誤差を最小限に留めることが可能な度測定装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するための手段として、請求項1の発明は、角度測定用投光手段からの平行光を被測定対象物に照射するとともに、前記被測定対象物からの正反射光(角度測定用正反射光)を複数の画素より構成された二次元の角度測定用撮像手段の撮像面に集光させ、前記撮像面上の集光位置に基づいて前記被測定対象物の傾角を測定する角度測定装置であって、二つの被測定対象物にそれぞれ前記平行光を照射して、これら各被測定対象からの反射光をそれぞれ前記撮像面上に集光させ、二つの集光位置に基づいて前記二つの被測定対象物の各傾角をそれぞれ決定する2面測定モードが設けられたものにおいて、前記撮像面上の各画素を対象として、縦方向、並びに横方向の各方向に関する受光量分布をそれぞれ決定する受光量分布決定手段と、前記受光量分布決定手段により決定された前記各方向の受光量分布に基づいて、受光量の極大点を各方向ごとにそれぞれ決定する極大点決定手段と、前記極大点決定手段により得られた極大点の受光量レベルより所定レベル下がったレベルで、極小点の受光量レベルよりも大きいレベルを閾値として設定する閾値設定を各方向の各極大点についてそれぞれ行う閾値設定手段と、前記閾値設定手段により設定された閾値と、同閾値設定の対象となった極大点近傍の各画素の受光量レベルとを比較して、各画素のレベルが閾値以上となる領域を各方向の極大点ごとにそれぞれ決定し、この閾値以上となる領域に基づいて前記被測定対象物でそれぞれ反射した二つの反射光の集光中心をそれぞれ含む二つの閉じた領域を決定する画素抽出領域決定手段と、前記画素抽出領域決定手段によって定められた各領域内にそれぞれ含まれる各画素の受光量レベルに基づいて前記反射光の集光中心の位置をそれぞれ決定する集光位置決定手段と、前記集光位置決定手段によって決定された前記二つの集光中心の位置に基づいて、前記二つの被測定対象物の傾角をそれぞれ決定する角度決定手段と、を備え、前記受光量分布決定手段が前記撮像面の縦方向或いは、横方向のいずれかの方向の各列について列内の全ての画素を対象として受光量レベルの比較を行って最大受光量を特定する投影処理を行うことで一方向の前記受光量分布を決定するとともに、前記受光量分布決定手段が、次の方向の投影処理を開始するまでの間に、先に行われた方向の投影処理より得られる受光量分布の極大点から、前記一方向について前記極大点を含む所定幅の投影範囲を各極大点ごとにそれぞれ決定する投影範囲決定手段を有し、前記受光量分布決定手段は、後に投影処理を行うときには、各列のうちの前記投影範囲決定手段によって決定された前記投影範囲内の画素のみを対象として受光量レベルの比較を行って最大受光量を特定することで他方向の前記受光量分布を決定するところに特徴を有する。
請求項の発明は、請求項に記載のものにおいて、前記集光位置決定手段は、前記画素抽出領域決定手段によって定められた各領域について、各領域内の画素を対象として受光の重心位置をそれぞれ算出し、これを前記集光中心の位置とするところに特徴を有する。
<請求項1の発明>
このような構成であれば、撮像面上に形成される受光スポットの一部が互いに重なるような場合であっても、限られた領域内の画素に基づいて受光スポットの集光中心を決定するから重複による誤差を最小限に留めることが可能となり、これにより、各測定対象物に関し正確な傾角の測定が可能となる。
また、このような方法で領域の決定を行えば、受光量のレベルの高い範囲に領域を限定できるから、受光量のレベルの低い範囲、すなわち受光スポットの重複範囲を効果的に排除できる。また、このような構成であれば、後に行う投影処理を各列の画素全てを対象とする場合に比べて投影処理に必要とされる処理時間を短縮できる。
<請求項の発明>
集光中心の位置を重心法により算出してやれば、各画素の受光分布を考慮(例えば、サブピクセル法など、最大受光量の画素の位置を集光中心とするものは受光分布を考慮することが出来ない)することが可能となり一層正確な測定が可能となる。
<実施形態1>
本実施形態の角度測定装置10は、被測定対象物としてのワークに光(検出光)を照射し、ワーク上で反射した反射光の集光位置に基づいて同ワークの傾角を測定するものである。そして、本実施形態の角度測定装置10には単面測定モード、2面測定モード(多面測定モード)の2つのモードが設けられており、測定に先立って、設定手段に設けられる操作部による切り替え操作によってモードの切り替えを行うことができるようになっている。尚、単面測定モードとは、被測定対象物が複数ある場合に、測定を時分割で個別に行うものである。一方、2面測定モードは、複数の測定対象物に同時に光を照射し、各被測定対象物の角度を同時に測定するものである。
<全体構成>
図1に示す符号11は検出光を出射する投光素子(本発明の角度測定用投光手段に相当)、符号12はコリメータレンズ、符号13はハーフミラー、符号14は収束レンズ、符号15は撮像素子(本発明の角度測定用撮像手段に相当)である。撮像素子15は複数の画素がマトリクス状に配されて2次元の撮像面15Aを備えてなる。以下の説明において、図2における横方向をX軸、縦方向をY軸とする座標系を撮像面15Aに設定するものとし、同撮像面15Aの中央を原点Oと規定する。また、符号16はメモリ、符号17は制御部、符号18は設定手段である。メモリ16には撮像素子15の撮像面15Aにおける1フレーム分の情報を記憶するための領域が確保されている。
尚、制御部17は、本発明における受光量分布決定手段、極大点決定手段、画素抽出領域決定手段、集光位置決定手段、角度決定手段、閾値設定手段として機能する。
制御部17から投光素子11に対して制御信号Sbが出力されると、投光素子11より検出光が出射される。出射された検出光はコリメータレンズ12により平行光に変換され、その後、ハーフミラー13によって図示下方に方向転換された後、ワークW2上に照射される。
照射された検出光のうちの一部はワークW2上で反射し、光路がハーフミラー13に向かうように方向転換される。一方、残りの検出光はワークW2を透過した後、ワークW1上で反射して光路がハーフミラー13に向かうように方向転換される。
両反射光はその後、ハーフミラー13を透過し、収束レンズ14によって収束されて撮像素子15の撮像面15A上に集光する。これにより、撮像面15A上にはワークW1からの反射光による受光スポットS1及びワークW2からの反射光による受光スポットS2がそれぞれ形成されることとなる(図2参照)。
本実施形態の構成は以上であり、続いて2面測定モードにおける傾角算出の一連の処理(図3に示す処理であって、記憶処理、X軸方向の受光量処理、Y軸方向の受光量処理、領域指定処理、受光スポットの集光中心検出処理及び傾角検出処理を順におこなう処理)について説明する。
<記憶処理>
撮像面15A上に各ワークW1、W2からの反射光が入光し、受光スポットS1、S2が形成されると、光の入光があった各画素(撮像素子)からは受光量に応じたレベルの撮像信号Saが信号線を通じて送信され、同撮像信号Saは一旦、メモリ16に記憶される。
<X軸方向の受光量処理>
処理が開始されると、ステップ21で制御部17によって投影処理が行われる。ここで行われる投影処理はまず、Y軸方向に延びる列(例えば、J1)についてラインデータの取得、すなわち同じ列J1内の各画素の受光量データをそれぞれメモリ16から読み出す処理を行い、その後、取得されたラインデータJ1中の最大受光量レベルの画素をサンプリングする。そして、このラインデータの読み出し、最大受光量レベルのサンプリング処理を、図5における左端の列J1から右端の列Jnまで順に行うものである。これにより、同図の(a)に示すように、X軸方向に関する受光量分布Bxが得られる。
X軸方向に関する受光量分布Bxが得られると、制御部17はダークカット処理を行って、ステップ22へ移行する。尚、ダークカット処理とは、撮像面15Aに対する外乱光の影響を排除するための処理であり、得られた受光量分布Bxの各構成点の受光量レベルと所定のカットレベルとを比較して、カットレベルより受光量レベルの小さい構成点については、以下の処理において受光量レベルがゼロとして取り扱うものである。
ステップ22では、ステップ21で得られたX軸方向の受光量分布Bxの推移(曲線の傾き)に基づいて受光量分布Bxに二つのピーク点(極大点)が現れているか、否かの判定を制御部17によって行う。
そして、ピーク点が2つ現れている場合には、ステップ23へ移行する。尚、極大点の個数について判定を行うのは、図9に示すように、2つの受光スポットがY軸方向に沿って上下に重なった場合を考慮するためである。
ステップ23では制御部17によって1つの目のピーク点P1のX軸方向の座標値Xp1が算出されるとともに、閾値L1が設定される。閾値の設定はピーク点P1の受光量レベルに対して所定比率(例えば、0.7)を乗ずることにより行われるが、その値は少なくとも、受光量分布Bxの極小点Pminの受光量レベルより大きいことが望ましく、所定比率を乗じた際に極小点Pminのレベルを下回る場合には、所定比率を変更して再度閾値L1の設定を行う。
かくして、閾値L1の設定が完了すると、次に、ステップ24に移行する。ステップ24では、閾値L1と受光量分布Bxを構成する各構成点の受光量レベルとの比較がなされる。ここで、受光量分布Bxの構成点のうち、比較の対象とされる構成点は、ピーク点P1の近傍のものであり、例えば、比較範囲はピーク点P1のX軸方向の座標値Xp1を中心として段階的に拡張され、これを、構成点の受光量レベルが閾値L1を下回るまで続ける。これにより、図5の(d)に示すように、ピーク点P1の近傍において、受光量レベルが閾値L1を上回る範囲(以下、X方向第一領域dx1)を決定することが出来る。かくして、X方向第一領域dx1が決定されると、ステップ25に移行する。
ステップ25においてはピーク点P2のX軸方向の座標値Xp2が算出されるとともに、ステップ23と同じ要領で、閾値L2が設定され(図5における(e)参照)、その後、ステップ26へ移行する。
ステップ26においては、ステップ24と同じ要領で、ピーク点P2の近傍において、受光量レベルが閾値L2を上回る範囲(以下、X方向第二領域dx2)が決定される。かくして、X方向第一領域dx1、X方向第二領域dx2が決定されると、Y軸方向の受光量処理に移行する。
尚、X方向第一領域dx1、X方向第二領域dx2が本発明の所定幅の範囲に相当するものであり、座標値Xp1、Xp2が本発明の各極大点をとる位置に相当するものである。
<Y軸方向の受光量処理>
次に、Y軸方向の受光量処理について、図6並びに図7を参照して説明する。
まず、ステップ41において、Y軸に平行でX座標がXp1であるラインQ1上の各画素の受光量データ(以下、受光ラインデータとする)をメモリ16から読み出す。これにより、図7の(a)に示す、Y軸方向に関する受光スポットS1の受光量分布By1が取得される。
ステップ43では、ステップ41で得られた受光スポットS1の受光量分布By1の推移に基づいてピーク点P1のY軸方向の座標値Yp1を算出するとともに、閾値の設定を行う。閾値の設定に関しては、受光スポットS1の受光量分布By1のピーク点P1に基づいて決定してもよいが、ここでは、改めて演算による閾値の設定を行うことはせず、先のステップ23において算出した閾値をそのまま使用する。これは、通常であれば、X軸方向に関する受光量分布Bxの各ピーク点と、Y軸方向に関する受光量分布By1、By2の各ピーク点は一致する筈であり、そのレベルは等しくなるためである。
ステップ44では、ステップ24と同じ要領で、閾値L1と受光スポットS1の受光量分布By1を構成する構成点の受光量レベルとの比較がなされる。ここで、受光スポットS1の受光量分布By1を構成する構成点のうち、比較の対象とされる構成点は、ピーク点P1の近傍のものであり、例えば、比較範囲はピーク点P1のY軸方向の座標値Yp1を中心として段階的に拡張され、これを、構成点の受光量レベルが閾値L1を下回るまで続ける。これにより、図7の(b)に示すように、ピーク点P1の近傍において、受光量レベルが閾値L1を上回る範囲(以下、Y方向第一領域dy1)を決定することが出来る。かくして、Y方向第一領域dy1が決定されると、ステップ45に移行する。
ステップ45では、ステップ41と同じ要領で、Y軸に平行でX座標がXp2であるラインQ2上の各画素の受光量データ(以下、受光ラインデータとする)をメモリ16から読み出す。これにより、図7の(c)に示す、Y軸方向に関する受光スポットS2の受光量分布By2が取得される。
ステップ46では、ステップ43と同じ要領で、受光スポットS2の受光量分布By2の推移に基づいてピーク点P2のY軸方向の座標値Yp2を算出するとともに、閾値の設定を行う。ここでは、閾値はステップ25で算出した閾値をそのまま使用し、L2に設定される。
次に、ステップ47では、ステップ44と同じ要領で、ピーク点P2の近傍において、受光量レベルが閾値L2を上回る範囲(以下、Y方向第二領域dy2)が決定される。かくして、Y方向第一領域dy1、Y方向第二領域dy2が決定されると、Y軸方向の受光量処理は完了し、領域指定処理に移行する。
尚、Y方向第一領域dy1、Y方向第二領域dy2が本発明の所定幅の範囲に相当するものであり、座標値Yp1、Yp2が本発明の各極大点をとる位置に相当するものである。
<領域指定処理>
領域指定処理は、撮像面15A上の領域を第一の指定領域(受光スポットS1の集光中心を取り囲む領域であって、かつ受光量レベルが高い画素群よりなる領域)♯1と、第二の指定領域(受光スポットS2の集光中心を取り囲む領域であって、かつ受光量レベルが高い画素群よりなる領域)♯2と、それ以外の受光量レベルが低い領域に分けるものであり、具体的には図8に示すように、第一の指定領域♯1であれば、ステップ24で算出されたX方向第一領域dx1を一辺とし、ステップ44で算出されたY方向第一領域dy1をもう1辺とする長方形領域とされる。一方、第二の指定領域♯2は、ステップ26で算出されたX方向第二領域dx2を一辺とし、ステップ47で算出されたY方向第二領域dy2をもう一辺とする長方形領域とされる。
尚、この第一の指定領域♯1と、第二の指定領域♯2との両領域が、本発明の二つの閉じた領域に相当する。
<受光スポットの集光中心検出処理>
かくして、第一の指定領域♯1、第二の指定領域♯2がそれぞれ決定されると、各指定領域♯1、♯2ごとに、以下の演算式に従って、受光スポットS1、S2の集光中心C1、C2の位置が算出され、その後、傾角検出処理に移行する。
体積重心位置(集光中心の位置)={Σ(mI)/Σm}
I:各指定領域内における、各画素の位置ベクトル
m:各指定領域内の各画素の受光量レベルに応じた係数
<傾角検出処理>
傾角検出処理は周知のオートコリメーション法に基づいて行われる。すなわち、各受光スポットS1、S2の集光中心C1、C2の位置と、撮像面15Aにおける基準位置(例えば、撮像面の中央位置)との位置関係に基づいて傾きの方向並びに傾き角をそれぞれ算出する。これにより、ワークW1の傾角、ワークW2の傾角をそれぞれ個別に算出することが出来る。
また、上記算出処理に続いて、今度は、2つの受光スポットS1、S2の集光中心C1、C2のうち一方の集光中心(例えば、C1)を基準とし、これに対する他方の集光中心C2との位置関係を算出する。これにより両集光中心の位置関係から、ワークW1に対するワークW2の傾き(平行度)を算出することが出来る。
次に、ステップ50に移行した場合、すなわち2つの受光スポットがY軸方向に沿って上下に重なった場合について説明する。先に説明した投影処理ではX軸方向に関する受光量分布Bxを先に算出し、その後、Y軸方向の受光量分布By1、By2を取得したが、受光スポットがY軸方向に重なっている場合には、先にY軸方向に関する受光量分布を取得してY軸方向の領域を決定(ステップ51、52)する。そして、Y軸方向に関する処理の完了に続いて、X軸方向の受光量分布を取得してX軸方向の領域をそれぞれ決定してやればよい。そして、X軸方向、Y軸方向について領域が決定されたら、今度は、先に説明した領域指定処理を行い、これに続いて受光スポットの集光中心検出処理、ひいては傾角検出処理を行ってやれることで、ワークW1、W2の各傾角並びに相対角度を算出することが出来る。
本実施形態によれば、制御部17によって撮像面15A上の領域を、集光中心を取り囲み、受光量レベルが高い領域(指定領域♯1、♯2)と、それ以外の受光量レベルが低い領域とに分けておき、指定領域♯1内の画素のみに基づいて受光スポットS1の集光中心C1を決定し、指定領域♯2の画素のみに基づいて受光スポットS2の集光中心C2の位置を決定するようにしている。従って、受光スポットS1、S2の集光中心C1、C2から比較的遠く受光レベルが低い部分、すなわち受光スポットS1、S2が互いに重なる部分を集光中心の算出の対象から排除できることとなり、受光スポットS1、S2の重複による測定誤差を最小限に留めることが可能となる。
また、X方向第一、第二領域dx1、dx2、Y方向第一、第二領域dy1、dy2の算出は、閾値L1、L2と受光量分布Bx、Byを構成する各構成点の受光レベルを比較することでなされるが、閾値L1はピーク点P1の受光量レベルに基づいて決定され、閾値L2はピーク点P2の受光量レベルに基づいて決定されている。閾値L1、L2の設定には、例えば、予め固定的な値として設定しておく方法があるが、撮像面15Aに入光する光の強さは例えば、ワークW1、W2の種類(例えば、材質が異なると、反射率が変わる)によって種々変化する。従って、場合によっては、閾値L1、L2がピーク点P1、P2の受光量レベルに近くなり過ぎる。すると、指定領域♯1、♯2の範囲が極端に狭くなってしまうから、重心の算出に少なくとも必要とされる数の画素が得られず、結果として測定精度の低下を招く恐れがある。しかし、本実施形態のように、ピーク点P1、P2のレベルに応じて閾値L1、L2を決定してやれば、指定領域♯1、♯2の範囲を常に一定面積以上確保することが出来、係る測定精度の低下を未然に回避することが可能となる。
また、Y軸方向の受光量分布を取得する方法には、X軸方向の受光量分布Bxを取得するの同様に、各列R1、R2、・・、Rnごとにそれぞれラインデータを取得し、各ラインデータ中の最大受光量の画素を抽出する方法もあるが、本実施形態では、ラインQ1、Q2上のラインデータを読み出して、これをY軸方向の受光量分布By1、By2として使用している。そのため、データの読み出し回数が少なくて済むからY軸方向の受光量分布By1、By2を取得するのに必要な処理時間が短縮できる。
また、本実施形態では、X軸方向、Y軸方向についてそれぞれ受光量処理を行っており、その際に、ピーク点の座標値をそれぞれ算出している。そのため、これらピーク点の座標値(Xp1、Yp1)、(Xp2、Yp2)を集光中心の座標値とすることも理論的には可能(いわゆるサブピクセル法)であるが、本実施形態では、敢えて、重心法により集光中心の位置を算出している。これは、集光中心の位置をより正確に特定するためであり、例えば、先のサブピクセル法では実質的に極大点のみに基づいて集光中心を決定するから受光量の分布を一切考慮しないことになるが、重心法であれば受光量の分布を加味した上で中心位置を算出することとなるからである。
また、上記では、受光スポットS1、S2の集光中心C1、C2の位置を、体積重心法により算出したが、面積重心法により算出することが可能である。尚、面積重心位置の算出は、以下の演算式に従って算出することが出来る。
[面積重心位置の重心算出式]
面積重心位置={Σ(MI)/ΣM}
I:各指定領域内における、各画素の位置ベクトル
M:上記各画素の受光量レベルが所定レベル以上であるときには例えば1、そうでないときには0
また、上記では、Y軸方向の受光量分布の取得方法に関し、ラインQ1に関する受光ラインデータ、或いはラインQ2に関する受光ラインデータをそのまま、Y軸方向に関する受光スポットS1、S2の受光量分布としたが、次に説明するように、投影範囲F1、F2を設定し、この投影範囲F1、F2内の画素を対象として投影処理を行うことで受光スポットS1、S2の受光量分布を算出することが可能である。具体的には、受光スポットS1についての受光量分布であれば、まず、制御部(本発明の投影範囲決定手段に相当する)17によりラインQ1中心として所定幅の投影範囲F1を決定しておく。そして、投影範囲F1が決定されたら今度は、X軸方向に延びる各列R1、R2、・・・、Rnについて領域F1内の画素を対象として最大受光量レベルを特定してやればよく、これにより、図11に示すような受光量分布By1を得ることが出来る。
そして、受光スポットS1についての受光量分布By1が取得されたら、今度は受光スポットS2についての受光量分布を同じ要領で算出してやればよい。
このような構成であれば、後に行う投影処理の対象を撮像面15A上の全ての画素とする場合に比べて、処理時間を短く出来る。加えて、受光ラインデータをそのまま受光量分布By1、By2とする実施形態1の構成の場合に比べて、ラインデータに加えて、同ラインデータ近傍の比較的受光量レベルが高い画素の受光量データを加味した上で受光量分布By1、By2を算出することとなるから、より信頼性の高い受光量分布By1、By2が取得されることが期待できる。
<実施形態
次に、本発明の実施形態について図12を参照して説明する。
このものは、角度測定装置10を、DVD等のディスク100を回転させる回転機構110と読み取り機構120の相対的な位置関係が正規状態にあるか、否か、より具体的に言えば、回転機構110の基準軸L1と、読み取り機構120の基準軸L2のなす角度が直交した状態にあるか、否かを検査する検査装置に適用したものである。
図12における100はDVD等のディスク、110は回転機構である。回転機構110はディスク100を支持するための支持軸111、ディスク100を回転させるためのスピンドルモータ115からなる。
一方、120は読み取り機構である。読み取り機構120はディスク100に光を照射して、その反射光に基づいてディスク100に書き込まれた情報の読み取りを行う読取部121と、これをディスク100の径方向に沿って進退させるスライド部120からなる。
そして、角度測定装置10を構成する光学系は、図12において、ディスク100の上方にあって、投光素子11から出射されコリメータレンズ12で平行光に変換された光は、ハーフミラー13で図示下方に向きを変えられた後、ディスク100並びに読取部121上に照射される。このときに、回転機構110側の基準軸L1と読み取り機構側の基準軸L2とが直交していれば、ディスク100の上面と読み取り部121の上面とは互いに平行な状態となるはずであるから、両面でそれぞれ反射した光は収束レンズ14を通過した後に、同じ位置で結像する。これにより、撮像面15A上には一の受光スポットが形成される。
これに対して、両基準軸L1、L2のなす角度が90度からずれている場合には、撮像面15A上には、二つの受光スポットが形成される。そのため、撮像面15A上に形成される受光スポットを監視することで、回転機構110と読み取り機構120の相対的な位置関係が正規状態にあるか、否かを検査することが出来る。
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
(1)実施形態1〜実施形態では、受光スポットの集光中心の位置の算出をいずれも重心法に基づいて算出したが、算出方法がこれに限られるものではなく、例えば、階層平均法によるものであってもよい。
(2)実施形態1〜実施形態では、ワークが2つの場合を例示したが、ワークの数は2以上であってもよく、この場合には、ワーク数が増加する分だけ、指定領域の数を増加させてやればよい。
実施形態1に係る角度測定装置の光学的構成、電気的構成を示す概念的に示した図 撮像面上に二つの受光スポットが形成された状態を示す図 角度検出処理過程を示すフローチャート図 X軸方向の受光量処理過程を示すフローチャート図 X軸方向の受光量分布を示す図 Y軸方向の受光量処理過程を示すフローチャート図 Y軸方向の受光量分布を示す図 指定領域を示す図 受光スポットがY軸方向に並んでいる状態を示す図 受光スポットがY軸方向に並んでいる場合の処理過程を示すフローチャート図 投影領域を設定を現す図 実施形態に係る角度測定装置の光学的構成、電気的構成を示す概念的に示した図 従来例を示す図
符号の説明
10…角度測定装置
11…投光素子(角度測定用投光手段)
15…撮像素子(角度測定用撮像手段)
15A…撮像面
17…制御部(受光量分布決定手段、極大点決定手段、画素抽出領域決定手段、集光位置決定手段、角度決定手段)
W1、W2…ワーク(被測定対象物)

Claims (2)

  1. 角度測定用投光手段からの平行光を被測定対象物に照射するとともに、前記被測定対象物からの正反射光(角度測定用正反射光)を複数の画素より構成された二次元の角度測定用撮像手段の撮像面に集光させ、前記撮像面上の集光位置に基づいて前記被測定対象物の傾角を測定する角度測定装置であって、
    二つの被測定対象物にそれぞれ前記平行光を照射して、これら各被測定対象からの反射光をそれぞれ前記撮像面上に集光させ、二つの集光位置に基づいて前記二つの被測定対象物の各傾角をそれぞれ決定する2面測定モードが設けられたものにおいて、
    前記撮像面上の各画素を対象として、縦方向、並びに横方向の各方向に関する受光量分布をそれぞれ決定する受光量分布決定手段と、
    前記受光量分布決定手段により決定された前記各方向の受光量分布に基づいて、受光量の極大点を各方向ごとにそれぞれ決定する極大点決定手段と、
    前記極大点決定手段により得られた極大点の受光量レベルより所定レベル下がったレベルで、極小点の受光量レベルよりも大きいレベルを閾値として設定する閾値設定を各方向の各極大点についてそれぞれ行う閾値設定手段と、
    前記閾値設定手段により設定された閾値と、同閾値設定の対象となった極大点近傍の各画素の受光量レベルとを比較して、各画素のレベルが閾値以上となる領域を各方向の極大点ごとにそれぞれ決定し、この閾値以上となる領域に基づいて前記被測定対象物でそれぞれ反射した二つの反射光の集光中心をそれぞれ含む二つの閉じた領域を決定する画素抽出領域決定手段と、
    前記画素抽出領域決定手段によって定められた各領域内にそれぞれ含まれる各画素の受光量レベルに基づいて前記反射光の集光中心の位置をそれぞれ決定する集光位置決定手段と、
    前記集光位置決定手段によって決定された前記二つの集光中心の位置に基づいて、前記二つの被測定対象物の傾角をそれぞれ決定する角度決定手段と、を備え
    前記受光量分布決定手段が前記撮像面の縦方向或いは、横方向のいずれかの方向の各列について列内の全ての画素を対象として受光量レベルの比較を行って最大受光量を特定する投影処理を行うことで一方向の前記受光量分布を決定するとともに、
    前記受光量分布決定手段が、次の方向の投影処理を開始するまでの間に、先に行われた方向の投影処理より得られる受光量分布の極大点から、前記一方向について前記極大点を含む所定幅の投影範囲を各極大点ごとにそれぞれ決定する投影範囲決定手段を有し、
    前記受光量分布決定手段は、後に投影処理を行うときには、各列のうちの前記投影範囲決定手段によって決定された前記投影範囲内の画素のみを対象として受光量レベルの比較を行って最大受光量を特定することで他方向の前記受光量分布を決定することを特徴とする角度測定装置。
  2. 前記集光位置決定手段は、前記画素抽出領域決定手段によって定められた各領域について、各領域内の画素を対象として受光の重心位置をそれぞれ算出し、これを前記集光中心の位置とすることを特徴とする請求項1に記載の角度測定装置。
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